JPS6222891A - 炭化水素の分解方法 - Google Patents
炭化水素の分解方法Info
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- JPS6222891A JPS6222891A JP16127985A JP16127985A JPS6222891A JP S6222891 A JPS6222891 A JP S6222891A JP 16127985 A JP16127985 A JP 16127985A JP 16127985 A JP16127985 A JP 16127985A JP S6222891 A JPS6222891 A JP S6222891A
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- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術上の利用分野〕
本発明は炭素数5ないし10の炭化水素を接触的に反応
させてこれよりも炭素数の少ないパラフィンおよび/又
はオレフィンからなる低級脂肪族炭化水素を製造する方
法に関する。
させてこれよりも炭素数の少ないパラフィンおよび/又
はオレフィンからなる低級脂肪族炭化水素を製造する方
法に関する。
ナフサ等に代表される石油系炭化水素化合物を原料とし
て、工業的に有用な炭素数3ないし4の留分を高収率で
得ようとする試みは、古くから多くの研究がなされてい
るが、工業的製造法としては、熱分解法のみが、採用さ
れており、炭素数2ないじ3の留分の収率が最大となる
条件下に運転されている。一方、炭化水素を接触的に分
解して、これよりも炭素数の少ないパラフィンおよび/
又はオレフィンを製造する既知の方法としては、例えば
、触媒として、シリカ・アルミナ系酸化物や、ゼオライ
トなどを用いて行う方法が、°°石油精製プロセス”石
油学会編、P59.(1978)、インダストリアル・
アンド・エンジニアリング書ケミストリー(Indus
trial & EngineeringChemis
try ) 39. (8)、 1032(1947)
等に記載されている。しかし、該方法では、一般に50
0〜600℃以上の、高温を必要とし、このため炭素数
1ないし2の炭化水素の生成量が多く、本発明の主目的
とする炭素数3ないし4の炭化水素の選択性が低く、又
、触媒の活性低下が激しいという欠点がある。
て、工業的に有用な炭素数3ないし4の留分を高収率で
得ようとする試みは、古くから多くの研究がなされてい
るが、工業的製造法としては、熱分解法のみが、採用さ
れており、炭素数2ないじ3の留分の収率が最大となる
条件下に運転されている。一方、炭化水素を接触的に分
解して、これよりも炭素数の少ないパラフィンおよび/
又はオレフィンを製造する既知の方法としては、例えば
、触媒として、シリカ・アルミナ系酸化物や、ゼオライ
トなどを用いて行う方法が、°°石油精製プロセス”石
油学会編、P59.(1978)、インダストリアル・
アンド・エンジニアリング書ケミストリー(Indus
trial & EngineeringChemis
try ) 39. (8)、 1032(1947)
等に記載されている。しかし、該方法では、一般に50
0〜600℃以上の、高温を必要とし、このため炭素数
1ないし2の炭化水素の生成量が多く、本発明の主目的
とする炭素数3ないし4の炭化水素の選択性が低く、又
、触媒の活性低下が激しいという欠点がある。
また別法としてシリカ・アルミナ、アルミナ、H−モル
デナイトを例えばCClF3 等のフッ素含有化合物で
処理して得られる触媒を用いて、 n −ブタン、n
−ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサンを原料として
反応温度0℃又は25℃で反応させてこれらパラフィン
の骨格異性体(イソ体)および出発原料よりも炭素数の
少ないイソパラフィンを得る方法が昭和57年度触媒研
究発表会3G205,114頁、1982年に記載され
ている。
デナイトを例えばCClF3 等のフッ素含有化合物で
処理して得られる触媒を用いて、 n −ブタン、n
−ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサンを原料として
反応温度0℃又は25℃で反応させてこれらパラフィン
の骨格異性体(イソ体)および出発原料よりも炭素数の
少ないイソパラフィンを得る方法が昭和57年度触媒研
究発表会3G205,114頁、1982年に記載され
ている。
しかし該方法では反応の生成物は炭素数が出発の原料と
同じ骨格異性体が主生成物であって、本発明の主目的と
する炭素数3ないし4の炭化水素の生成量は低い。
同じ骨格異性体が主生成物であって、本発明の主目的と
する炭素数3ないし4の炭化水素の生成量は低い。
本発明者等は炭素数が5ないし10のパラフィン又は該
パラフィンを主成分として含有する炭化水素を接触的に
分解してこれよシも炭素数の少ない炭素数3ないし4の
低級パラフィンおよび/又は低級オレフィンからなる低
級脂肪族炭化水素を製造するに当たって、この分野の従
来技術が前記状況にあることを認知した上で、従来に比
べて目的とする反応生成物の該低級脂肪族炭化水素を高
い選択率で収率良く得る方法について検討した。
パラフィンを主成分として含有する炭化水素を接触的に
分解してこれよシも炭素数の少ない炭素数3ないし4の
低級パラフィンおよび/又は低級オレフィンからなる低
級脂肪族炭化水素を製造するに当たって、この分野の従
来技術が前記状況にあることを認知した上で、従来に比
べて目的とする反応生成物の該低級脂肪族炭化水素を高
い選択率で収率良く得る方法について検討した。
r問題点を解決するための手段〕
その結果、下記方法を採用すれば前記目的を達成できる
ことを見出し、本発明を完成するに到った。すなわち、
本発明の方法によれば、炭素数が5ないし10のパラフ
ィン又は該パラフィンを主成分として含有する炭化水素
〔これらを炭化水素Ta)と呼ぶ〕を反応させて炭素数
が3ないし4のパラフィンおよび/又はオレフィンを主
成分とする低級脂肪族炭化水素師)を製造するに当たり
、触媒として金属酸化物あるいは複合金属酸化物をフッ
素含有化合物で処理した触媒を使用し、該反応を250
ないし580℃の範囲の温度で行うことを特徴とする炭
化水素(alの分触方法、が提供される。
ことを見出し、本発明を完成するに到った。すなわち、
本発明の方法によれば、炭素数が5ないし10のパラフ
ィン又は該パラフィンを主成分として含有する炭化水素
〔これらを炭化水素Ta)と呼ぶ〕を反応させて炭素数
が3ないし4のパラフィンおよび/又はオレフィンを主
成分とする低級脂肪族炭化水素師)を製造するに当たり
、触媒として金属酸化物あるいは複合金属酸化物をフッ
素含有化合物で処理した触媒を使用し、該反応を250
ないし580℃の範囲の温度で行うことを特徴とする炭
化水素(alの分触方法、が提供される。
本発明の接触反応において原料として用いられる炭化水
素(alは、炭素数が5ないし10のパラフィン又は該
パラフィンを主成分として含有する炭化水素である。該
パラフィンとして具体的には、n−ペンタン、2−メチ
ルブタン、n−ヘキサン。
素(alは、炭素数が5ないし10のパラフィン又は該
パラフィンを主成分として含有する炭化水素である。該
パラフィンとして具体的には、n−ペンタン、2−メチ
ルブタン、n−ヘキサン。
6−メチルペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3
−ジメチルブタン、n−へブタン、2−メチルヘキサン
、3−メチルヘキサン、3−エチルペンタン、2.2−
ジメチルペンタン、2.3−ジメチルペンタン、2.4
−ジメチルペンタン、2,2.3−)リメチルブタン、
n−オクタン、3−エチルヘキサン。
−ジメチルブタン、n−へブタン、2−メチルヘキサン
、3−メチルヘキサン、3−エチルペンタン、2.2−
ジメチルペンタン、2.3−ジメチルペンタン、2.4
−ジメチルペンタン、2,2.3−)リメチルブタン、
n−オクタン、3−エチルヘキサン。
2.5−ジメチルヘキサン、ノナン、デカン等のパラフ
ィンを例示できるが、この中ではn−ヘキサン。
ィンを例示できるが、この中ではn−ヘキサン。
3−メチルペタン、2,3−ジメチルブタン、n−へブ
タン、2−メチルヘキサン、6−メチルヘキサン、3−
エチルペンタン、2.2−ジメチルペンタン、2.3−
ジメチルペンタン、2.4−ジメチルペンタンに本発明
の方法を適用することが好ましい。
タン、2−メチルヘキサン、6−メチルヘキサン、3−
エチルペンタン、2.2−ジメチルペンタン、2.3−
ジメチルペンタン、2.4−ジメチルペンタンに本発明
の方法を適用することが好ましい。
本発明では前記パラフィンを単独あるいは2種以上混合
して後述する本発明の触媒の存在下に接触的に分解する
ことができるだけでなく、該パラフィン以外に例えばシ
クロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼン、デカリン、
テトラリン、ヘキセン、オクテンなどのアロマティック
成分、ナフテン成分およびオレフィン成分等の他の炭化
水素を含み、炭素数5ないし10のパラフィンの含有量
が通常30重量係以上である炭化水素混合物も原料とし
て使用することができる。本発明では該炭化水素混合物
原料として、原油の蒸留分離や接触分解等によって得ら
れる沸点範囲が通常30ないし130℃の範囲にある軽
質ナフサ等を例示できる。
して後述する本発明の触媒の存在下に接触的に分解する
ことができるだけでなく、該パラフィン以外に例えばシ
クロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼン、デカリン、
テトラリン、ヘキセン、オクテンなどのアロマティック
成分、ナフテン成分およびオレフィン成分等の他の炭化
水素を含み、炭素数5ないし10のパラフィンの含有量
が通常30重量係以上である炭化水素混合物も原料とし
て使用することができる。本発明では該炭化水素混合物
原料として、原油の蒸留分離や接触分解等によって得ら
れる沸点範囲が通常30ないし130℃の範囲にある軽
質ナフサ等を例示できる。
本発明において使用される触媒は、後述する特定の金属
酸化物あるいは複合金属酸化物をフッ素含有化合物で処
理して得られる触媒である。本発明で使用される該金属
酸化物とは、周期律表I族(DCu、Al、 ■族oM
L Zn、III族のAl、 Sc。
酸化物あるいは複合金属酸化物をフッ素含有化合物で処
理して得られる触媒である。本発明で使用される該金属
酸化物とは、周期律表I族(DCu、Al、 ■族oM
L Zn、III族のAl、 Sc。
Ga、 In、 it/族osi、 Ti、 Ge、
Zr、 Sn、 Hf。
Zr、 Sn、 Hf。
■族のV、Nb、Sb、Ta、Vl族のOr、Mo、W
、。
、。
■族(7)Mn、■族のFe、 co、Ni、Ru お
よびランタン系列に属するLa、 Ce0群から選ばれ
る金属の酸化物である。また本発明で使用される複合金
属酸化物とは前記した金属の群から選ばれる少なくとも
2種以上の金属酸化物からなる複合金属酸化物である。
よびランタン系列に属するLa、 Ce0群から選ばれ
る金属の酸化物である。また本発明で使用される複合金
属酸化物とは前記した金属の群から選ばれる少なくとも
2種以上の金属酸化物からなる複合金属酸化物である。
本発明では前記した金属の中でも特にAl、Ti、Cr
、Si、Cu、A、9.M9.Zn。
、Si、Cu、A、9.M9.Zn。
Sc、Zr、Hf、Fe、Go、Ni、Ru、Ga、
およびNbを使用することが触媒活性の点から好まし
い。この場合の金属酸化物として具体的には、アルミナ
、シリカ、チタニア、クロミナ、ジルコニア、酸化ニオ
ブ、酸化ガリウム等を例示できるが、この中ではアルミ
ナ、ジルコニア、酸化ニオブが好ましい。また複合金属
酸化物として具体的にはシリカ−アルミナ、チタニア−
アルミナ、クロミナ−アルミナ、酸化ニオプーアルξす
、酸化亜鉛−アルミナ、酸化スカンジウム−アルミナ、
酸化コバルト−アルミナ、酸化ニッケルーアルミナ、ジ
ルコニア−アルミナ、酸化マグネシウム−アルミナ、酸
化鉄−アルミナ、酸化ニッケルーチタニア−アルミナ、
酸化ニッケルークロミア−アルミナ等を例示できるが、
この中では酸化亜鉛−アルミナ、酸化ニオブ−アルミナ
、酸化スカンジウム−アルミナ、チタニア−アルミナ、
酸化マグネシウム−アルiす、酸化ガリウム−アルミナ
、酸化クロム−アルミナ、酸化ニッケルーチタニア−ア
ルミナが好ましい。
およびNbを使用することが触媒活性の点から好まし
い。この場合の金属酸化物として具体的には、アルミナ
、シリカ、チタニア、クロミナ、ジルコニア、酸化ニオ
ブ、酸化ガリウム等を例示できるが、この中ではアルミ
ナ、ジルコニア、酸化ニオブが好ましい。また複合金属
酸化物として具体的にはシリカ−アルミナ、チタニア−
アルミナ、クロミナ−アルミナ、酸化ニオプーアルξす
、酸化亜鉛−アルミナ、酸化スカンジウム−アルミナ、
酸化コバルト−アルミナ、酸化ニッケルーアルミナ、ジ
ルコニア−アルミナ、酸化マグネシウム−アルミナ、酸
化鉄−アルミナ、酸化ニッケルーチタニア−アルミナ、
酸化ニッケルークロミア−アルミナ等を例示できるが、
この中では酸化亜鉛−アルミナ、酸化ニオブ−アルミナ
、酸化スカンジウム−アルミナ、チタニア−アルミナ、
酸化マグネシウム−アルiす、酸化ガリウム−アルミナ
、酸化クロム−アルミナ、酸化ニッケルーチタニア−ア
ルミナが好ましい。
本発明では、前記した金属化合物、あるいはそれらの混
合物を得る方法として、例えばこれら金属の金属塩又は
混合金属塩の水溶液にアルカリを添加して金属の水酸化
物を得る方法、金属酸化物に他の金属の塩水溶液を含浸
担持する方法、あるいは逆に金属酸化物を浸漬する方法
、金属酸化物同志あるいは金属塩同志を混練する方法等
を挙げることが出来る。本発明ではこれらの中でも金属
塩水溶液にアンモニア水あるいはアルカリ金属を含む水
溶液を添加する方法(沈澱法)が好ましい。
合物を得る方法として、例えばこれら金属の金属塩又は
混合金属塩の水溶液にアルカリを添加して金属の水酸化
物を得る方法、金属酸化物に他の金属の塩水溶液を含浸
担持する方法、あるいは逆に金属酸化物を浸漬する方法
、金属酸化物同志あるいは金属塩同志を混練する方法等
を挙げることが出来る。本発明ではこれらの中でも金属
塩水溶液にアンモニア水あるいはアルカリ金属を含む水
溶液を添加する方法(沈澱法)が好ましい。
この沈澱法で得られた種々のタイプの金属化合物、ある
いは、それらの混合物は、焼成するととによって金属酸
化物、あるいは複合金属酸化物になるわけであるが、こ
の場合の条件として焼成温度は通常600〜1000℃
、好ましくは500ないし800℃である。焼成時間は
焼成温度によっても異なるが通常は0.5〜10時間で
ある。焼成は通常大気下で行われるが、チッ素等の不活
性ガス雰囲気下で行うこともできる。
いは、それらの混合物は、焼成するととによって金属酸
化物、あるいは複合金属酸化物になるわけであるが、こ
の場合の条件として焼成温度は通常600〜1000℃
、好ましくは500ないし800℃である。焼成時間は
焼成温度によっても異なるが通常は0.5〜10時間で
ある。焼成は通常大気下で行われるが、チッ素等の不活
性ガス雰囲気下で行うこともできる。
本発明で使用される触媒は、前記した金属酸化物あるい
は複合金属酸化物をフッ素含有化合物で処理して得られ
るものである。本発明では該フッ素含有化合物として具
体的には、 CC1,F、CCl2F、。
は複合金属酸化物をフッ素含有化合物で処理して得られ
るものである。本発明では該フッ素含有化合物として具
体的には、 CC1,F、CCl2F、。
CGIF、、CF、、 CHCl、F、CHCIF、、
CHF、。
CHF、。
CCI、F−CCI、F、CGIF、−CC1,F、C
GIF、−CGIF、 、 CGIF2−CF、 、
OF、 −CF、 、 OH,−CGIF、 。
GIF、−CGIF、 、 CGIF2−CF、 、
OF、 −CF、 、 OH,−CGIF、 。
GH,−CHF2. (CF、−CF、)、 、 CB
rF3.CBrF2−CBrF2.HF、−yツ化水素
酸水、SF、−3F4,0F3−CH2−OH,NH,
F、などを例示できるが、この中ではCCI□F2.
CGIF、、SF、、SF4.NH4Fを使用する事が
好ましい。
rF3.CBrF2−CBrF2.HF、−yツ化水素
酸水、SF、−3F4,0F3−CH2−OH,NH,
F、などを例示できるが、この中ではCCI□F2.
CGIF、、SF、、SF4.NH4Fを使用する事が
好ましい。
本発明の触媒を得るに当たって行われる前記7ツ素含有
化合物による処理方法として具体的には、例えば以下の
方法を示すことができる。通常の方法によって調製した
金属酸化物あるいは複合金属酸化物を反応管に充てん後
、触媒層を所定温度(250〜550℃、好ましくは3
00〜500℃)に昇温したのち、フッ素含有化合物ガ
ス(例えば、CGIF、)を供給し、所定時間(0,1
〜1Qhr、好ましくは0.5〜2hr)処理を行う。
化合物による処理方法として具体的には、例えば以下の
方法を示すことができる。通常の方法によって調製した
金属酸化物あるいは複合金属酸化物を反応管に充てん後
、触媒層を所定温度(250〜550℃、好ましくは3
00〜500℃)に昇温したのち、フッ素含有化合物ガ
ス(例えば、CGIF、)を供給し、所定時間(0,1
〜1Qhr、好ましくは0.5〜2hr)処理を行う。
処理後、N2ガスによる置換あるいは減圧脱気等により
残存するフッ素含有化合物ガスを除去する。降温後、窒
素雰囲気下で反応管より取り出し、活性評価に供する。
残存するフッ素含有化合物ガスを除去する。降温後、窒
素雰囲気下で反応管より取り出し、活性評価に供する。
上記処理法は一例を示すもので、本発明の方法は上記内
容に限定されるものではない。
容に限定されるものではない。
本発明では前記方法によって調製された触媒を用いて、
炭素数が5ないし10のパラフィン又は該パラフィンを
主成分として含有する炭化水素を接触的に反応させて、
炭1数が3ないし4のパラフィンおよび/又はオレフィ
ンを主取分とする低級脂肪族炭化水素が製造される。こ
の場合の反応装置としては、公知の通常の気相接触反応
装置を用いることができる。
炭素数が5ないし10のパラフィン又は該パラフィンを
主成分として含有する炭化水素を接触的に反応させて、
炭1数が3ないし4のパラフィンおよび/又はオレフィ
ンを主取分とする低級脂肪族炭化水素が製造される。こ
の場合の反応装置としては、公知の通常の気相接触反応
装置を用いることができる。
本発明では反応は以下に示す条件のもとに実施される。
反応温度は通常250ないし580℃の範囲にあり、特
に好ましくは300々いし500℃の範囲にある。反応
温度が通常250℃よりも低い場合には、前記した原料
の炭化水素−の反応が起こりにくり、又オレフィン留分
の選択率が低くなるので好ましくない。一方、反応温度
が通常580℃よりも高い場合には、メタン、エタン等
の炭素数1ないし2の炭化水素類の副生が多くなって本
発明の目的とする炭素数が3ないし4のパラフィンおよ
び/又はオレフィンを主成分とする低級脂肪族炭化水素
tblの選択率が低下するので好ましくない。
に好ましくは300々いし500℃の範囲にある。反応
温度が通常250℃よりも低い場合には、前記した原料
の炭化水素−の反応が起こりにくり、又オレフィン留分
の選択率が低くなるので好ましくない。一方、反応温度
が通常580℃よりも高い場合には、メタン、エタン等
の炭素数1ないし2の炭化水素類の副生が多くなって本
発明の目的とする炭素数が3ないし4のパラフィンおよ
び/又はオレフィンを主成分とする低級脂肪族炭化水素
tblの選択率が低下するので好ましくない。
本発明では原料の炭化水素−は予熱器を通して反応器に
所定全送入されるが、この場合の送入量としては常温、
常圧で該原料が液体の場合には送入mt液空間速2(L
H3V:Llquid HourlySpace V
elocity)で表示して、通常は該値が0.01な
いし1Qhr−+、好tシ<uo、i 6イL5hr−
’ の範囲にある。又ガス空間速度(GH8V)で表
示した場合には通常10ないし10,000hr−’、
好ましくは100ないし1.000 hr−IO範囲K
hる。
所定全送入されるが、この場合の送入量としては常温、
常圧で該原料が液体の場合には送入mt液空間速2(L
H3V:Llquid HourlySpace V
elocity)で表示して、通常は該値が0.01な
いし1Qhr−+、好tシ<uo、i 6イL5hr−
’ の範囲にある。又ガス空間速度(GH8V)で表
示した場合には通常10ないし10,000hr−’、
好ましくは100ないし1.000 hr−IO範囲K
hる。
反応の圧力に関しては通常は大気圧下で実施されるが必
要に応じて適宜加圧して実施することもできる。本発明
では反応を行うに当たって反応器内にチッ素等の不活性
ガスを適宜の貴必要に応じて同伴することも出来る。
要に応じて適宜加圧して実施することもできる。本発明
では反応を行うに当たって反応器内にチッ素等の不活性
ガスを適宜の貴必要に応じて同伴することも出来る。
反応器を出た反応生成物は、冷却後ガス生成物と液生成
物に分離したのち、それぞれガスクロマトグラフィーに
よって分析される。
物に分離したのち、それぞれガスクロマトグラフィーに
よって分析される。
本発明の方法によって得られる目的とする反応生成物は
、原料の炭化水素(alのパラフィンが分解して炭素数
が小きくなって得られる炭素数が3ないし4のパラフィ
ンおよび/又はオレフィンを主成分とする低級脂肪族炭
化水素Fblである。該低級脂肪族炭化水素+blとし
て具体的にはメタン、エタン、)′ロパン、ブタン、イ
ソブタン、ペンタン、イソペンタン 等の炭素数が1な
いし5のパラフィンおよびエチレン、プロピレン、1−
ブテン、2−ブテン(シス、トランス)、イソブチン、
ペンテン等の炭素数が2ないし5のオレフィンであって
、本発明の方法によればこれら炭化水素の中では炭素数
が6ないし4のパラフィンとオレフィンを主生成物とし
て得ることができる。
、原料の炭化水素(alのパラフィンが分解して炭素数
が小きくなって得られる炭素数が3ないし4のパラフィ
ンおよび/又はオレフィンを主成分とする低級脂肪族炭
化水素Fblである。該低級脂肪族炭化水素+blとし
て具体的にはメタン、エタン、)′ロパン、ブタン、イ
ソブタン、ペンタン、イソペンタン 等の炭素数が1な
いし5のパラフィンおよびエチレン、プロピレン、1−
ブテン、2−ブテン(シス、トランス)、イソブチン、
ペンテン等の炭素数が2ないし5のオレフィンであって
、本発明の方法によればこれら炭化水素の中では炭素数
が6ないし4のパラフィンとオレフィンを主生成物とし
て得ることができる。
本発明の方法を採用すれば、従来の方法に比べて250
ないし580℃の低い温度で炭化水素+alを接触的に
反応させて、炭素数6ないし4のパラフィン、オレフィ
ンを主成分とする低級脂肪族炭化水素(blを高い選択
率で収率良く得ることができる。
ないし580℃の低い温度で炭化水素+alを接触的に
反応させて、炭素数6ないし4のパラフィン、オレフィ
ンを主成分とする低級脂肪族炭化水素(blを高い選択
率で収率良く得ることができる。
以下、本発明の方法を実施例によって具体的に説明する
。
。
実施例1
硝酸アルεニウムの9水塩100gを21の蒸留水に溶
解させた後、25裂のアンモとア水を徐々に加え、仮の
pHを8とした。生成した沈澱を水洗f過後、100℃
で一昼夜乾探し、紛で600℃で6時間焼成し、アルば
すを調製した。
解させた後、25裂のアンモとア水を徐々に加え、仮の
pHを8とした。生成した沈澱を水洗f過後、100℃
で一昼夜乾探し、紛で600℃で6時間焼成し、アルば
すを調製した。
35〜80メツシユに粉砕したアルミナ10gを石英反
応管に充てん後、650℃で30分脱気する。次に、同
一温度で、フロン13(CF、C1)t−常圧で10r
n17’mmの速度で30分間供給し、処理を行う。
応管に充てん後、650℃で30分脱気する。次に、同
一温度で、フロン13(CF、C1)t−常圧で10r
n17’mmの速度で30分間供給し、処理を行う。
フロン処理後のアルミナ5mlを内径20+u+のパイ
レックス製反応管に充填した後、N、流通下450℃に
加熱した。所定温度に達した後、η−ヘキサンを2ml
/hrの速度で供給し、反応を行った。結果を表1に示
す。
レックス製反応管に充填した後、N、流通下450℃に
加熱した。所定温度に達した後、η−ヘキサンを2ml
/hrの速度で供給し、反応を行った。結果を表1に示
す。
実施例2
硝酸アルミニウムの9水塩100F、 硝酸マグネシ
ウムろ水塩6.8gを22の蒸留水に溶解させた後、2
5%アンモニア水を徐々に加え、液のpHを8とした。
ウムろ水塩6.8gを22の蒸留水に溶解させた後、2
5%アンモニア水を徐々に加え、液のpHを8とした。
生成した沈澱を水洗沢過後、100℃で一昼夜乾燥し、
次いで600℃で6時間焼成しアルミナ−酸化マグネシ
ウムを調製した。実施例1と同一条件でフロン1ろ処理
した後:同一条件で反応を行った。結果を表2に示す。
次いで600℃で6時間焼成しアルミナ−酸化マグネシ
ウムを調製した。実施例1と同一条件でフロン1ろ処理
した後:同一条件で反応を行った。結果を表2に示す。
実施例6
実施例2において、硝酸マグネシウムろ水塩6.8gを
、硝酸亜鉛ろ水塩8.8gに変えた以外は同一条件で触
媒を調整し、反応を行った。結果を来1に示す。
、硝酸亜鉛ろ水塩8.8gに変えた以外は同一条件で触
媒を調整し、反応を行った。結果を来1に示す。
実施fil 4
硝取アルミニウム9水塩100Iを、21 の汰留水
に溶解させた後、25%アンモニア水を徐々に加え、液
のpHを8とした。生成した沈澱を水洗−過した。これ
に酸化ニオブ4. O、Fを刃口え、自動乳鉢を用いて
1時間混練した。これを100℃で一昼夜乾燥し、次い
で600℃で3hr焼成しアルはす・酸化ニオブを調製
した。
に溶解させた後、25%アンモニア水を徐々に加え、液
のpHを8とした。生成した沈澱を水洗−過した。これ
に酸化ニオブ4. O、Fを刃口え、自動乳鉢を用いて
1時間混練した。これを100℃で一昼夜乾燥し、次い
で600℃で3hr焼成しアルはす・酸化ニオブを調製
した。
これを実施例1と同一条件でフロン13処理し、反応を
行った。結果を懺1に示す。
行った。結果を懺1に示す。
実施例5
実施例2において、硝酸マグネシウム6水和塩6.8I
を三塩化チタン(20wt%溶液)22.8gに又反応
温度を530に変えた以外は同一条件で触媒を調製し反
応を行った。結果を表1に示す。
を三塩化チタン(20wt%溶液)22.8gに又反応
温度を530に変えた以外は同一条件で触媒を調製し反
応を行った。結果を表1に示す。
実施例6
実施例4において酸化ニオブ4.Ogを酸化スカンジウ
ム0.97 、!7に、又反応温度500℃に変えた以
外は同一条件で触媒を調製し、反応を行った。
ム0.97 、!7に、又反応温度500℃に変えた以
外は同一条件で触媒を調製し、反応を行った。
結果′ft光1に示す。
実施例7
実施例2において硝酸マグネシウムろ水塩6.8gを硝
酸ジルコニル乙1に、又、反応温度を500℃に変えた
以外は同一条件で触媒を調製し、反応を行った。結果を
表1に示す。
酸ジルコニル乙1に、又、反応温度を500℃に変えた
以外は同一条件で触媒を調製し、反応を行った。結果を
表1に示す。
実施例8
実施例1においてフロン13をSF、に、又反応温度を
500℃に変えた以外は同一条件で触媒wvAgくし、
反応を行った。結果を表1に示す。
500℃に変えた以外は同一条件で触媒wvAgくし、
反応を行った。結果を表1に示す。
実施例9
硝酸ジルコニル100gを22の蒸留水に溶解させた後
、25%アンモニア水を徐々に加え、液のpHを8とし
た。生成した沈澱を水洗f通抜、100℃で一昼夜乾燥
し、次いで、400℃で3hr焼成しジルコニアを調製
した。35〜80メツシユに粉砕したジルコニア11を
石英反応管に充てん後、550℃で30分間脱気する。
、25%アンモニア水を徐々に加え、液のpHを8とし
た。生成した沈澱を水洗f通抜、100℃で一昼夜乾燥
し、次いで、400℃で3hr焼成しジルコニアを調製
した。35〜80メツシユに粉砕したジルコニア11を
石英反応管に充てん後、550℃で30分間脱気する。
次に同一温度でSF、を17/mの速度で30分間供給
し変性処理を行う。
し変性処理を行う。
この触媒を用い、反応温度530℃に変えた以外は同一
条件で反応を行った。結果を表1に示す。
条件で反応を行った。結果を表1に示す。
比較例1
未処理のアルεすを用い、反応温度を580℃に変えた
以外は実施例1と同一条件で反応を行った。結果を表1
に示す。
以外は実施例1と同一条件で反応を行った。結果を表1
に示す。
又、未処理のAl、○、−MiO,Al□0l−Zno
。
。
Al2O,−Nb、O,、A1203−TiO2+ A
1203−8c2031Al、08−ZrO,、Zr
O2を−tiそれ触媒ニ用イ、500℃で反応を行った
ところ、いずれもn−C。
1203−8c2031Al、08−ZrO,、Zr
O2を−tiそれ触媒ニ用イ、500℃で反応を行った
ところ、いずれもn−C。
転化率1%以下であった。
実施例10
Al、O,−Ni’0−Ti○、(Al/Ni/Ti=
901515原子比)を実施例1と同一条件でフロン処
理し、反応を行った。結果を果1に示す。
901515原子比)を実施例1と同一条件でフロン処
理し、反応を行った。結果を果1に示す。
比較例2
実施例1で調製した触媒を、600℃で反応を行った。
結果を果1に示す。
比較例3
芙施例10で調製した触媒を用い、260℃で反応を行
った。結果を表1に示す。
った。結果を表1に示す。
Claims (1)
- (1)炭素数が5ないし10のパラフィン又は該パラフ
ィンを主成分として含有する炭化水素〔これらを炭化水
素(a)と呼ぶ〕を反応させて炭素数が3ないし4のパ
ラフィンおよび/又はオレフィンを主成分とする低級脂
肪族炭化水素(b)を製造するに当たり、触媒として金
属酸化物あるいは複合金属酸化物をフッ素含有化合物で
処理した触媒を使用し、該反応を 250ないし580℃の範囲の温度で行うことを特徴と
する炭化水素(a)の分解方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16127985A JPS6222891A (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 炭化水素の分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16127985A JPS6222891A (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 炭化水素の分解方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6222891A true JPS6222891A (ja) | 1987-01-31 |
Family
ID=15732085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16127985A Pending JPS6222891A (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 炭化水素の分解方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6222891A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62175357A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-08-01 | Usac Electronics Ind Co Ltd | 自動給紙装置の給紙ロ−ラの制御方法 |
US5570226A (en) * | 1991-04-26 | 1996-10-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical link amplifier and a wavelength multiplex laser oscillator |
-
1985
- 1985-07-23 JP JP16127985A patent/JPS6222891A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62175357A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-08-01 | Usac Electronics Ind Co Ltd | 自動給紙装置の給紙ロ−ラの制御方法 |
US5570226A (en) * | 1991-04-26 | 1996-10-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical link amplifier and a wavelength multiplex laser oscillator |
US5773345A (en) * | 1991-04-26 | 1998-06-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical link amplifier and a wavelength multiplex laser oscillator |
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