JPS62227411A - 分離膜の製造方法 - Google Patents

分離膜の製造方法

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JPS62227411A
JPS62227411A JP7017986A JP7017986A JPS62227411A JP S62227411 A JPS62227411 A JP S62227411A JP 7017986 A JP7017986 A JP 7017986A JP 7017986 A JP7017986 A JP 7017986A JP S62227411 A JPS62227411 A JP S62227411A
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membrane
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vapor
polymer
separation membrane
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Tsutomu Nakagawa
仲川 勤
Shigehiro Nagura
茂広 名倉
Minoru Takamizawa
高見沢 稔
Akira Yamamoto
昭 山本
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本°発明は分離膜の製造方法、特には分離性能がよく、
この分離性能の経時変化が少ない、置換ポリアセチレン
化合物を膜成分としてなる気体分離用、水−エタノール
分離用などとして有用とされる分離膜に関するものであ
る。
(従来の技術) 分離膜については置換ポリアセチレン化合物がすぐれた
物性を示すことが知られている。そして、この置換ポリ
アセチレン化合物については最近かさ高い置換基を有す
るものの重合についていくつかの報告がされており、得
られるポリマーの特性が注目されている(Polyme
r Praprints、31(6)4189(198
2)、同且(2)181(1983)、同32(6)1
171(1983)。
同32(6)1175(1983)等〕が、特にポリト
リメチルシリルプロピレン: e SiMa。
がきねめて大きな気体透過性を有する素材であることが
報告されている(Polymer Preprints
井(10) 、 2981 (1983)、特開昭59
−154106) 。
本発明者らも5次の一般式:R1 −Hc=c←− R”−8i−R” で表される繰返し単位からなるかさ高い置換基を有する
置換ポリアセチレン化合物について検討したところ、こ
のものは適当な溶媒に可、溶であり。
成形性、強度がすぐれており、また気体透過性が大きい
という特徴を有することを確認したが、このものは経時
的安定性が低く、斌体透過性が次第に低下する傾向があ
るため、気体分離膜等に成形した場合に長期にわたって
安定した性能が得られないという問題がある。
(発明の構成) 本発明はこのような不利を解決した経時安定性を改良し
た分離膜の製造方法に関するものであり、これは一般式 %式%(1) (式中R1は水素原子またはメチル基、R2、R3、R
4は水素原子、同一または異種の炭素数1〜8の1価炭
化水素基、またはけい素原子含有1価炭化水素基から選
択される原子または基)で示される構造単位を含有する
重合体から作られた膜状体を、沸点が100〜500 
’C/ 5nmHg(7)物質の蒸気の存在下に熱処理
することを特徴とするものである。
すなわち1本発明者らは置換ポリアセチレン化金物から
作られた膜状物を経時安定性のすぐれたものとする方法
について種々検討した結果、これには置換ポリアセチレ
ン化合物の膜状物をフタル酸ジオクチル、アジピン酸ジ
オクチル、セバシン酸ジオクチルなどの有機酸エステル
の蒸気の共存下に加熱処理するとこれが経時安定性のす
ぐれたものになることを見比し、こぎに使用する有機物
質の種類、加熱温度についての研究を進め、この有機物
質については沸点が100〜500℃15閣Hgのもの
を使用し、これを100〜200℃で熱処理することが
有効であることを確認して本発明を完成させた。
本発明の分離膜は置換ポリアセチレン化合物を主材とす
るものであるが、このものは一般式%式%(1) で示され、R1は水素原子またはメチル基、R2、Rs
、 R%は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基など
のアルケニル基、フェニル基、トリル基などのアリール
基、シクロヘキシル基2などのシクロアルキル基などの
ような炭素数1〜8の1価炭化水素基、あるいはけい素
原子含有の1価炭化水素から選択される原子または基で
ある構造単位を含有する重合体から作られたものとされ
る。
この重合体は例えば一般式 %式%() (R″、R2、R3、R4は前記に同じ)で示されるア
セチレン化合物(モノマー)の1種または2種以上をト
ルエン、シクロヘキサンなどの有機溶剤中でWCl、%
N b Cl、、 T a C1,、などのような重合
触媒の存在下に30〜150℃で重合または共重合させ
たのち、メタノール中で沈殿させ。
精製することによって作られるが、この重合方法はこれ
に限定されるものではなく、他の方法で行われるもので
あってもよい。
しかし、この重合体は上記した一般式(n)で示される
置換アセチレン化合物とけい素を含まない他のアセチレ
ン系誘導体との共重合体であってもよいし、またこのよ
うにして得たポリマーの不飽和結合の一部を水素添加し
たものであってもよい、したがって、この置換ポリアセ
チレン化合物は上記した一般式(1)で示される構造の
みからなるホモポリマーであっても、2種以上の一般式
(I)で示される構造単位を含むコポリマーであっても
よいし、これはまた一般式(1)で示される構造単位以
外の構造単位を含むものであってもよいが、気体透過性
のよい膜状体を得るということからは一般式CI)で示
される構造単位を少なくとも50モル%以上、特には8
0モル%以上含むものとすることが好ましく、100モ
ル%のものとすることが最も好ましい、この置換アセチ
レン化合物としては 式          CH3 −C=C− CH,−5i−CH,・・・(III)■ CH。
で示される構造単位が30〜95モノ、しで、弐   
       CH。
−C=C− CH。
CH,−5i−CH3− CH3 で示される構造単位70〜5モルからなるものが好まし
いものとして例示されるが、このものは分子量があまり
に小さいとこれをフィルムなどに成形した時にその機械
的強度が低くなって実用的でなくなるのでポリスチレン
換算の分子量が105以上のものとすることがよい。
この置換ポリアセチレン化合物はこれをベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサンなどの炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレンなどのハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフランなどに溶解して
からキャティングまたは乾式あるいは湿式紡糸などのよ
うな通常の方法でフィルム状1wA維状などに成形され
て分離膜とされるが、このものは実用的に孔を有しない
緻密層を有する膜とすることが必要とされる。しかし、
これは平膜上あるいは中空系状の均質膜または緻密層を
有する不均質膜として使用してもよく、さらには多孔質
平膜基材、多孔質中空系基材なとの上にコーティングす
ることによって、複合膜として使用してもよい。
本発明の分離膜はこのようにして得られた膜状体を加熱
処理することによって得られるが、この加熱処理は沸点
が100〜b ある有機物質の蒸気の存在下で行うことが必要とされる
。このような有機物質としてはフタル酸ジオクチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジノニル。
アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジオクチルなどの有
機酸エステル、パーフルオロブチルアミン、O−イソプ
ロピルアニリン、ジプロピレントリアミン、テトラエチ
レンペンタミンなどのアミン類。
ポリエチレングリコールなどのアルコール類、IPソル
ベント〔出光製油■裏面品名〕のような炭化水素類、オ
ルガノポリシロキサン類などが例示されるが、これは沸
点が100〜500℃15nmHgであればこれらに限
定されるものではない。
この有機物質は置換ポリアセチレン膜の加熱処理時に蒸
気として供給され、この蒸気が置換ポリアセチレン膜の
表面に吸着されることによって膜の経時変化を少なくす
るという効果を与えるのであるが、このものは沸点が1
00℃75 m Hgよりも低いものではこの膜状体が
分離膜として使用している間に膜に吸着されたものが脱
離して透過性能の経時安定性が充分発現されず、沸点が
500”C/ 5 an Hgよりも高いものとすると
その処理効果が充分に発揮されなくなるので沸点が10
0〜500℃75 m Hgのものとすることが必要と
される。なお、この加熱処理はこの有機物質の蒸気存在
下での100〜200℃とすればよいが、これは通常の
乾燥機中あるいは赤外ランプ、高周波加熱などで膜部分
の温度が100〜200℃となるように加熱すればよく
、この場合に上記した有機物質の蒸気と共に水蒸気、不
活性ガスなどの共存下としてもよいが、この処理時間は
1分以上好ましくは0.5時間以上数時間の範囲から適
宜選択すればよいが。
このようにして得られた本発明の分離膜はこれが置換ポ
リアセチレン化合物を主材として作られたものであるこ
とからすぐれた気体透過性を有するが、これは上記した
処理によって経時安定性のすぐれたものとなるので各種
気体の分離膜として有用とされるほか、水−エタノール
の分離などにも有用とされる。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例1、比較例1 式           CH3 CH,−CミC−8i  CHa CH。
で示される1−トリメチルシリル−1−プロピン(以下
上ツマ−Aと略記する)と式 %式% で示される1−(1’、1’、3’、3’−テトラメチ
ル−1’、 3’−ジシラブチル)−1−プロピン(以
下モノマーBと略記する)とをA/Bがモル比で85/
15となるように混合し、トルエン溶媒中で五塩化タン
タルを触媒として重合さ−せて。
ポリスチレン換算の重量平均分子量が120万である置
換アセチレン共重合体を作り、ついでこれをトルエンに
溶解し、ガラス板上にキャスティングして膜厚ts4の
フィルムを作った。
ついで、このフィルムをフタル酸ジオクチル液を収容し
た□乾燥器に入れてから乾燥機を150℃に加熱してフ
タル酸ジオクチルを揮発させてフィルムがフタル酸ジオ
クチル液とは接触しないが蒸気とは接触するようにして
1時間加熱したのち、フィルムを取り出してIR分析し
たところ、このフィルムにフタル酸ジオクチルの吸着さ
れていることが認められた。
つぎにこのようにして得た処理フィルムとこのような処
理をしなかった未処理フィルムについて。
その酸素および窒素の透過係数を測定すると共に。
これらを50℃の空気中で30日間保存した後の透過係
数を測定してこれらの経時安定性をしらべたところ、第
1表に示したとおりの結果が得られた。
実施例2〜5.比較例2 実施例1で使用したモノマーA、Bおよび式%式% で示される1−(1’、1’、4’、4’−テトラメチ
ル−1’、4’−ジシラペンチル)−1−プロピン(以
下上ツマ−Cと略記する)を使用した第2表に示した七
ツマ−Aのホモポリマー、モノマーAとモノマーBとの
共重合体、モノマーAとモノマーCとの共重合体の4種
をセルロースアセテート多孔質上に膜厚0.2.または
10uとなるようにコーティングして分離膜を作り、実
施例1と同じ方法でこれを第2表に示した各種の有機物
質の蒸気の存在下に第2表に示した加熱処理条件で加熱
処理し、得られた分離膜の酸素、窒素のガス透過係数を
測定すると共に、これらを50℃で30日間保存後のガ
ス透過係数を測定してその経時安定性をしらべたところ
、第2表に示したとおりの結果が得られた。
手続補正書 昭和61年6月27日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^1は水素原子またはメチル基、R^2、R
    ^3、R^4は水素原子、同一または異種の炭素数1〜
    8の1価炭化水素基、またはけい素原子含有1価炭化水
    素基から選択される原子または基)で示される構造単位
    を含有する重合体から作られた膜状体を、沸点100〜
    500℃/5mmHgの物質の蒸気の存在下に熱処理す
    ることを特徴とする分離膜の製造方法。 2、重合体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^5はメチル基、エチル基またはフェニル基
    、aは1または2)で示される構造単位を少なくとも1
    %含有する置換ポリアセチレン化合物である特許請求の
    範囲第1項記載の分離膜の製造方法。 3、熱処理が100〜200℃の温度範囲で行われる特
    許請求の範囲第1項記載の分離膜の製造方法。
JP7017986A 1986-03-28 1986-03-28 分離膜の製造方法 Granted JPS62227411A (ja)

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JPH0423571B2 JPH0423571B2 (ja) 1992-04-22

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8394506B2 (en) 2007-03-09 2013-03-12 Canon Kabushiki Kaisha Helical substituted polyacetylene structure, method for producing the same, device structure, ion transport film and gas separation film

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6135824A (ja) * 1984-07-27 1986-02-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 気体透過膜

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