JPS62212945A - 光磁気記録用媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業−１−の利用分野］ 本発明は光学的記録媒体における光磁気記録用媒体に関
するものである。

［従来の技術１ 従来、このような分野の技術としては、特開昭５２−３
１７０３号公報、および特開昭５２−１０９１９３号公
報に記載されるものがあった。以下、その構成を説明す
る。

従来の光磁気記録用媒体は、昂上類−遷移金属系合金の
非晶質層（以下、ＲＥ−７８層という）からなる光磁気
記録層を、基板ｌ−に形成した構造をしている。

ここで、ＲＥ、−７８層は、具体的にはＲＥとしてガド
リニウムウＧｄ、テルビウムＴｂ、ジスプロシウムＤｙ
等、丁にとして鉄ＦｅまたはコバルトＣＯを主成分とし
ている。このＲＥ−７８層は層面に対して垂直な磁化を
もつ、いわゆる垂直磁化膜である。

このようなＲＥ−７８層を用いた光磁気記録用媒体は、
１７１ｍφ程度に絞られたレーザビーム及び外部磁界を
用いた熱磁気書込み方式によって１０８ｂｉｔ／ｃ■２
というきわめて高密度な記録が可能で、しかも原理的に
は無限回に近い消去および再書込みができるという非常
に優れた特長を有する。

ＲＥ−ＴＮ層には大きく分けてＲＥ−鉄系とＲＥ−コバ
ルト系に分類される。

ＲＥ−鉄系は、優れた磁気および光磁気特性を有し、し
かも特性の分布が均一な膜もつくりゃすい。反面、耐食
性が非常に悪く、特に孔食の発生、発達が顕著であると
いう欠点を持っている。

一方、　ＲＥ−コバルト系は、耐食性の点では優れてい
るが、均一特性の膜が得にくく、またキュリ一点が高い
ために熱磁気書込み特性の点で。

ＲＥ−鉄系よりも劣っている。

ＲＥ−鉄系に少量のｃｏを添加することで、耐食性およ
び磁気・光磁気特性の両方を改善できることはよく知ら
れている。ところが、Ｃｏ添加はキュリ一点の急Ｉｌｌ
をひきおこし、Ｃｏの過度の添加は熱磁気書込みを困難
にするため、少量しか添加できない。少量のＣｏを添加
１．たＲＥ−鉄−コパル１層は、磁気および光磁気特性
におい′ＣＲＥ−鉄系およびＲＥ−コバルト系層のいず
れよりも俄れている。

その反面、耐食性に対してはＲＥ−鉄系よりも若Ｆ改善
されるものの、未だ不充分である。そこで。

保護層を被覆（コート）シて耐食性の改善が試みられて
いる。

［発明が解決しようとする問題点］ に記のＲＥ−鉄一コバルト層等は、光磁気材料として優
れた特性を有するものの、耐食性が著しく悪く、それを
防ぐために保護層で被覆することが必要となる。

しかしながら、！−分な保護性のある保護層の形成は容
易ではない。例えば、膜厚６００人のＲＥ−鉄−コバル
ト層を１０００人厚の二酸化ケイ素５ｉ０２または酸化
ケイ素ＳｉＯで被覆した場合、８５℃、８５％相対湿度
での３時間エイジング（ａｇｅｉｎｇ、放置）で、多数
の孔食が発生してしまう。また、ＲＥ−鉄−コバルト層
を１〜２μｍ厚のポリマー（ＰＭＭＡ、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン等の重合体）で被覆しても、同様に多
数の孔食が見られる。このように、耐食性防止のための
保護層の形成は、材質、膜厚、形成方法等において著し
く制限を受けるため、高信頼性を得ることが難しく、高
信頼性を得るためには媒体コストが高くなるおそれがあ
る。

本発明は、前記従来技術が持っていた問題点のうち、１
−分な耐食性と良好な光磁気特性を持った光磁気記録用
媒体を低コストで得ることが困難である点について解決
した光磁気記録用媒体を提供するものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前記問題点を解決するために、光磁気記録用媒
体において、この光磁気記録用媒体を、基板トに少なく
とも光磁気記録層、接着層及びカバー基板を順次形成し
た積層構造にすると共に、前記光磁気記録層をＲＥ　−
Ｆｅ　−Ｃｏ−Ｍ系合金で構成する。しかも、前記ＲＥ
は前記ＲＥ　−Ｆｅ　−Ｃｏ−Ｍ系合金における全体量
の１８〜３５原子％量を持った昂上類元素で、前記Ｆｅ
は鉄で、前記Ｃｏは前記全体ｂｔのＯ〜２０原２０原を
持ったコバルトで、前記Ｍは前記Ｆｅ−１１１：ｏ−Ｍ
全体量における２〜１０原子％量を持ち、かつ前記希」
−類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともジリ
コニウムＺｒ、モリブデンＮ。

またはタングステンＷのうちのいずれか１種または２種
以−１ニを含んで、それぞれ構成したものである。

［作用］ 本発明によれば、以−Ｌのように光磁気記録用媒体を構
成したので、ＲＥ　−Ｆｅ　−Ｃｏ−Ｍ系合金からなる
光磁気記録層は、高耐食性と良好な光磁気特性を持ち、
さらに高耐食性を持つために接着層及びカバー基板から
なる保護層に対する制限を緩和するように働く。接着層
及びカバー基板からなる保護層は、光磁気記録層を腐食
から積極的に保護するためのものでなくてよく、光磁気
記録層を機械的なダメージから保護すると共に、該光磁
気記録層が外気、水分、油等に直接さらされるのを防止
し、該光磁気記録層の耐食性を補助するものであればよ
い。そのため、塗布、スピンコード等の簡便な方式で、
光磁気記録層１−に接着層を形成した後、カバー基板を
貼着すれば、保護層を形成できる。従って前記問題点を
除去できるのである。

［実施例］ 第１図は本発明の第１の実施例を示す光磁気記録用媒体
の概略断面図である。

この光磁気記録用媒体は、透明度が高くかつ光学特性の
良いガラス板、あるいは樹脂板からなる基板１を有し、
その基板ｌにには、誘電体層２、ＲＥ−τ質層からなる
光磁気記録層３、接着層４、及びカバー基板５が順次積
層状態に形成されている。

誘電体層２は、カー効果エンハンスメントの働きをもつ
もので、例えば膜厚８０ｎ厘のＳｉＯで形成される。従
来における誘電体層はエンハンスメントと保護の働きを
兼ねていたため、材料の制限があったが、本実施例では
材料の制限をほとんどうけず、エンハンスメントに有利
な材料であれば、ＳｉＯ等、どのような材料でもよい。

光磁気記録層３を形成するＲＥ−７１層は、例えば膜厚
１２０ｎｍのＲＥ　　Ｆｅ　　Ｃｏ　　Ｍ系合金で作ら
れている。ここで、ＲＥは、Ｔｂ等の花（−類元素であ
り、その祉を該ＲＥ　−Ｆｅ　−Ｃｏ　−Ｍ合金におけ
る全体縫の１８〜３５原子％とする。ＣＯの鼠は前記全
体縫の０〜２０原子％とする。また、ＭはＦｅ、　Ｃｏ
、及び島土類元素以外の元素で、少なくともＺｒ、　Ｍ
ｏまたはＷのうちの１種または２種以上を含み、その量
をＦｅ＋Ｃｏ＋Ｍ全体縫の２〜全体厚子％とする。

光磁気記録層３を被覆する接着層４及びカバー基板５は
、光磁気記録層３の保護層として機能する。接着層４は
紫外線硬化樹脂の他、熱硬化樹脂、二液混合硬化樹脂等
、種々の材料で形成される。この接着層４にに貼着ｙれ
るカバー基板５は、基板ｌと同じ材ネ１、あるいは異な
る材料で形成され、しかもこれは透明、あるいは不透明
なものでよい。

（＋）以にのように構成された光磁気記録用媒体を用い
て光磁気記録ディスクを作り、そのディスクの回転数を
９００ｒｐ組該ディスク面に照射する半導体レーザ光を
６ｍＷ以下とした場合、ｌｐＬｍ程度の微小記録を得、
さらに１ｏ万回以Ｉ−の消去および再書込みの反復に耐
えることが確認できた。

（２）また、基板ｌ及びカバー基板５をポリカーボネー
ト基板、誘電体層２を膜厚８０ｎ＋＊のＳｉｎ膜で構成
すると共に、光磁気記録層３を以下の材料からなるＲＥ
−７１層で構成して耐食性の比較を行った。

試料　　　　ＲＥ−Ｔ質層 Ｎｏ、　ｌ　　　Ｔｂｔｏ（ＺｒｎＣｏ＋ｏＦｅａ６）
７゜Ｎｏ、　２　　　Ｔｂ３ｏ（ＺｒＢＣｏ＋ｏＦｅ８
２）７゜Ｎｏ、３　　　Ｔｂ３ｏ（ＭｏｎＣｏ＋ｏＦｅ
ｓ６）Ｉ。

Ｎｏ、４　　　Ｔｂ３ｏ（ＭｏｓＣｏ＋ｏＦｅｅ２）ｚ
。

Ｎｏ、　５　　　Ｔｂ３ｏ（Ｗ４Ｃｏ＋ｏＦｅａ６）Ｉ
。

Ｎｏ、６　　　Ｔｂ３ｏ（ＷａＣｏ＋ｏＦｅｅ２）ｔ。

Ｎｏ、７　　　Ｔｂ：ｌｏ（Ｃｏ＋ｏＦｅｑｏ）１゜Ｎ
ｏ、８　　　Ｔｂ３ｏＦｅｌ。

その結果、本実施例における光磁気記録用媒体Ｎｏ、１
〜Ｎ０２６は、＃食性が著しく優れていることが確認で
きた。

（３）次に、前記（２）の耐食性について第２図を参照
しつつ説明する。

第２図はＮｏ、　ｌ　−Ｎｏ、　８の試料を６５℃、８
５％相対湿度雰囲気中に保持した後の透過率変化を示す
。該雰囲気に試料を保持すれば、薄膜を貫通する孔食が
発生するため、その孔食敬の増加に伴ない透過率が増加
する。

試料Ｎｏ、７　、　　Ｎｏ、８の場合、接着層４及びカ
バー基板５による保護では十分でないことがわかる。こ
れに対して試料Ｎ０１１〜Ｎ０１６の場合、耐食性に優
れ、特にＺｒ、　）ｌｏまたはＷの添加量が多いほど、
高耐食性となる。

接着層４及びカバー基板５の働きは、ＲＥ−７１層の腐
食をいくらか防止するが、それよりもむしろ、機械的ダ
メージによるＲＥ−７１層の欠陥を防止し、またＲＥ−
ＴＭ層表面の汚染（コンタミネーシゴン）による劣化を
防ぐ役割が大きい。

このように、ＲＥ−ＴＭ層自体を高耐食性にしたため、
接着層４及びカバー基板５のみで高耐食性が得られる。

しかも、保護層を接着層４及びカバー基板５で構成した
ので、従来の酸化膜や窒化膜のような保護層とは異なり
、形成に手間がかからず、コストも低い。さらに、接着
層４を形成するための装置は、酸化膜や窒化膜を形成す
る装置よりも、簡単となる。

（４）本実施例において、ＲＥ　ｊ’ｆｉ、の含有鼠は
ＲＥ−７８層が垂直磁化膜となる範囲である。ＧＯはカ
ー回転角を増加させるが、その反面、キュリ一点を急に
１Ｍさせるため、過度に添加すると、熱磁気書込みが困
難になる。そのため、ＣＯ添加は２０％以ドとしである
。Ｚｒ、ＮｏまたはＷはその含有にが増大すると耐食性
が向１−するが、カー回転角の減少や、ヒステリシスカ
ーブ形状の劣化等をもたらす。そのため、耐食性改善効
果が太きく、かつ磁気・光磁気特性の劣化が小さい範囲
として、Ｚ「、ＭＯまたはＷのには２〜１０％の範囲と
している。

第３図は本発明の第２の実施例を示す光磁気記録用媒体
の概略断面図である。　この光磁気記録用媒体がト配給
１の実施例と異なる点は、カバーノλ板５と接着層４と
の間に、に方から誘電体層１２と光磁気記録層１３とを
配設し、両面記録型構造にしたことである。すなわち、
１、ｈの誘電体層１２及び光磁気記録層１３は、接着層
４をはさんでド方の誘電体層２及び光磁気記録層３と対
称構造をなし、その形状や材料も下方のものと略同様の
ものが使用される。このような構造にしても、１．配給
１の実施例と略同様の利点が得られる。

本発明はＬ記実流側に限定されず、種々の変形がｔ＋■
能である。その変形例として例えば次のようなものがあ
る。

（ｉ）基板１及びカバー基板５は、ガラス板や樹脂板に
のみ限定されるものではなく、板状、シート状、テープ
状、カード状、その他の形状で、しかも任意所望の材料
で構成することができる。

（ｉｉ）　　ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金におけるＲＥ
は、希土類としてＴｂを用いたが、Ｔｂ、　Ｄｙ、　Ｇ
ｄ、　Ｎｄ等の１種または２挿具１−の希」二類を用い
た場合でも、Ｚｒ、ＮｏまたはＷの添加の効果は上記実
施例と同様である。そのため、得られる光磁気記録用媒
体も、１−記実流側と同様の高耐食性を有する。

（ｉｉｉ）光磁気記録用媒体の断面構造は、第１図及び
第３図のものに限定されず、例えば基板１，５と光磁気
記録層３．１３との間に誘電体層２，１２がない構造で
あってもよい。

［発明の効果］ 以１−詳細に説明したように、本発明によれば、光磁気
記録層を形成するＲＥ−７８層として高−食性、かつ良
好な磁気・光磁気特性を持つ材料を用いるため、書込み
ｒｌｆ生特性が良くなると共に耐食性も向−１−する。

しかも、耐食性の向１−に起因して記録の安定性が著し
く良くなり、書込み再生特性の経時的変化も抑制できる
。さらに、保護層を接着層及びカバー基板で構成したの
で、従来のものに比べてそれらの形成に手間やコストが
かからず、しかもそれらの形成のための装置も簡単な装
置で足りる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例を示す光磁気記録用媒体
の概略断面図、第２図は耐食性の実験結果を示す図、第
３図は本発明の第２の実流側を示す光磁気記録用媒体の
概略断面図である。 １・・・↓（板、　　２，１２・・・誘電体層、　３，
１３・・・光磁気記録層、　　４・・・接着層、　　５
・・・カバー基板。 出願人　代理人　　柿　　本　　恭　成杢発明の米磁凭
肥録用媒体 第１図 第３図 １１１／Ｙ１２’）’１ 耐食性○寅験結果 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　基板上に少なくとも光磁気記録層、接着層及びカバー
   基板を順次積層状態に形成し、 前記光磁気記録層はＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金で構成
   し、 さらに、前記ＲＥは前記ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金に
   おける全体量の１８〜３５原子％量を持った希土類元素
   で、前記Ｆｅは鉄で、前記Ｃｏは前記全体量の０〜２０
   原子％量を持ったコバルトで、前記Ｍは前記Ｆｅ−Ｃｏ
   −Ｍ全体量における２〜１０原子％量を持ち、かつ前記
   希土類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともジ
   リコニウム、モリブデンまたはタングステンのうちの１
   種または２種以上を含んで、それぞれ構成したことを特
   徴とする光磁気記録用媒体。