JPS62228951A - 自動化学分析装置の反応セル洗浄装置 - Google Patents

自動化学分析装置の反応セル洗浄装置

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JPS62228951A
JPS62228951A JP7080286A JP7080286A JPS62228951A JP S62228951 A JPS62228951 A JP S62228951A JP 7080286 A JP7080286 A JP 7080286A JP 7080286 A JP7080286 A JP 7080286A JP S62228951 A JPS62228951 A JP S62228951A
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JP
Japan
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reaction
cleaning liquid
reaction cell
cleaning
nozzle
Prior art date
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Pending
Application number
JP7080286A
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English (en)
Inventor
Itsuro Sasao
笹尾 逸郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS62228951A publication Critical patent/JPS62228951A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は自動化学分析装置の反応セル洗浄装置に関する
(従来の技術) 一般に自動化学分析装置は、反応セルを円環状に配置す
る反応ディスクと、該反応ディスクに配置された反応セ
ルに挿入され該反応セル内に洗浄液を噴出して該反応セ
ルを洗浄する洗浄ノズルと、反応セル内の排液を排出す
る排出ノズルとを備えている。
従来の洗浄ノズルは第3図に示すように、洗浄液として
純水を噴出する洗浄液供給ノズル2と、排出ノズル3と
が同心円上に形成された二重管と成っており、排出ノズ
ル3の先端が、反応ディスク5に配置した反応セル1の
底部近くに位置するように反応セルに挿入して、供給ノ
ズル2からの純水の噴出と排出ノズル3からの排水とを
同時に行ない、洗浄液のオバーフローを防止しつつ反応
セル内を洗浄するようになっていた。
(発明が解決しようとする問題点) ところが以上のような洗浄ノズルは、供給ノズル2の供
給口2aが反応セル1の中間レベルにあるため、洗浄前
の反応液面が供給口2aよりも上にあった場合には、そ
の部分Cに付着した反応液を洗い落ずことができず、ク
ロスコンタミネーションにより次の反応に悪影響を及ぼ
すという問題があった。この問題を解決するには、ある
時点まで排水ノズル3を作動させないでおいて洗浄液を
反応セル1からオーバーフローさせることにより前記付
着した反応液Cを洗い流ずことも考えられるが、それで
もやはり供給口2aが反応セルの中間レベルにあると反
応セル内における洗浄液の流れが悪く、付着した反応液
を効率よく洗い流すことは出来ない。
本発明の目的は以上のような従来の問題点を解決し、反
応セル内を隈なく且つ効率よく洗浄することの出来る反
応セル洗浄装置を提供することにある。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため本発明洗浄ノズルは、洗浄液供
給ノズルの先端を前記排出ノズルと共に反応セルの底部
近くに配置し、かつ、前記法)多液供給ノズル先端より
噴出する洗浄液が、前記反応セルの開口端よりオーバー
フローするように洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設
けた構成とした。
(作用) 本発明は上記の構成としたので、次のように作用する。
即ち、洗浄液供給ノズルの先端が反応セルの底部近くに
あるので、洗浄液供給手段によって洗浄液供給ノズルの
先端から洗浄液を噴出してこれを反応セルからオーバー
フローせしめると、洗浄液は反応セルの底部から上方に
向って流れるので反応セル内に付着して反応液を隈なく
且つ効率良く洗い流すことができる。
(実施例) 以下図示の実施例について説明する。
第1図は本発明洗浄装置を備えた自動化学分析装置の要
部を示す断面図であり、第2図はその部分拡大図である
6は、多数の反応セル1が平面視(図示せず)で円環状
に配置されている反応ディスクであり、・ その反応セ
ルの配置位置よりも内側において上方に隆起する段部7
が形成されている。そして、反応セル1は反応ディスク
6で搬送される過程においてサンプルと試薬とが分注さ
れ、その反応結果が測定された後洗浄されて、再び上記
動作を繰り返すようになっている。尚、8は反応ディス
ク6のシャフト、9は恒温槽、Aは反応液である。
10は本発明洗浄装置を構成する洗浄ノズルであり、洗
浄液として純水を反応セル1内に供給する洗浄液供給ノ
ズル11と、反応セル1内から洗浄液を排出する排水ノ
ズル12とを並列的に接合して成る。洗浄液供給ノズル
11と排水ノズル12は、夫々図示しない純水供給ポン
プ(洗浄液供給手段)と排水ポンプに接続されていて、
洗浄ノズル10を反応セル1内に挿入した際、図示のよ
うにいずれもその先端が反応セル1の底部近くに位置す
るようになっている。
20は、前記反応ディスク6の外周縁の下方に設けた平
面視で環状の樋(排水路)であり、排水パイプ21を備
えている。
以上のにうな洗浄装置は所定の位置に来た反応セル1に
洗浄ノズル10を挿入し、先ず洗浄液供給ノズル11か
ら反応セル1内に洗浄液を噴出jノてこれをオーバーフ
ローせしめると、第2図矢印に示すように洗浄液が反応
セルの底部から開口部に向って隈なく且つ効率良く洗い
流すことが出来る。一方、反応セル1からオーバーフロ
ーした洗浄液は反応ディスク6の段部7で妨げられてデ
ィスクの中心方向に流れることなくディスクの回転によ
る遠心力でディスク外方に流され、樋20で受けられて
排出パイプ21を通じて所定の場所に排出されることと
なる。そして上記オーバーフローを所定時間行ったなら
ば、洗浄液供給ノズル11からの洗浄液噴出を停止し、
排水ノズル12で反応セル1内の洗浄液を排出し、洗浄
作業を終了する。
従って、本実施例の洗浄装置は、次のような作用効果を
奏する。即ち、 (a)洗浄液を反応セル1の底部から開口部に向けて隈
なく流すことにより、反応セル内に付着した反応液を隈
なく且つ効率良く洗浄することができる。
(b)洗浄用ノズル10は、洗浄液供給ノズル11と排
水ノズル12とを並列的に接合して構成しであるので、
従来のような二重管に比べてコストダウンを図ることが
できる。
(C)反応ディスク6には段部を設けると共にディスク
外周下方にta20を設けているので、洗ひ液が散乱し
て周辺を汚すことがない。
以上本発明の一実施例について説明したが、本発明は上
記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範
囲内において適宜変形実施可能であることは言うまでも
ない。
例えばディスクの段部及び樋は必ずしも設けなくてもよ
い。
[発明の効果〕 以上詳述したように本発明によれば、洗浄液供給ノズル
の先端が反応セルの底部近くにあるので洗浄液供給ノズ
ルの先端から洗浄液を噴出してこれを反応セルの底部か
ら上方に向って流れるので反応セル内に付着した反応液
を隈まく且つ効率良く洗い流すことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明洗浄装置を備えた自動化学分析装置の要
部を示す断面図、第2図はその部分拡大図、第3図は従
来洗浄装置説明図である。 1・・・反応セル、6・・・反応ディスク、11・・・
洗浄液供給ノズル、12・・・排出ノズル。 20・・・排水路。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)反応セルを円環状に配置する反応ディスクと、該
    反応ディスクに配置された反応セルに挿入され該反応セ
    ル内に洗浄液を噴出して該反応セルを洗浄する洗浄液供
    給ノズルと、前記反応セル内の排液を排出する排出ノズ
    ルとを備えた自動化学分析装置の反応セル洗浄装置に於
    て、前記洗浄液供給ノズルの先端を前記排出ノズルと共
    に反応セルの底部近くに配置し、かつ、前記洗浄液供給
    ノズル先端より噴出する洗浄液が、前記反応セルの開口
    端よりオーバーフローするように洗浄液を供給する洗浄
    液供給手段を設けたことを特徴とする自動化学分析装置
    の反応セル洗浄装置。
  2. (2)洗浄液供給ノズルと排出ノズルとは、両ノズルの
    外周面の一部を接合して並列的に形成した特許請求の範
    囲第1項記載の自動化学分析装置の反応セル洗浄装置。
  3. (3)前記反応ディスクは、反応セルを円環状に配置し
    たその配置位置よりも内側に於て上方に隆起する段部を
    具備した特許請求の範囲第1項記載の自動化学分析装置
    の反応セル洗浄装置。
  4. (4)反応ディスク上にオーバーフローし、この反応デ
    ィスクの回転に伴う遠心力により外縁より飛散される洗
    浄液を受け入れて案内する排水路を、前記反応ディスク
    の外縁部に形成した特許請求の範囲第1項乃至第3項の
    いずれかに記載の自動化学分析装置における反応セル洗
    浄装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6474389A (en) * 1987-09-11 1989-03-20 Shimomura Tokushu Seiko Kk Oil separating device for excessive oil applied on rod member
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