JPS62227411A - 分離膜の製造方法 - Google Patents
分離膜の製造方法Info
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本°発明は分離膜の製造方法、特には分離性能がよく、
この分離性能の経時変化が少ない、置換ポリアセチレン
化合物を膜成分としてなる気体分離用、水−エタノール
分離用などとして有用とされる分離膜に関するものであ
る。
この分離性能の経時変化が少ない、置換ポリアセチレン
化合物を膜成分としてなる気体分離用、水−エタノール
分離用などとして有用とされる分離膜に関するものであ
る。
(従来の技術)
分離膜については置換ポリアセチレン化合物がすぐれた
物性を示すことが知られている。そして、この置換ポリ
アセチレン化合物については最近かさ高い置換基を有す
るものの重合についていくつかの報告がされており、得
られるポリマーの特性が注目されている(Polyme
r Praprints、31(6)4189(198
2)、同且(2)181(1983)、同32(6)1
171(1983)。
物性を示すことが知られている。そして、この置換ポリ
アセチレン化合物については最近かさ高い置換基を有す
るものの重合についていくつかの報告がされており、得
られるポリマーの特性が注目されている(Polyme
r Praprints、31(6)4189(198
2)、同且(2)181(1983)、同32(6)1
171(1983)。
同32(6)1175(1983)等〕が、特にポリト
リメチルシリルプロピレン: e SiMa。
リメチルシリルプロピレン: e SiMa。
がきねめて大きな気体透過性を有する素材であることが
報告されている(Polymer Preprints
。
報告されている(Polymer Preprints
。
井(10) 、 2981 (1983)、特開昭59
−154106) 。
−154106) 。
本発明者らも5次の一般式:R1
−Hc=c←−
R”−8i−R”
で表される繰返し単位からなるかさ高い置換基を有する
置換ポリアセチレン化合物について検討したところ、こ
のものは適当な溶媒に可、溶であり。
置換ポリアセチレン化合物について検討したところ、こ
のものは適当な溶媒に可、溶であり。
成形性、強度がすぐれており、また気体透過性が大きい
という特徴を有することを確認したが、このものは経時
的安定性が低く、斌体透過性が次第に低下する傾向があ
るため、気体分離膜等に成形した場合に長期にわたって
安定した性能が得られないという問題がある。
という特徴を有することを確認したが、このものは経時
的安定性が低く、斌体透過性が次第に低下する傾向があ
るため、気体分離膜等に成形した場合に長期にわたって
安定した性能が得られないという問題がある。
(発明の構成)
本発明はこのような不利を解決した経時安定性を改良し
た分離膜の製造方法に関するものであり、これは一般式 %式%(1) (式中R1は水素原子またはメチル基、R2、R3、R
4は水素原子、同一または異種の炭素数1〜8の1価炭
化水素基、またはけい素原子含有1価炭化水素基から選
択される原子または基)で示される構造単位を含有する
重合体から作られた膜状体を、沸点が100〜500
’C/ 5nmHg(7)物質の蒸気の存在下に熱処理
することを特徴とするものである。
た分離膜の製造方法に関するものであり、これは一般式 %式%(1) (式中R1は水素原子またはメチル基、R2、R3、R
4は水素原子、同一または異種の炭素数1〜8の1価炭
化水素基、またはけい素原子含有1価炭化水素基から選
択される原子または基)で示される構造単位を含有する
重合体から作られた膜状体を、沸点が100〜500
’C/ 5nmHg(7)物質の蒸気の存在下に熱処理
することを特徴とするものである。
すなわち1本発明者らは置換ポリアセチレン化金物から
作られた膜状物を経時安定性のすぐれたものとする方法
について種々検討した結果、これには置換ポリアセチレ
ン化合物の膜状物をフタル酸ジオクチル、アジピン酸ジ
オクチル、セバシン酸ジオクチルなどの有機酸エステル
の蒸気の共存下に加熱処理するとこれが経時安定性のす
ぐれたものになることを見比し、こぎに使用する有機物
質の種類、加熱温度についての研究を進め、この有機物
質については沸点が100〜500℃15閣Hgのもの
を使用し、これを100〜200℃で熱処理することが
有効であることを確認して本発明を完成させた。
作られた膜状物を経時安定性のすぐれたものとする方法
について種々検討した結果、これには置換ポリアセチレ
ン化合物の膜状物をフタル酸ジオクチル、アジピン酸ジ
オクチル、セバシン酸ジオクチルなどの有機酸エステル
の蒸気の共存下に加熱処理するとこれが経時安定性のす
ぐれたものになることを見比し、こぎに使用する有機物
質の種類、加熱温度についての研究を進め、この有機物
質については沸点が100〜500℃15閣Hgのもの
を使用し、これを100〜200℃で熱処理することが
有効であることを確認して本発明を完成させた。
本発明の分離膜は置換ポリアセチレン化合物を主材とす
るものであるが、このものは一般式%式%(1) で示され、R1は水素原子またはメチル基、R2、Rs
、 R%は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基など
のアルケニル基、フェニル基、トリル基などのアリール
基、シクロヘキシル基2などのシクロアルキル基などの
ような炭素数1〜8の1価炭化水素基、あるいはけい素
原子含有の1価炭化水素から選択される原子または基で
ある構造単位を含有する重合体から作られたものとされ
る。
るものであるが、このものは一般式%式%(1) で示され、R1は水素原子またはメチル基、R2、Rs
、 R%は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基など
のアルケニル基、フェニル基、トリル基などのアリール
基、シクロヘキシル基2などのシクロアルキル基などの
ような炭素数1〜8の1価炭化水素基、あるいはけい素
原子含有の1価炭化水素から選択される原子または基で
ある構造単位を含有する重合体から作られたものとされ
る。
この重合体は例えば一般式
%式%()
(R″、R2、R3、R4は前記に同じ)で示されるア
セチレン化合物(モノマー)の1種または2種以上をト
ルエン、シクロヘキサンなどの有機溶剤中でWCl、%
N b Cl、、 T a C1,、などのような重合
触媒の存在下に30〜150℃で重合または共重合させ
たのち、メタノール中で沈殿させ。
セチレン化合物(モノマー)の1種または2種以上をト
ルエン、シクロヘキサンなどの有機溶剤中でWCl、%
N b Cl、、 T a C1,、などのような重合
触媒の存在下に30〜150℃で重合または共重合させ
たのち、メタノール中で沈殿させ。
精製することによって作られるが、この重合方法はこれ
に限定されるものではなく、他の方法で行われるもので
あってもよい。
に限定されるものではなく、他の方法で行われるもので
あってもよい。
しかし、この重合体は上記した一般式(n)で示される
置換アセチレン化合物とけい素を含まない他のアセチレ
ン系誘導体との共重合体であってもよいし、またこのよ
うにして得たポリマーの不飽和結合の一部を水素添加し
たものであってもよい、したがって、この置換ポリアセ
チレン化合物は上記した一般式(1)で示される構造の
みからなるホモポリマーであっても、2種以上の一般式
(I)で示される構造単位を含むコポリマーであっても
よいし、これはまた一般式(1)で示される構造単位以
外の構造単位を含むものであってもよいが、気体透過性
のよい膜状体を得るということからは一般式CI)で示
される構造単位を少なくとも50モル%以上、特には8
0モル%以上含むものとすることが好ましく、100モ
ル%のものとすることが最も好ましい、この置換アセチ
レン化合物としては 式 CH3 −C=C− CH,−5i−CH,・・・(III)■ CH。
置換アセチレン化合物とけい素を含まない他のアセチレ
ン系誘導体との共重合体であってもよいし、またこのよ
うにして得たポリマーの不飽和結合の一部を水素添加し
たものであってもよい、したがって、この置換ポリアセ
チレン化合物は上記した一般式(1)で示される構造の
みからなるホモポリマーであっても、2種以上の一般式
(I)で示される構造単位を含むコポリマーであっても
よいし、これはまた一般式(1)で示される構造単位以
外の構造単位を含むものであってもよいが、気体透過性
のよい膜状体を得るということからは一般式CI)で示
される構造単位を少なくとも50モル%以上、特には8
0モル%以上含むものとすることが好ましく、100モ
ル%のものとすることが最も好ましい、この置換アセチ
レン化合物としては 式 CH3 −C=C− CH,−5i−CH,・・・(III)■ CH。
で示される構造単位が30〜95モノ、しで、弐
CH。
CH。
−C=C−
CH。
CH,−5i−CH3−
CH3
で示される構造単位70〜5モルからなるものが好まし
いものとして例示されるが、このものは分子量があまり
に小さいとこれをフィルムなどに成形した時にその機械
的強度が低くなって実用的でなくなるのでポリスチレン
換算の分子量が105以上のものとすることがよい。
いものとして例示されるが、このものは分子量があまり
に小さいとこれをフィルムなどに成形した時にその機械
的強度が低くなって実用的でなくなるのでポリスチレン
換算の分子量が105以上のものとすることがよい。
この置換ポリアセチレン化合物はこれをベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサンなどの炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレンなどのハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフランなどに溶解して
からキャティングまたは乾式あるいは湿式紡糸などのよ
うな通常の方法でフィルム状1wA維状などに成形され
て分離膜とされるが、このものは実用的に孔を有しない
緻密層を有する膜とすることが必要とされる。しかし、
これは平膜上あるいは中空系状の均質膜または緻密層を
有する不均質膜として使用してもよく、さらには多孔質
平膜基材、多孔質中空系基材なとの上にコーティングす
ることによって、複合膜として使用してもよい。
エン、キシレン、シクロヘキサンなどの炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレンなどのハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフランなどに溶解して
からキャティングまたは乾式あるいは湿式紡糸などのよ
うな通常の方法でフィルム状1wA維状などに成形され
て分離膜とされるが、このものは実用的に孔を有しない
緻密層を有する膜とすることが必要とされる。しかし、
これは平膜上あるいは中空系状の均質膜または緻密層を
有する不均質膜として使用してもよく、さらには多孔質
平膜基材、多孔質中空系基材なとの上にコーティングす
ることによって、複合膜として使用してもよい。
本発明の分離膜はこのようにして得られた膜状体を加熱
処理することによって得られるが、この加熱処理は沸点
が100〜b ある有機物質の蒸気の存在下で行うことが必要とされる
。このような有機物質としてはフタル酸ジオクチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジノニル。
処理することによって得られるが、この加熱処理は沸点
が100〜b ある有機物質の蒸気の存在下で行うことが必要とされる
。このような有機物質としてはフタル酸ジオクチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジノニル。
アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジオクチルなどの有
機酸エステル、パーフルオロブチルアミン、O−イソプ
ロピルアニリン、ジプロピレントリアミン、テトラエチ
レンペンタミンなどのアミン類。
機酸エステル、パーフルオロブチルアミン、O−イソプ
ロピルアニリン、ジプロピレントリアミン、テトラエチ
レンペンタミンなどのアミン類。
ポリエチレングリコールなどのアルコール類、IPソル
ベント〔出光製油■裏面品名〕のような炭化水素類、オ
ルガノポリシロキサン類などが例示されるが、これは沸
点が100〜500℃15nmHgであればこれらに限
定されるものではない。
ベント〔出光製油■裏面品名〕のような炭化水素類、オ
ルガノポリシロキサン類などが例示されるが、これは沸
点が100〜500℃15nmHgであればこれらに限
定されるものではない。
この有機物質は置換ポリアセチレン膜の加熱処理時に蒸
気として供給され、この蒸気が置換ポリアセチレン膜の
表面に吸着されることによって膜の経時変化を少なくす
るという効果を与えるのであるが、このものは沸点が1
00℃75 m Hgよりも低いものではこの膜状体が
分離膜として使用している間に膜に吸着されたものが脱
離して透過性能の経時安定性が充分発現されず、沸点が
500”C/ 5 an Hgよりも高いものとすると
その処理効果が充分に発揮されなくなるので沸点が10
0〜500℃75 m Hgのものとすることが必要と
される。なお、この加熱処理はこの有機物質の蒸気存在
下での100〜200℃とすればよいが、これは通常の
乾燥機中あるいは赤外ランプ、高周波加熱などで膜部分
の温度が100〜200℃となるように加熱すればよく
、この場合に上記した有機物質の蒸気と共に水蒸気、不
活性ガスなどの共存下としてもよいが、この処理時間は
1分以上好ましくは0.5時間以上数時間の範囲から適
宜選択すればよいが。
気として供給され、この蒸気が置換ポリアセチレン膜の
表面に吸着されることによって膜の経時変化を少なくす
るという効果を与えるのであるが、このものは沸点が1
00℃75 m Hgよりも低いものではこの膜状体が
分離膜として使用している間に膜に吸着されたものが脱
離して透過性能の経時安定性が充分発現されず、沸点が
500”C/ 5 an Hgよりも高いものとすると
その処理効果が充分に発揮されなくなるので沸点が10
0〜500℃75 m Hgのものとすることが必要と
される。なお、この加熱処理はこの有機物質の蒸気存在
下での100〜200℃とすればよいが、これは通常の
乾燥機中あるいは赤外ランプ、高周波加熱などで膜部分
の温度が100〜200℃となるように加熱すればよく
、この場合に上記した有機物質の蒸気と共に水蒸気、不
活性ガスなどの共存下としてもよいが、この処理時間は
1分以上好ましくは0.5時間以上数時間の範囲から適
宜選択すればよいが。
このようにして得られた本発明の分離膜はこれが置換ポ
リアセチレン化合物を主材として作られたものであるこ
とからすぐれた気体透過性を有するが、これは上記した
処理によって経時安定性のすぐれたものとなるので各種
気体の分離膜として有用とされるほか、水−エタノール
の分離などにも有用とされる。
リアセチレン化合物を主材として作られたものであるこ
とからすぐれた気体透過性を有するが、これは上記した
処理によって経時安定性のすぐれたものとなるので各種
気体の分離膜として有用とされるほか、水−エタノール
の分離などにも有用とされる。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例1、比較例1
式 CH3
CH,−CミC−8i CHa
CH。
で示される1−トリメチルシリル−1−プロピン(以下
上ツマ−Aと略記する)と式 %式% で示される1−(1’、1’、3’、3’−テトラメチ
ル−1’、 3’−ジシラブチル)−1−プロピン(以
下モノマーBと略記する)とをA/Bがモル比で85/
15となるように混合し、トルエン溶媒中で五塩化タン
タルを触媒として重合さ−せて。
上ツマ−Aと略記する)と式 %式% で示される1−(1’、1’、3’、3’−テトラメチ
ル−1’、 3’−ジシラブチル)−1−プロピン(以
下モノマーBと略記する)とをA/Bがモル比で85/
15となるように混合し、トルエン溶媒中で五塩化タン
タルを触媒として重合さ−せて。
ポリスチレン換算の重量平均分子量が120万である置
換アセチレン共重合体を作り、ついでこれをトルエンに
溶解し、ガラス板上にキャスティングして膜厚ts4の
フィルムを作った。
換アセチレン共重合体を作り、ついでこれをトルエンに
溶解し、ガラス板上にキャスティングして膜厚ts4の
フィルムを作った。
ついで、このフィルムをフタル酸ジオクチル液を収容し
た□乾燥器に入れてから乾燥機を150℃に加熱してフ
タル酸ジオクチルを揮発させてフィルムがフタル酸ジオ
クチル液とは接触しないが蒸気とは接触するようにして
1時間加熱したのち、フィルムを取り出してIR分析し
たところ、このフィルムにフタル酸ジオクチルの吸着さ
れていることが認められた。
た□乾燥器に入れてから乾燥機を150℃に加熱してフ
タル酸ジオクチルを揮発させてフィルムがフタル酸ジオ
クチル液とは接触しないが蒸気とは接触するようにして
1時間加熱したのち、フィルムを取り出してIR分析し
たところ、このフィルムにフタル酸ジオクチルの吸着さ
れていることが認められた。
つぎにこのようにして得た処理フィルムとこのような処
理をしなかった未処理フィルムについて。
理をしなかった未処理フィルムについて。
その酸素および窒素の透過係数を測定すると共に。
これらを50℃の空気中で30日間保存した後の透過係
数を測定してこれらの経時安定性をしらべたところ、第
1表に示したとおりの結果が得られた。
数を測定してこれらの経時安定性をしらべたところ、第
1表に示したとおりの結果が得られた。
実施例2〜5.比較例2
実施例1で使用したモノマーA、Bおよび式%式%
で示される1−(1’、1’、4’、4’−テトラメチ
ル−1’、4’−ジシラペンチル)−1−プロピン(以
下上ツマ−Cと略記する)を使用した第2表に示した七
ツマ−Aのホモポリマー、モノマーAとモノマーBとの
共重合体、モノマーAとモノマーCとの共重合体の4種
をセルロースアセテート多孔質上に膜厚0.2.または
10uとなるようにコーティングして分離膜を作り、実
施例1と同じ方法でこれを第2表に示した各種の有機物
質の蒸気の存在下に第2表に示した加熱処理条件で加熱
処理し、得られた分離膜の酸素、窒素のガス透過係数を
測定すると共に、これらを50℃で30日間保存後のガ
ス透過係数を測定してその経時安定性をしらべたところ
、第2表に示したとおりの結果が得られた。
ル−1’、4’−ジシラペンチル)−1−プロピン(以
下上ツマ−Cと略記する)を使用した第2表に示した七
ツマ−Aのホモポリマー、モノマーAとモノマーBとの
共重合体、モノマーAとモノマーCとの共重合体の4種
をセルロースアセテート多孔質上に膜厚0.2.または
10uとなるようにコーティングして分離膜を作り、実
施例1と同じ方法でこれを第2表に示した各種の有機物
質の蒸気の存在下に第2表に示した加熱処理条件で加熱
処理し、得られた分離膜の酸素、窒素のガス透過係数を
測定すると共に、これらを50℃で30日間保存後のガ
ス透過係数を測定してその経時安定性をしらべたところ
、第2表に示したとおりの結果が得られた。
手続補正書
昭和61年6月27日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^1は水素原子またはメチル基、R^2、R
^3、R^4は水素原子、同一または異種の炭素数1〜
8の1価炭化水素基、またはけい素原子含有1価炭化水
素基から選択される原子または基)で示される構造単位
を含有する重合体から作られた膜状体を、沸点100〜
500℃/5mmHgの物質の蒸気の存在下に熱処理す
ることを特徴とする分離膜の製造方法。 2、重合体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^5はメチル基、エチル基またはフェニル基
、aは1または2)で示される構造単位を少なくとも1
%含有する置換ポリアセチレン化合物である特許請求の
範囲第1項記載の分離膜の製造方法。 3、熱処理が100〜200℃の温度範囲で行われる特
許請求の範囲第1項記載の分離膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7017986A JPS62227411A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 分離膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7017986A JPS62227411A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 分離膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62227411A true JPS62227411A (ja) | 1987-10-06 |
JPH0423571B2 JPH0423571B2 (ja) | 1992-04-22 |
Family
ID=13424039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7017986A Granted JPS62227411A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 分離膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62227411A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8394506B2 (en) | 2007-03-09 | 2013-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Helical substituted polyacetylene structure, method for producing the same, device structure, ion transport film and gas separation film |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6135824A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体透過膜 |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP7017986A patent/JPS62227411A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6135824A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体透過膜 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8394506B2 (en) | 2007-03-09 | 2013-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Helical substituted polyacetylene structure, method for producing the same, device structure, ion transport film and gas separation film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0423571B2 (ja) | 1992-04-22 |
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