JPS62273636A

JPS62273636A - 光磁気記録用媒体

Info

Publication number: JPS62273636A
Application number: JP11691886A
Authority: JP
Inventors: Masanobu Kobayashi; 小林　政信; Mutsumi Asano; 睦己浅野
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1986-05-21
Filing date: 1986-05-21
Publication date: 1987-11-27
Anticipated expiration: 2011-08-07
Also published as: JP2521713B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】３、発明の詳細な説明（産業上の利用分野）この発明は光学的記録用媒体、特に光磁気記録用媒体に
関する。

（従来の技術）情報処理技術の分野においては、情報の増大及び多様化
の急速な進展に伴ない、磁気メモリの記録容量、吉込み
回数等の一層の増大化等の要求が近年益々高まってきて
いる。そこで従来より、有望な光学的記録媒体の一つと
して希土類−遷移金属系合金の非晶質膜（以下、ＲＥ−
ＴＭ系合金層と称する。但しＲＥは希土類元素及びＴＭ
は遷移金属元素を表わす、）を光磁気記録層として用い
た光磁気記録用媒体が提案されている（例えば、特開昭
５２−３１７０３号或は特開昭５２−１０９１９３号参
照）。

これら公知のＲＥ−ＴＭ系合金層は具体的にはＲＥとし
てＧｄ（ガドリニウム’）　、Ｔｂ　（テルビウム）、
Ｄｙ（ジスプロシウム）その他の希土類元素とし、ＴＭ
としてはＦｅ（鉄）又はＧｏ（コバルト）を主成分とす
る。この膜は膜面に対して垂直な磁化をもったいわゆる
垂直磁化膜である。

このＲＥ−ＴＭ系合金層を記録層として用いた光磁気記
録用媒体はＩｇｍφ程度に絞られたレーザビーム及び外
部磁界を用いた熱磁気書込方式によって１０８ビツト／
　Ｃｍ　２という極めて高密度な記録が可能であり、し
かも、原理的には無限回に近い消去及び再書込みが可能
であるという著しく優れた特長を有していることが知ら
れている。

このＲＥ−ＴＭ系合金層は主としてＲＥ−Ｆｅ系と、Ｒ
Ｅ−Ｃｏ系とに分類される。

ＲＥ−Ｆｅ系は優れた磁気及び光８１％特性を有し、し
かも、特性の分布が均一な膜を作り易いという利点があ
るが、非常に耐食性が悪く、特に孔食の発生及び発達が
顕著であるという欠点がある。

一方、ＲＥ−Ｃｏ系は耐食性の点では優れているが、均
一特性の膜が得にくく、しかも、午ユリ一点が高いため
、熱磁気書込み特性の点でＲＥ−Ｆｅ系よりも劣ってい
る。

そこで従来は、周知の通り、ＲＥ−Ｆｅに少量のＣｏを
添加するのみで耐食性はもとより磁気及び光磁気特性の
両方の特性の改善を図っていた。

しかしながら、ＣＯの添加はキュリ一点の急上昇を引き
起し、過度に添加すると熱磁気書込みを困難にするため
、実際には少量しか添加していなかった。このように少
量のＧｏをＲＥ−Ｆｅに添加して得られ・たＲＥ−Ｆｅ
−Ｃｏ系合金層は、磁気及び光磁気特性の点において、
ＲＥ−Ｆｅ系及びＲＥ−Ｃｏ系の両会金層のいづれより
も優れているが、＃食性の点を比較すると、ＲＥ−Ｆｅ
系よりは改善されるが尚実用に供し得る程の耐食性を得
ることが出来なかった。

従って、この耐食性を改善する方法として、ＲＥ−ＴＥ
膜の記録層上に保護膜を設ける方法も行われている。こ
の保護膜は記録層を機械的損傷から保護すると共に、記
録層が外気、水分及び油等の外部雰囲気と直！接触しな
いように保護して、ＲＥ−ＴＥ膜の耐食性を高める一助
としての役割を果すものである。しかしながら１例えば
膜厚６００Ａ（７）ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏｉｌ！Ｉを１００
ＯＡの膜厚の５ｉ０２．ＳｉＯ又はＳｉ３Ｎ、で被覆し
た場合、８５°Ｃの温度及び８５％の相対湿度の条件下
で５０時間ニージングチストを行ったところ、多数の孔
食が発生してしまい、耐食性が悪いことがわかった。

又、耐食性を改善するための従来の他の方法として、Ｒ
Ｅ−７Ｍ膜に種々の元素を添加する方法かある。しかし
、これら元素の添加によって磁気或は光磁気特性が劣化
してしまう場合が多いため、この添加量を少量に抑える
必要がありが、その場合には、充分な耐食性を得ること
が出来ないことが多く、又、逆に充分な耐食性を得よう
とする場合には、添加量をふやし、その結果磁気又は光
磁気特性を犠牲にすることとなる。

（発明が解決しようとする問題点）このように、ＲＥ−Ｆｅ系合金層及びＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ
系合金層は光磁気材料としては優れた特性を有するが、
耐食性が著しく悪いという問題点がある。

また、この耐食性の欠陥を補う方法として、従来は記録
層上に保護膜を設けたり、或は上述したように種々の元
素の添加を行っているが、いづれの方法も耐食性を実用
レベルにまで充分に改善することが出来ないという問題
点があった。

この発明の目的は、充分実用に供し得る耐食性を有し、
優れた磁気及び光磁気特性を併せ持った光磁気記録用媒
体を提供することにある。

（問題点を解決するための手段）この目的の達成を図るため、この発明においては、光磁
気記録用媒体の記録層としての光磁気記録層をＲＥ　−
ＴＭ系合金層（但しＲＥは希土類元素及びＴＭは遷移金
属元素を表わす）を含む層とする。

そして、この記録層を、不活性金属層及びＲＥ−ＴＭ系
合金層とを交互に積層して成る多層膜を以って構成する
。この多層膜は組成変調多層膜であり、いわゆる人工格
子層である。この場合の積層の最初と最後の膜は同一の
膜又は異なる膜としても良い。

この発明の実施に当り、不活性金属層をＡｕ。

Ａｇ、Ｐｔ　、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｎｉ及びＣｏ（７）
群から選ばれた一種又は二種以上の金属を含む膜１例え
ば合金層、とするのが好適である。又、積層する各不活
性金属層を全て同一の金属からなる膜としても良いし、
或は、異種金属から成る膜との組み合わせであっても良
く、これらは設計に応じて任意好適に設定することが出
来る。

さらに、この発明の好適実施例によれば、　　ＲＥ−Ｔ
Ｍ系合金層をＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ系合金層とし、Ｆｅを鉄
とし、Ｃｏをコバルトとし、ＲＥの量をこの合金の全体
量の１８〜３５原子％とし。

Ｃｏの量を２０原子％以下とすることが出来る。

また、このＣＯを含まないＲＥ−ＴＭ系合金層としても
良い。

さらに、この発明の好適実施例では、ＲＥ−ＴＭ系合金
層の膜厚をａとし及び不活性金属層の膜厚をｂとしたと
き、ａ　／　ｂ≧７／３とし、かつ、ｂ≦５０Ａとする
のが良い、この場合、それぞれ積層すべき膜の膜厚を同
一としても良いし、或は異なる膜厚としても良く、設計
に応じて設定することが出来るものとする。

（作用）この発明の光磁気記録用媒体においても、記録層として
の人工格子層はＲＥ−ＴＭ系合金層を有しているので、
この発明の光磁気記録用媒体は従来と同様に良好な光磁
気特性を有すると共に、この人工格子層は、ＴＲ−ＴＭ
層に対して、Ａｕ。

Ａｇ、ＰＬ　、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｎｆ及びＣｏの群か
ら選ばれた一種又は二種以上の金属を含む不活性金属層
を交互に積層した構造となっているため、光磁気特性を
劣化する恐れなくして不活性金属を記録層中に多量に含
ませることが出来、従って、後述する実験結果からも理
解出来るように。

ＲＥ−ＴＭ層に不活性金属を合金化して形成した記録層
の場合よりも、耐食性が著しく向上する。

（実施例）以下１図面を参照してこの発明の実施例につき説明する
。尚、この発明は以下の特定実施例により説明するが、
これら実施例は単なる好適例の例示であって、この発明
は、特に限定している場合を除き、これら実施例に掲げ
られた材料、形状。

数値的条件及び配置関係にのみ限定されるものではない
ことを理解されたい。

う１　　　のＵ第１図はこの発明の光磁気記録用媒体を使用した光磁λ
記録媒体の一実施例をその構造が理解出来る程度に示す
略図的要部断面図である。同図において図の複雑化を回
避するため、断面を表わすハツチング等を一部分省略し
て示す。

第１図において、ｌは基板で、この基板ｌとして充分に
平滑でかつ透明なガラス基板或は樹脂基板を用いる。２
はこの基板１の上側に設けた誘電体層であり、カー効果
エンハンスメントの働きを有する。従来はこの誘電体層
はカー効果エンハ　　。

ンスメントと、保護層との働きを兼用していたので、使
用材料に制限があったが、この発明では保護層との１動
きを考慮しなくても良いので、カー効果エンハンスメン
トに有利な材料であれば良く、例えば膜厚８００ＡのＳ
ｉＯ膜先使先使用ことが出来る。

この誘電体層２の上側に光磁気記録層３としての多層膜
である人工格子膜を具えている。この実施例ではこの人
工格子層３は基板側から不活性金属層４とＲＥ−ＴＭ層
５とを交互に一層ずつ順次に積層させた積層体として構
成している。このＲＥ−ＴＭ層５を例えばＴ　ｂ　３ｏ
（Ｃｏ　ｓ　Ｆ　ｅ９２　）　７゜（但し、Ｔｂはテル
ビウムである）とし及び不活性金属層４を例えばＮｉ、
Ｇｏ又はＰｔの単体金属層とした。また、この実施例で
は、ＲＥ−７Ｍ層５の一層の膜厚を９０．８５．８０及
び７０Ａとそれぞれした場合に、不活性金属層４の一層
の膜厚を１０．１５．２０及び３０Ａとそれぞれ対応さ
せ、全体で１０周期積層させて１００ＯＡ厚の人工格子
層３とした。

さらに、この人工格子層３上に例えばこの人工格子層に
用いたと同一の不活性金属で形成した保護層６として被
着する。この実施例では、この保護層６の膜厚を１００
ＯＡとした。

このようにして形成された光磁気記録用媒体からなるデ
ィスクを回転数９０Ｏｒｐｍで回転させ、媒体面で６ｍ
Ｗ以下の半導体レーザ光を用いてこの媒体に書込みを行
って、約１ｐｍ径程度の微小記録を得、また、１０万回
以上の消去及び再書込みの反復に耐えることを確認した
。

カー電１−　　びキュリーく次に、上述した構成の光磁気記録用媒体の一例につき、
カー回転角及びキュリ一点に関しての実験結果に基づい
て、この記録用媒体の性質につき説明する。

第２図はこの記録用媒体の人工格子層３の成分組成をＭ
　Ｘ　（Ｔ　ｂ３０　（ＣＯ＠　Ｆ　ｅｅ）ｚ　）７．
）ｔｏｏ−Ｘとして表わしたとき１ＭとしてＧｏ（コバ
ルト）。

Ｎｉにッケル）又はｐｔ（白金）のそれぞれのカー回転
角の大きさを示す図であり、横軸に平均組成比Ｘを取り
及び縦軸に不活性金属層４のないＴ　ｂ３０　（ＣＯｓ
　Ｆｅ９２　）７．の単層とした場合のカー回転角ｅｋ
ｏを基準としたカー回転角θに／ｅｋＯを取って示しで
ある。尚、この平均組成比ＸはＲＥ−７Ｍ層５と不活性
金属層４との膜厚比すなわち６膜の原子密度と膜厚とに
よって求められた値である。この図において、実線は積
層構造の人工格子層４を具えるこの発明に係る媒体のカ
ー回転角であり、破線は比較例として示したＲＥ−ＴＭ
層にＮｉ、Ｃｏ又はＰｔをそれぞれ合金化した媒体のカ
ー回転角である。

また、このＣＯの含有量とキュリ一点との関係を第３図
に示し、横軸に第２図の場合と同様なＭＸ　（Ｔ　ｂ３
ｐ　（ＣＯｇ　Ｆ　ｅ９２）７ｃ＋　）ｔｏｏ−ｘ　（
７）平均組成比Ｘを取り及び縦軸にキュリ一点（７℃）
を取って示してあり、実線及び破線はＣｏの不活性金属
層を含むこの発明の媒体及びＣＯをＲＥ−ＴＭ層に合金
化した場合の媒体のキュリ一点をそれぞれ示す。

これら実験結果から理解出来るように、積層構造である
人工格子層の場合には、Ｎｉ及びＰｔを過度に含む場合
にはカー回転角の減少が起るが、平均組成比Ｘがｘ＝３
０のあたりであってもその減少量は小さいことがわかる
。従って１１Ｌ層構造の場合のカー回転角の減少は合金
化した場合のそれよりも小さい、一方、ＣＯの場合には
含有量が多くなるとカー回転角が増大すると共にキュリ
一点を急上昇させる傾向にあるが、同様に組成比ＸがＸ
＝３０のあたりでもその上昇を小さく抑えていることか
分る。従って、積層構造の場合の書込みの困難性は合金
の場合の困難性よりも遥に小さい、このように、カー回
転角の減少及びキュリ一点の上昇を小さく抑えることが
出来るは、この発明の媒体が合金ではなく積層構造であ
るため、ＲＥ−ＴＭ層に対するＮｉ、Ｐｔ或はｃｏの影
響が小さいからであると考えられる。

上述したように、ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ膜においてＣｏを増
加させるとカー回転角が増大するが、一方キューり点が
急上昇するので、Ｃｏの過度の添加は熱磁気書込みが困
難となる。そのため、ＲＥ−ＴＭＩＩＩにおけるＣｏ量
は２０％以下とするのが良い。

１皇五次に、この発明の光磁気記録用媒体の耐食性につき第４
図に示した実験結果を参照して説明する。

従来より、ＲＥ−ＴＭ層にＮｉ、Ｃｏ又はｐｔの添加量
が多いほど耐食性が増加することが知られている。この
発明の光磁気記録用媒体に対して耐食性の比較試験を行
ったところ、著しく耐食性が優れていることが確認され
た。

この耐食性試験に用いた記録用媒体の記録層を次の表Ｉ
に示す０ｇＩ料番号Ｎｏ、１は従来の記録層であり、資
料番号２〜６は第１図につき説明した積層構造の記録層
を有する媒体である。尚、この記録層“全体の厚みを１
００ＯＡとなるようにした。

表Ｉ資料　　　　　　　記録層番号Ｎｏ　、　Ｉ　　Ｔｂ　３ｏ（Ｃｏｙ　Ｆｅｑｚ　）７
１１１０００　Ａ　　（比較例）Ｎｏ　、　２　　Ｔｂ
　３ｏ　ＣＣａ５　Ｆｅｒｔｚ　）７，９０　Ａ　／旧
１０Ａの周期構造Ｎｏ、３　　Ｔｂ３．（Ｃ０８Ｆｅ９
２）７，８５Ａ／Ｎｉ１５Ａの周期構造Ｎｏ　、４−　
Ｔｂ　３０　（Ｃｏｔ　Ｆｅｙｚ　）ｚ、８０　Ａ　／
旧２０Ａの周期構造Ｎｏ、５　　Ｔｂ３０（ＣａＩＩＦ
ｅｇ２）７，８０Ａ／Ｃｏ２０Ａの周期構造Ｎｏ、６　
　Ｔｂ３（７（ＣｏｇＦｅｙｚ）７，８０Ａ／Ｐｔ２０
Ａの周期構造以下、この耐食性につき述べる。

一般に、Ｆｅ系の光磁気記録用媒体は高湿度雰囲気中に
おいて孔食を生じ、この孔食は薄膜を貫通する。そのた
め、孔食量の増加に伴ない、光透過率が増大する。従っ
て、光透通事変化の大小で耐食性を評価することが出来
る。従って、この試験では、光磁気記録用媒体を温度８
５℃及び相対湿度８５％の雰囲気中に保持した場合につ
き、各光磁気記録用媒体の光透過率の経時的変化を調べ
た。尚、この場合の光透過率の変化は各保持時間の経過
後の光透過率Ｔとこの雰囲気中に入れる前の状態での光
透過率（初期値という）Ｔｏとの比で表わした透過率比
Ｔ／Ｔｏとした。

第４図は資料番号Ｎｏ、１．２，３，４，５゜６につい
ての試験結果を、それぞれ横軸に保持時間（単位は時間
：／ｈ）及び縦軸に光透過率を取って示しである。

第４図に示す実験結果からも理解出来るように、不活性
金属層４を有しない記録層（資料番号ＮＯ，１）と比較
して、ＮＥ、Ｃｏ又はＰｔの不活性金属層４を積層させ
た人工格子層３の光磁気記録媒体（資料番号ＮＯ１２〜
６）の場合には光透過率比が約１００分の一以下と小さ
くなることが理解出来る。また、Ｎｉ層を不活性金属層
４として代表して示した（Ｎｏ、２〜４）光透過率から
理解出来るように、これら不活性金属の含有量が増加す
るに応じて従来の記録用媒体よりも光透過率比が著しく
小さくなり従って高耐食性となることが分かる。

尚、上述したＴ　ｂ　３６　（ＣＯｇ　Ｆ　ｅｑ２）？
、単層の場合（資料番号Ｎｏ、１）も、上部に保護膜を
被着しであるため、保護膜のない場合よりは耐食性が優
れてはいるが、保護膜の欠陥等のため孔食は避けられな
い。

尚、この表工に例示した実施例でＲＥ−７Ｍ層５の膜厚
をａとし不活性金属層４の膜厚をｂとすると、　ＤＩ厚
比（４／ｂ）がａ／ｂ≧７／３となるが、このように選
定した理由はＲＥ−７Ｍ層５の割合が小さくなると、第
２図に示すように、特性の劣化を来すからである。

また、厚みｂをｂ≦５０Ａと選定した理由は、不活性金
属層４が厚すぎると、繰り返し周期数が少なくなって１
１１層構造の意味がなくなること及び不活性金属層がそ
れよりも厚くなるとＲＥ−ＴＭ層の磁化特性が劣化して
しまうからである。

従って、これらの厚みの条件を満足すれば、その範囲内
において、厚みａ及びｂを設計に応じて任意に設定する
ことが出来ると共に、一つの人工格子層３を構成する各
層毎或は複数層毎に厚みを変えても良い。

ｉ亙］この発明は上述した実施例にのみ限定されるものではな
く、この発明の範囲内において多くの変形又は変更が可
能である。

例えば上述した実施例では希土類元素（ＲＥ）としてＴ
ｂにつき説明したが、このＴｂとは別の希土類元素例え
ばＤｙ（ジスプロシウム）　　、Ｇｄ（ガドリニウム）
、Ｎｄ（ネオジム）及びその他から選ばれた一種又は二
種以上の希土類元素を用いた場合であっても、不活性金
属層４をＲｅ−ＴＭ層と積層構造にした効果はＴｂの場
合と全く同様に有効であり、従って、優れた光磁気記録
特性を有しかつ高耐食性を有する光磁気記録用媒体を得
ることが出来る。

また、一般にＲＥ−ＴＭ層に対する不活性金属添加効果
はＲＥ−ＴＭＩＩＩの種類にかかわらず同様である。従
って、上述した実施例では、ＲＥ−ＴＭ層としてＲＥ−
Ｆｅ−Ｃｏ合金層を用いた例につき説明したが、この合
金層と不活性金属層との積層により、ＲＥ−Ｆｅ合金層
であっても前述のＲＥ−Ｆｅ−Ｃｃ合金層との積層の場
合と同等の効果を期待出来る。

また、耐食性増大のために積層する不活性金属層４とし
ては、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｐｔ　、Ａｕ、Ａｇ。

Ｐｄ、Ｉｒ及びＲｈのいづれか一種又は二種の元素を含
んでいれば良い、二種以上の元素とする場合には合金と
するのが好適である。

また、人工格子層３を形成するために順次に積層する不
活性金属層４の各層及びＲＥ−ＴＭ層５の各層はそれぞ
れ一層毎に或は複数層毎に成分を異ならしても良い、ま
た、人工格子層３の外側の二つの層は互いに同一の層又
は異種の層であっても良い。

さらに、この発明の記録用媒体は基板１と人工格子層３
との間の誘電体層２を省略した構造となっていても良い
し、保護層６の上側に接着層を介してカバー基板層（図
示していない）を設けた構造としても良い。

さらに、保護膜として、従来と同様に酸化膜或いは窒化
膜であっても良いし、或はポリカーボネート樹脂膜、ポ
リウレタン、エポキシ、ポリイミド、フロロカーボン、
ポリキシレン、ポリビニル、ポリアミド、ポリサルファ
イド又はその他のポリマー材料を含む層であっても良い
。

さらに、基板ｌとしてポリカーボネート基板を例に揚げ
て説明したが、ガラスその他の任意好適な材料を用いる
ことが出来ると共に、その形状の板状、シート状、テー
プ状、目的に適ったその他の任意形状とすることが出来
る。

また、上述した実施例の説明で掲げた数値は単なる一好
適例であるので、この発明はこれらの値に限定されるも
のではない。

（発明の効果）上述した説明から明らかなように、この発明による光磁
気記録用媒体は、記録層をＲＥ−ＴＭ層と不活性金属層
との積層構造としたので、従来のような不活性金属をＲ
Ｅ−ＴＭ層に合金化した記録層と比較して特性の劣化が
少なく、かつ、多量に不活性金属を混入することが出来
る。従って、耐食性が従来よりも著しく向上するという
効果がある。

この耐食性の向上に起因して、記録の安定性が著しく向
上するため、記録用媒体の書込み及び再生特性の経時的
劣化を効果的に抑制出来る。

また、この発明で用いた記録層の耐食性が著しく高いの
で、保護層として、従来安価に入手出来しかも簡単な手
法によって記録層上に被着出来るポリで−材料による層
を用いることが出来、従って１歩留まりが向上し、安価
なかつ高信頼性の記録用媒体を提供することが出来る。

また、従来と同様に、この記録用媒体自体の性質により
、高密度記録が可能となり、記録感度が良いという利点
を有する。

また、この発明の光磁気記録用媒体はレーザ光を用いて
書込み及び消去が可能であり、使用光源に関する従来の
ごとき種々の制約が著しく軽減されるという利点がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録用媒体を示す略図的要部断
面図、第２図〜第４図はこの発明による光磁気記録用媒体の特
性の説明にそれぞれ供するカー回転角、キュリ一点及び
光透過率の実験結果を示す曲線図である。ｌ・・・基板、　　　　　　　２・・・誘電体層３・・
・記録層（人工格子層）４・・・不活性金属層、　　５・・・ＲＥ−ＴＭ層６・
・・保護層。Ｘキエリー、！、曲轢第３図保持吟声Ａ　／　ｈ耐食性説明図第４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）、記録層にＲＥ−ＴＭ系合金層（但しＲＥは希土
類元素及びＴＭは遷移金属元素を表わす）を含む光磁気
記録用媒体において、記録層を、不活性金属層及びＲＥ−ＴＭ系合金層とを交
互に積層して成る多層膜を以って構成したことを特徴とする光磁気記録用媒体。
（２）前記不活性金属層をＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉ
ｒ、Ｒｈ、Ｎｉ及びＣｏの群から選ばれた一種又は二種
以上を含む膜としたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項に記載の光磁気記録用媒体。
（３）、前記ＲＥ−ＴＭ系合金層をＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ系
合金層とし、Ｆｅを鉄とし、Ｃｏをコバルトとし、前記
ＲＥの量を前記合金の全体量の１８〜３５原子％とし、
前記Ｃｏの量を２０原子％以下としたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の光磁気記録用
媒体。
（４）、前記ＲＥ−ＴＭ系合金層をＲＥ−Ｆｅ系合金層
とし、Ｆｅを鉄とし、前記ＲＥの量を前記合金の全体量
の１８〜３５原子％としたことを特徴とする特許請求の
範囲第１項又は第２項に記載の光磁気記録用媒体。
（５）前記ＲＥ−ＴＭ系合金層の膜厚をａとし及び前記
不活性金属層の膜厚をｂとしたとき、ａ／ｂ≧７／３と
し、かつ、ｂ≦５０Ａとしたことを特徴とする特許請求
の範囲第１項〜第４項のいづれかに記載の光磁気記録用
媒体。