JPS62232737A - 光磁気記録用媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光学的記録媒体における光磁気記録用媒体に関
するものである。

（従来の技術） 従来、このような分野の技術としては、特開昭５２−３
１７０３吋公報、および特開昭５２−１０９１９３捷公
報に記載されるものがあった。以下、その構成を説明す
る。

従来の光磁気記録用媒体は、希土類−遷移金属系合金の
非晶質層（以ド、　ＲＥ−ＴＭ層という）からなる光磁
気記録層を、基板上に形成した構造をしている。

ここで、ＲＥ−ＴＭ層は、具体的にはＲＥとしてガドリ
ニウムＧｄ、テルビウムＴｂ、ジスプロシウムＯｙ等、
ＴＭとして鉄ＦｅまたはコバルトＣＯを主成分としてい
る。このＲＥ−７８層は層面に対して垂直な磁化をもつ
、いわゆる垂直磁化膜である。

このようなＲＥ−ＴＭ層を用いた光磁気記録用媒体は、
　１１φ程度に絞られたレーザビーム及び外部磁界を用
いた熱磁気書込み方式によって１０’ｂ＋　ｔ／　ｃｒ
ａ２　というきわめて高密度な記録が可能で、しかも原
理的には無限回に近い消去および再書込みができるとい
う非常に優れた特長を有する。

ＲＥ−７Ｍ層には大きく分けてＲＥ−鉄系とＲＥ−コバ
ルト系に分類される。

ＲＥ−鉄系は、優れた磁気および光磁気特性を有し、し
かも特性の分布が均一な膜もつくりやすい０反面、耐食
性が非常に悪く、特に孔食の発生、発達が顕著であると
いう欠点を持っている。

一方、ＲＥ−コバルト系は、耐食性の点では優れている
が、均一特性の膜が得にくく、またキュリ一点が高いた
めに熱磁気書込み特性の点で、ＲＥ−鉄系よりも劣って
いる。

ＲＥ−鉄系に少量のＣＯを添加することで、耐食性およ
び磁気・光磁気特性の両方を改善できることはよく知ら
れている。ところが、ＧＯ添加はキュリ一点の急上昇を
ひきおこし、ＣＯの過度の添加は熱磁気書込みを困難に
するため、少量しか添加できない。少量のＣＯを添加し
たＲＥ−鉄−コバルト層は、磁気および光磁気特性にお
いてＲＥ−鉄系およびＲＥ−コバルト系層のいずれより
も優れている。

その反面、耐食性に対してはＲＥ−鉄系よりも若干改善
されるものの、未だ不充分である。そこで、保護層を被
覆（コート）シて耐食性の改善が試みられて慎＼る。

（発明が解決しようとする問題点） 上記のＲＥ−鉄一コバルト層は、光磁気材料として優れ
た特性を有するものの、耐食性が著しく悪く、それを防
ぐために保護層で被覆することが必要となる。

しかしながら、十分な保護性のある保護層の形成は容易
ではない０例えば、膜厚６００ＡのＲＥ−鉄−コバルト
層を１０００λ厚の二酸化ケイ素５ｉ０２または酸化ケ
イ素ＳｉＯで被覆した場合、８５℃、８５％相対湿度で
の３時間エイジング（ａｇｅｉｎｇ、放置）で、多数の
孔食が発生してしまう、また、ＲＥ−鉄一コバルト層を
１〜２　ｐ−ｔｓ厚のポリマー（ＰＭＭＡ、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン等の重合体）で被覆しても、同様
に多数の孔食が見られる。このように、耐食性防止のた
めの保護層の形成は、材質、膜厚、形成方法等において
著しく制限を受けるため、高信頼性を得ることが難しく
、高信頼性を得るためには媒体コストが高くなるおそれ
がある。

本発明は、前記従来技術が持っていた問題点のうち、十
分な耐食性と優れた光磁気特性を持った光磁気記録用媒
体を低コストで得ることが困難である点について解決し
た光磁気記録用媒体を提供するものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は前記問題点を解決するために、基板上に少なく
とも光磁気記録層を形成すると共にその光磁気記録層を
保護する保護層を形成した光磁気記録用媒体において、
前記光磁気記録層をＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−一系合金で形成
すると共に、前記保護層をポリマーで形成する。しかも
、前記ＲＥは前記ＲＥ−Ｆｅ−ｃｏ−Ｍ系合金における
全体量の１８〜３５原子％徒を持った希土類元素で、前
記Ｆｅは鉄で、前記Ｃｏは前記全体量のθ〜２０原子％
量を持ったコバルトで、前記Ｍは前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ全
体量における２〜ＩＯ原子％量を持ち、かつ前記希土類
元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともジリコニ
ウムＺｒ、モリブデンＮｏ、タングステンＷまたはバナ
ジウムＶのうちの１種または２種以上を含んで、それぞ
れ構成したものである。

（作　用） 本発明によれば１以上のように光磁気記録用媒体を構成
したので、　ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金からなる光磁
気記録層は、高耐食性と良好な光磁気特性を持ち、さら
に高耐食性を持つために保、１層に対する制限を緩和す
るように慟（、保護層は、光磁気記録層を腐食から積極
的に保護するためのものでなくてよく、光磁気記録層を
機械的なダメージから保護すると共に、該光磁気記録層
が外気、水分、油等に直接さらされるのを防止し、該光
磁気記録層の耐食性を補助するものであればよい。その
ため、保護層は、光磁気記録層上に塗布したり、あるい
はスピンコードやスプレー等の簡便な方法で形成可能な
ポリマー剤を用いることができる。

従って前記問題点を除去できるのである。

（実施例） 第１図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図である。

この光磁気記録用媒体は、透明度が高くかつ光学特性の
良いガラス板、あるいは樹脂板からなる基板ｌを有し、
その基板ｌ上には、誘電体層２、ＲＥ−Ｔ）ＩＩ　ＫＪ
ｊからなる光磁気記録層３、及びポリマーからなる保護
層４が、順次積層状態に形成されている。

誘電体層２は、カー効果エンハンスメントの働きをもつ
ので１例えば膜厚８０ｎ層のＳｉＯで形成される。従来
における誘電体層はエンハンスメントと保護の働きを兼
ねていたため、材料の制限があったが、本実施例では材
料の制限をほとんどうけず、エンハスメントに有利な材
料であれば、ＳｉＯ等、どのような材料でもよい。

光磁気記録層３を形成するＲＥ−７Ｍ層は、例えば膜厚
１２０ｎｍのＲＥ−Ｆｅ−ｃｏ−Ｍ系合金で作られてい
る。

ここで、ＲＥは、Ｔｂ等の希土類元素であり、その場を
該ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金における全体量の１８〜
３５原子％とする。Ｃｏの雀は前記全体量の０〜２０原
子％とする。また、ＭはＦｅ、　Ｃｏ、及び希土類元素
以外の元素で、少なくともＺ「、Ｍ、、ＷまたはＶのう
ちの１種または２種以上を含み、その量をＦｅ＋Ｃｏ＋
Ｍ全体州の２〜１０ｊ′；Ａ子％とする。

光磁気記録層３を被覆する保護層４は、ポリカーボネー
ト、ＰＭＭＡ、ポリエステル、ポリスチレン等のポリマ
ー材料により、膜厚が例えばＩｇｍ程度に形成されてい
る。

（１）以上のように構成された光磁気記録用媒体を用い
て光磁気記録ディスクを作り、そのディスクの回転数を
９０Ｏｒｐｍ、　＃ディスク面に照射する半導体レーザ
光を６ｍｗ以下とした場合、　　ｌ＝麿程度の微小記録
を得、さらにｌＯ万ガロ上の消去および可書込みの反復
に耐えることが確認できた。

（２）また、基板１をポリカーボネート基板、誘電体層
２を膜厚８０ｎｍのＳｉＯ膜で構成すると共に、光磁気
記録層３及び保護層４をそれぞれ次表のような材料から
なるＲＥ−７Ｍ層及びポリマ一層で構成して耐食性の比
較を行った。

その結果１本実施例における光磁気記録用媒体ＮＯ，４
，Ｅｉ、８，１０，１２，１４．１Ｂ、１．８は、耐食
性が著しく優れていることが確認できた。

（３）次に、前記（２）の耐食性について第２図（１）
。

（２）　、（３）　、（４）を参照しつつ説明する。

第２図（１）〜（４）は、ＮＯ，１〜Ｎ０．１８の試料
を６５’０８５％ＲＨ相対湿度雰囲気中に保持した後の
透過率変化を示す、該雰囲気に試料を保持すれば、薄膜
を貫通する孔食が発生するため、その孔食量の増加に伴
ない透過率が増加する。

Ｎ００１のノンコート媒体に比べ、Ｎ０９２のポリマー
コート媒体は改善が見られるが、ポリマーコートのみで
は不完全であることがわかる。　ＮＯ，３゜５．７，９
，１１，１３，１５．１７のＺｒ、　Ｎｏ、　Ｗまたは
Ｖの添加ノンコート媒体は、　ＲＥ−ＴＭ重層体が耐食
性が大きく、Ｚｒ、　Ｎｏ、　ＷまたはＶの添加量が増
加するほど、高耐食性となる。

ＲＥ−ＴＭ重層体の耐食性が増大するほど、ポリマ一層
の有無による差は小さくなる。しかし、ノンコート媒体
では、腐食のみでなく１機械的ダメージによる欠陥の形
成や、その欠陥が原因となる腐食や、表面の種々の汚染
（コンタミネーション）による劣化があるが、これらを
ポリマ一層により防ぐことができる。

このように、ＲＥ−ＴＮ層自体を高耐食性にし、ざらに
ポリマ一層でコートした媒体は、耐食性が著しく優れて
いることがわかる。しかも、ポリマ一層を使用するので
、従来の酸化膜や窒化膜のような保護層とは異なり、形
成に手間がかからず、コストも低い、さらに、このよう
なポリマ一層を形成するための装置は、酸化膜や窒化膜
を形成する装置よりも、簡単となる。

（４）本実施例のＲＥ−Ｔ）１層において、Ｔｂ量の範
囲はＲＥ−７８層が垂直磁化膜となる範囲である。　Ｃ
ｏはカー回転角を増加させるが、その反面、キュ１）一
点を急上昇させるため、過度に添加すると、熱磁気書込
みが困難となる。そのため、Ｃｏ添加は２０％以下とし
である。また、　Ｚｒ、　Ｎｏ、　ＷまたはＶはその添
加量が多くなるに伴なって耐食性を向上させるが、その
反面、カー回転角の減少、ヒステリシス曲線の角形性の
劣化等をもたらす、そのため、Ｚｒ、　Ｍｏ、　Ｗまた
はＶの量は、耐食性の改善効果が大きく、かつ磁気・光
磁気特性の劣化が小さい範囲として、２〜１０％として
いる。

本発明は上記実施例に限定されず、種々の変形が可能で
ある。その変形例として例えば次のようなものがある。

（ａ）基板ｌは、ガラス板や樹脂板にのみ限定されるも
のではなく、板状、シート状、テープ状、その他の形状
で、しかも任意所望の材料で構成することができる。

（ｂ）　ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−に系合金におけるＲＥは、
希土類としてＴｂを用いたが、Ｔｂ、Ｄテ、Ｃｄ、Ｎｄ
等の１Ｍまたは２種以上の希土類を用いた場合でも、Ｚ
ｒ、　Ｎｏ、　ＷまたはＶの添加の効果は上記実施例と
同様である。そのため、得られる光磁気記録用媒体も、
上記実施例と同様の高耐食性を有する。

（Ｃ）保護層４を形成するポリマーは、上記実施例で例
示したものに限定されず、ポリウレタン、エポキシ、ポ
リイミド、フロロカーボン、ポリキシレン、ポリビニル
、ポリアミド、ポリサルファイド等の種々の材料が使用
できる。

（ｄ）光磁気記録用媒体の断面構造は、第１図のものに
限定されず１例えば基板ｌと光磁気記録層３との間に誘
電体層２かない構造であってもよい。

また、光磁気記録層３と保護層４との間に、誘電体層、
あるいは反射膜層等を具える構造であってもよい。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、光磁気記
録層を形成するＲＥ−７８層として高耐食性、かつ優れ
た磁気・光磁気特性を持つ材料を用いるため、書込み、
再生特性が向上すると共に耐食性も向旧する。しかも、
耐食性の向上に起因して記録の安定性が著しく良くなり
、書込み、再生特性の経時的変化も抑制できる。さらに
、保護層をポリマーで形成したので、従来のものに比べ
て保護層の形成に手間やコストがかからず、しかも保護
層の形成のための装置も簡単な装置で足りる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図、第２図（１）、（２）、（３）、（４）は耐食
性の実験結果を示す図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・誘電体層、３・・
・・・・光磁気記録層、４・・・・・・保護層。 出願人代理人　　　柿　　本　　恭　　成体↑丹肖開（
時間） イ吊梧昭間（曲間） 耐食柱の実験結果 第２図 や　咽　÷ 胚と丈 や　甚　制

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　基板上に少なくとも光磁気記録層を形成すると共にそ
   の光磁気記録層を保護する保護層を形成した光磁気記録
   用媒体において、 前記光磁気記録層はＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金で、前
   記保護層はポリマーでそれぞれ形成し、 さらに、前記ＲＥは前記ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金に
   おける全体量の１８〜３５原子％量を持った希土類元素
   で、前記Ｆｅは鉄で、前記Ｃｏは前記全体量の０〜２０
   原子％量を持ったコバルトで、前記Ｍは前記Ｆｅ−Ｃｏ
   −Ｍ全体量における２〜１０原子％量を持ち、かつ前記
   希土類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともジ
   リコニウム、モリブデン、タングステンまたはバナジウ
   ムのうちの１種または２種以上を含んで、それぞれ構成
   したことを特徴とする光磁気記録用媒体。