JPS62217442A - デイスクスタンパの製造方法 - Google Patents
デイスクスタンパの製造方法Info
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- JPS62217442A JPS62217442A JP5835586A JP5835586A JPS62217442A JP S62217442 A JPS62217442 A JP S62217442A JP 5835586 A JP5835586 A JP 5835586A JP 5835586 A JP5835586 A JP 5835586A JP S62217442 A JPS62217442 A JP S62217442A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、ビデオディスク、デジタルオーディオディス
ク、ドキュメントファイルディスク等の情報記録ディス
クを複製するためのスタンパの製造方法に関する。
ク、ドキュメントファイルディスク等の情報記録ディス
クを複製するためのスタンパの製造方法に関する。
従来、ビデオディスク、デジタルオーディオディスク、
ドキュメントファイルディスクなどの情報記録ディスク
を得るために、例えば情報記録に応じた微細パターンが
刻設された複製酸部ちスタンパを用いて、塩化ビニルと
酢酸ビニルの共重合体を圧縮成形し、或いはアクリル樹
脂やポリカーボネート樹脂を射出成形して情報記録用デ
ィスクを製作しＣいる。
ドキュメントファイルディスクなどの情報記録ディスク
を得るために、例えば情報記録に応じた微細パターンが
刻設された複製酸部ちスタンパを用いて、塩化ビニルと
酢酸ビニルの共重合体を圧縮成形し、或いはアクリル樹
脂やポリカーボネート樹脂を射出成形して情報記録用デ
ィスクを製作しＣいる。
このスタンパは、次のような工程を経て製造される。
まず、ガラス等の基板に感光性樹脂膜を塗布し、光学的
エツチング処理を施し”Ｃ所望の微細パターンを刻設し
て原盤を作製し、これに銀鏡、無電解ニッケルめっき、
蒸着、スパッタ等により金属薄膜を設ける。更にこの上
にニッケル電気めっきにより所望の厚さまで肉盛りした
のち、これを剥離してニッケル膜のマスターとする。そ
してこのマスター表面に付着している感光性樹脂を洗い
流した後、マスター表面を重クロム酸カリウムの水溶液
中で処理して剥ｆＩｍ膜を形成する。次いでこの剥離膜
の上にニッケル電気めっきにより所望の厚さまで肉盛り
したのち、これをマスターから剥離してマザーとする。
エツチング処理を施し”Ｃ所望の微細パターンを刻設し
て原盤を作製し、これに銀鏡、無電解ニッケルめっき、
蒸着、スパッタ等により金属薄膜を設ける。更にこの上
にニッケル電気めっきにより所望の厚さまで肉盛りした
のち、これを剥離してニッケル膜のマスターとする。そ
してこのマスター表面に付着している感光性樹脂を洗い
流した後、マスター表面を重クロム酸カリウムの水溶液
中で処理して剥ｆＩｍ膜を形成する。次いでこの剥離膜
の上にニッケル電気めっきにより所望の厚さまで肉盛り
したのち、これをマスターから剥離してマザーとする。
更に同様にしてこのマザーを重クロム酸カリウム水溶液
中で処理した後、ニッケル電気めっきし、これをマザー
から剥離してスタンパとする。
中で処理した後、ニッケル電気めっきし、これをマザー
から剥離してスタンパとする。
こうして得られたスタンパ、或いはマスター（マスター
スタンパ）を使用して原盤に設けられた微細パターンが
転写された情報記録用ディスクが製作される。
スタンパ）を使用して原盤に設けられた微細パターンが
転写された情報記録用ディスクが製作される。
このような工程におけるニッケル電気めりきは、一般的
にスルファミン酸ニッケル、臭化ニッケル、ホウ酸及び
ピット防止剤からなるめっき浴中で、粒状又は板状のニ
ッケルを陽極として行なわれる。
にスルファミン酸ニッケル、臭化ニッケル、ホウ酸及び
ピット防止剤からなるめっき浴中で、粒状又は板状のニ
ッケルを陽極として行なわれる。
しかしながら、このようなめっき浴から析出したニッケ
ル膜は裏面に凹凸が生ずる。このようなスタンパを使用
し゛Ｃ情報記録ディスクを複製すると、裏面の凹凸が信
号面に押出されて、基板に記録された信号を正確に複製
できないという問題点があった。
ル膜は裏面に凹凸が生ずる。このようなスタンパを使用
し゛Ｃ情報記録ディスクを複製すると、裏面の凹凸が信
号面に押出されて、基板に記録された信号を正確に複製
できないという問題点があった。
そこでこれまでは、この問題点を解決するために、裏面
をエメリーペーパー等で研磨し、平滑な面として使用す
ることが行なわれている。しかし、このような方法では
工程が煩雑になるとともに、スタンパが反りたり、信号
面に傷がつく等の問題点があった。
をエメリーペーパー等で研磨し、平滑な面として使用す
ることが行なわれている。しかし、このような方法では
工程が煩雑になるとともに、スタンパが反りたり、信号
面に傷がつく等の問題点があった。
〔発明の目的〕
本発明は、上述の問題点を解決し、裏面研磨の必要がな
〈従来と同様の工程で裏面が平滑で光沢のあるスタンパ
を容易に製造する方法を提供するものである。
〈従来と同様の工程で裏面が平滑で光沢のあるスタンパ
を容易に製造する方法を提供するものである。
本発明のディスクスタンパの製造方法は、原盤に記録さ
れた微細パターンを転写し′〔複製ディスクを作製する
際に用いるディスクスタンパを、アゾジスルホン酸を含
有するスルフアミノ酸ニッケル浴中で電鋳ニッケル膜を
形成することにより製造することを特徴とするものであ
る。
れた微細パターンを転写し′〔複製ディスクを作製する
際に用いるディスクスタンパを、アゾジスルホン酸を含
有するスルフアミノ酸ニッケル浴中で電鋳ニッケル膜を
形成することにより製造することを特徴とするものであ
る。
本発明の製造方法においては、スルファミン酸ニッケル
浴中にアゾジスルホン酸を含有させることにより、電鋳
時に析出したニッケル膜の組織が、柱状組織から、微細
な無定形組織となり、これより従来の製造方法によっ°
Ｃ得られたスタンパと比べて裏面の凹凸が減少し、平滑
になるものと考えられる。このアゾジスルホン酸は、ス
ルファミン酸ニッケル浴に所定量添加するか、あるいは
、陽極として白金、白金被覆チタン等の不溶解陽極を使
用する場合には、陽極でのスルファミノ酸イオンの酸化
反応により（１）式に示すようにアゾジスルホン酸が生
成するため、これを用いても良い。
浴中にアゾジスルホン酸を含有させることにより、電鋳
時に析出したニッケル膜の組織が、柱状組織から、微細
な無定形組織となり、これより従来の製造方法によっ°
Ｃ得られたスタンパと比べて裏面の凹凸が減少し、平滑
になるものと考えられる。このアゾジスルホン酸は、ス
ルファミン酸ニッケル浴に所定量添加するか、あるいは
、陽極として白金、白金被覆チタン等の不溶解陽極を使
用する場合には、陽極でのスルファミノ酸イオンの酸化
反応により（１）式に示すようにアゾジスルホン酸が生
成するため、これを用いても良い。
２５ｏ３ＮＨ，−−＋ ５ｏ３ＮＮＳＯニー＋ ４Ｈ”
＋ ４ ｅ−−・・−−−−−−（１）浴中における
アゾジスルホン酸の含有量は５ｍｙ／Ｌ〜５００ｍｆ／
Ｊ−の範囲が望ましい。その理由は５１／Ｊ以下の含有
量では、裏面の平滑化に充分な効果が得られない。また
５００ｍｆ７１以上の含有量では裏面の平滑化は飽和し
、その効果は向上せず、さらには、析出したニッケル膜
の内部応力が増加し、スタンパが反ってしまつ゛Ｃ１平
坦なものが得られにくくなるからである。
＋ ４ ｅ−−・・−−−−−−（１）浴中における
アゾジスルホン酸の含有量は５ｍｙ／Ｌ〜５００ｍｆ／
Ｊ−の範囲が望ましい。その理由は５１／Ｊ以下の含有
量では、裏面の平滑化に充分な効果が得られない。また
５００ｍｆ７１以上の含有量では裏面の平滑化は飽和し
、その効果は向上せず、さらには、析出したニッケル膜
の内部応力が増加し、スタンパが反ってしまつ゛Ｃ１平
坦なものが得られにくくなるからである。
以下に本発明を実施例に即して更に詳細に説明する。
実施例１
第１図に示した構造を有する電鋳装置を用いて以下の条
件でめっきを行なった。
件でめっきを行なった。
基板として用いたガラス板に塗布した感光性樹脂膜に光
学的エツチングを施し、微細パターンを刻設して原盤１
を得た。この原盤に金を０．３μ等蒸着し、原盤のパタ
ーン面に導電性を付与した。ついでこの原盤１を回転陰
極２にパターン面を露出面とするように取付けた。陽極
３としては、チタン製のケース内に粒状のニッケルを入
れたものを使用した。モーター７により約１００ ＲＰ
Ｍで回転している原盤１を、電析槽４のスルファミン酸
ニッケルめっき浴５の中で電源６により０．３−の厚さ
までニッケルめっきした。その後、原盤から電鋳膜を剥
離すると、表面に金を付着した電鋳ニッケル膜がディス
ク複製用マスタースタンパとして得られた。ここで用い
ためっき浴５は、スルファミン酸ニッケル６００ ｙ／
ｌ 、ホウ酸４０ｆ／１、臭化ニッケル５ ｔｔ４ビッ
ト防止剤ナイスター８０６（上材工業構製：商品名）
１ｙ／ｌとアゾジスルホン酸５０ｗｎ／ｌとから構成し
た。この時の電鋳条件は、めっき浴の浴温４５℃、電流
密度１２Ａ／ｄｍ’ 、浴の１）ｌ（４，２±０．２と
した。
学的エツチングを施し、微細パターンを刻設して原盤１
を得た。この原盤に金を０．３μ等蒸着し、原盤のパタ
ーン面に導電性を付与した。ついでこの原盤１を回転陰
極２にパターン面を露出面とするように取付けた。陽極
３としては、チタン製のケース内に粒状のニッケルを入
れたものを使用した。モーター７により約１００ ＲＰ
Ｍで回転している原盤１を、電析槽４のスルファミン酸
ニッケルめっき浴５の中で電源６により０．３−の厚さ
までニッケルめっきした。その後、原盤から電鋳膜を剥
離すると、表面に金を付着した電鋳ニッケル膜がディス
ク複製用マスタースタンパとして得られた。ここで用い
ためっき浴５は、スルファミン酸ニッケル６００ ｙ／
ｌ 、ホウ酸４０ｆ／１、臭化ニッケル５ ｔｔ４ビッ
ト防止剤ナイスター８０６（上材工業構製：商品名）
１ｙ／ｌとアゾジスルホン酸５０ｗｎ／ｌとから構成し
た。この時の電鋳条件は、めっき浴の浴温４５℃、電流
密度１２Ａ／ｄｍ’ 、浴の１）ｌ（４，２±０．２と
した。
こうして得られたスタンパの裏面の凹凸の間の差異の最
大値（ｐ−ｐ）をタリステップで測定した。
大値（ｐ−ｐ）をタリステップで測定した。
この結果を第１表に示した。
比較例
比較例として、アゾジスルホン酸を含有しない以外は実
施例１と同様なめつき浴、及び電鋳装置を使用し、ディ
スク複製用マスタースタンパを得た。このスタンパの裏
面の凹凸を実施例と同様にして測定した。この結果を第
１表に併記した０第１表 スタンパ裏面の粗さ 実施例２ 他の実施例として、陽極に、白金を被覆したチタン製の
円板状不溶解陽極を用い、まためっき浴としては、アゾ
ジスルホン酸は添加せず他は実施例と同様なものを使用
して、スタンパを製作した。
施例１と同様なめつき浴、及び電鋳装置を使用し、ディ
スク複製用マスタースタンパを得た。このスタンパの裏
面の凹凸を実施例と同様にして測定した。この結果を第
１表に併記した０第１表 スタンパ裏面の粗さ 実施例２ 他の実施例として、陽極に、白金を被覆したチタン製の
円板状不溶解陽極を用い、まためっき浴としては、アゾ
ジスルホン酸は添加せず他は実施例と同様なものを使用
して、スタンパを製作した。
この時処理枚数５牧目まではスタンパ裏面の凹凸は、約
５μｍ （ｐ−ｐ）と比較例と同様であったが、６枚目
から１０枚目までは、凹凸が除々に減少し、１１枚目以
後は、その凹凸が０．２μｓ （ｐ−ｐ） と実施例
１と同様の凹凸となった。この時のめっき浴中のアゾジ
スルホン酸の含有量は１１枚目で５１カであった。この
アゾジスルホン酸は陽極でのスルファミノ酸の酸化反応
により生成したものである。
５μｍ （ｐ−ｐ）と比較例と同様であったが、６枚目
から１０枚目までは、凹凸が除々に減少し、１１枚目以
後は、その凹凸が０．２μｓ （ｐ−ｐ） と実施例
１と同様の凹凸となった。この時のめっき浴中のアゾジ
スルホン酸の含有量は１１枚目で５１カであった。この
アゾジスルホン酸は陽極でのスルファミノ酸の酸化反応
により生成したものである。
また実施例１及び比較例で得たスタンパを使用し、射出
成形により、アクリル樹脂製情報記録ディスクを複製し
た。このディスクのＣ／Ｎ及びドロップアウトを測定し
たところ、実施例１のスタンパから得られたディスクの
Ｃ／Ｎ及びドロップアウトが、それぞれ６０ｄＢ及び１
００個／秒であったのに対し、比較例のスタンパから得
られたディスクのＣ／Ｎ及びドロップアウトは、それぞ
れ４６ｄＢ、 ２００個／秒であった。また、ディスク
表面は、実施例１のスタンパから得られたディスクが平
滑であったのに対し、比較例のスタンパから得られたデ
ィスクには凹凸が見られた。
成形により、アクリル樹脂製情報記録ディスクを複製し
た。このディスクのＣ／Ｎ及びドロップアウトを測定し
たところ、実施例１のスタンパから得られたディスクの
Ｃ／Ｎ及びドロップアウトが、それぞれ６０ｄＢ及び１
００個／秒であったのに対し、比較例のスタンパから得
られたディスクのＣ／Ｎ及びドロップアウトは、それぞ
れ４６ｄＢ、 ２００個／秒であった。また、ディスク
表面は、実施例１のスタンパから得られたディスクが平
滑であったのに対し、比較例のスタンパから得られたデ
ィスクには凹凸が見られた。
アゾジスルホン酸を含有するスルフアミノ酸ニッケル浴
中で電鋳ニッケル膜を形成する本発明のディスクスタン
パの製造方法は、平滑で光沢のある裏面を有するスタン
パを得ることができ、裏面研磨等の必要がなく、工程を
簡略化できる０
中で電鋳ニッケル膜を形成する本発明のディスクスタン
パの製造方法は、平滑で光沢のある裏面を有するスタン
パを得ることができ、裏面研磨等の必要がなく、工程を
簡略化できる０
第１図は本発明に用いた電鋳装置の模式縦断面図である
。 １ 原盤 ２ 回転陰極 ３ 陽極４ 電析槽
５ めりき浴 ６ 電源７ モーター 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１図
。 １ 原盤 ２ 回転陰極 ３ 陽極４ 電析槽
５ めりき浴 ６ 電源７ モーター 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１図
Claims (1)
- アゾジスルホン酸を含有するスルファミン酸ニッケル
浴中で電鋳ニッケル膜を形成することを特徴とするディ
スクスタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5835586A JPS62217442A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | デイスクスタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5835586A JPS62217442A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | デイスクスタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62217442A true JPS62217442A (ja) | 1987-09-24 |
Family
ID=13082011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5835586A Pending JPS62217442A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | デイスクスタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62217442A (ja) |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP5835586A patent/JPS62217442A/ja active Pending
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