JPS62200550A - 光磁気記録用媒体 - Google Patents
光磁気記録用媒体Info
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- JPS62200550A JPS62200550A JP4061986A JP4061986A JPS62200550A JP S62200550 A JPS62200550 A JP S62200550A JP 4061986 A JP4061986 A JP 4061986A JP 4061986 A JP4061986 A JP 4061986A JP S62200550 A JPS62200550 A JP S62200550A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光学的記録媒体における光磁気記録用媒体に関
するものである。
するものである。
(従来の技術)
従来、このような分野の技術としては、特開昭52−3
1703号公報、および特開昭52−109193号公
報に記・1表されるものがあった。以下、その構成を説
明する。
1703号公報、および特開昭52−109193号公
報に記・1表されるものがあった。以下、その構成を説
明する。
従来の光磁気記録用媒体は、希土類−遷移全屈系合金の
非晶質層(以下、RE−78層という)からなる光磁気
記録層を、基板上に形成した構造をしている。
非晶質層(以下、RE−78層という)からなる光磁気
記録層を、基板上に形成した構造をしている。
ここで、RE−78層は、具体的にはREとしてガドリ
ニウムGd、テルビウムTb、ジスプロシウムD!等、
TMとして鉄FeまたはコバルトCoを主成分としてい
る。このRE−78層は層面に対して垂直な磁化をもつ
、いわゆる垂直磁化膜である。
ニウムGd、テルビウムTb、ジスプロシウムD!等、
TMとして鉄FeまたはコバルトCoを主成分としてい
る。このRE−78層は層面に対して垂直な磁化をもつ
、いわゆる垂直磁化膜である。
このようなRE−78層を用いた光磁気記録用媒体は、
Igmφ程度に絞られたレーザビーム及び外部磁界
を用いた熟磁気古込み方式によって108b i t
/ cm2 というきわめて高密度な記録が可使で、し
かも原理的には無限回に近い消去および再書込みができ
るという非常に優れた特長を有する。
Igmφ程度に絞られたレーザビーム及び外部磁界
を用いた熟磁気古込み方式によって108b i t
/ cm2 というきわめて高密度な記録が可使で、し
かも原理的には無限回に近い消去および再書込みができ
るという非常に優れた特長を有する。
RE−7M層には大きく分けてRE−鉄系とRE−コバ
ルト系に分類される。
ルト系に分類される。
RE−鉄系は、優れた磁気および光磁気特性を有し、し
かも特性の分布が均一な膜もつくりやすい0反面、耐食
性が非常に悪く、特に孔食の発生、発達が顕著であると
いう欠点を持っている。
かも特性の分布が均一な膜もつくりやすい0反面、耐食
性が非常に悪く、特に孔食の発生、発達が顕著であると
いう欠点を持っている。
一方、RE−コバルト系は、耐食性の点では優れている
が、均一特性の膜が得に〈〈、またキュリ一点が高いた
めに熱磁気書込み特性の点で、RE−鉄系よりも劣って
いる。
が、均一特性の膜が得に〈〈、またキュリ一点が高いた
めに熱磁気書込み特性の点で、RE−鉄系よりも劣って
いる。
RE−鉄系に少量のCoを添加することで、耐食性およ
び磁気Q光磁気特性の両方を改善できることはよく知ら
れている。ところが、Co添加はキュリ一点の急上昇を
ひきおこし、 Coの過度の添加は熱磁気占込みを困難
にするため、少量しか添加できない。少量のCoを添加
したRE−鉄−コバルト層は、磁気および光磁気特性に
おいてRE−鉄系およびRE−コバルト系層のいずれよ
りも優れている。
び磁気Q光磁気特性の両方を改善できることはよく知ら
れている。ところが、Co添加はキュリ一点の急上昇を
ひきおこし、 Coの過度の添加は熱磁気占込みを困難
にするため、少量しか添加できない。少量のCoを添加
したRE−鉄−コバルト層は、磁気および光磁気特性に
おいてRE−鉄系およびRE−コバルト系層のいずれよ
りも優れている。
その反面、耐食性に対してはRE−鉄系よりも若干改善
されるものの、未だ不充分である。そこで、保護層を被
覆(コート)シて耐食性の改りが試みられている。
されるものの、未だ不充分である。そこで、保護層を被
覆(コート)シて耐食性の改りが試みられている。
(発明が解決しようとする問題点)
上記のRE−鉄−コバルト層は、光磁気材料として優れ
た特性を有するものの、耐食性が著しく悪く、それを防
ぐために保護層で被覆することが必要となる。
た特性を有するものの、耐食性が著しく悪く、それを防
ぐために保護層で被覆することが必要となる。
しかしながら、十分な保護性のある保護層の形成は容易
ではない0例えば、膜厚600人のRE−鉄一コバルト
層を1000人厚の二酸化ケイ素5i02または酸化ケ
イ素SiOで被覆した場合、85℃、85%相対湿度で
の3時間エイジング(ageing、放22)で、多数
の孔食が発生してしまう。また、 RE−鉄−コバルト
層を1〜2ル劇厚のポリマー(PM)IIA、ポリカー
ボネート、ポリスチレン等の重合体)で被覆しても、同
様に多数の孔食が見られる。このように、耐食性防止の
ための保護層の形成は、材質、膜厚、形成方法等におい
て著しく制限を受けるため、高信頼性を得ることが難し
く、高信頼性誓書るためには媒体コストが高くなるおそ
れがある。
ではない0例えば、膜厚600人のRE−鉄一コバルト
層を1000人厚の二酸化ケイ素5i02または酸化ケ
イ素SiOで被覆した場合、85℃、85%相対湿度で
の3時間エイジング(ageing、放22)で、多数
の孔食が発生してしまう。また、 RE−鉄−コバルト
層を1〜2ル劇厚のポリマー(PM)IIA、ポリカー
ボネート、ポリスチレン等の重合体)で被覆しても、同
様に多数の孔食が見られる。このように、耐食性防止の
ための保護層の形成は、材質、膜厚、形成方法等におい
て著しく制限を受けるため、高信頼性を得ることが難し
く、高信頼性誓書るためには媒体コストが高くなるおそ
れがある。
本発明は、前記従来技術が持っていた問題点のうち、十
分な耐食性と優れた光磁気特性を持った光磁気記録用媒
体を低コストで得ることが困難である点について解決し
た光磁気記録用媒体を提供するものである。
分な耐食性と優れた光磁気特性を持った光磁気記録用媒
体を低コストで得ることが困難である点について解決し
た光磁気記録用媒体を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は前記問題点を解決するために、基板上に少なく
とも光磁気記録層を形成すると共にその光磁気記録層を
保護する保護層を形成した光磁気記録用媒体において、
前記光磁気記録層をRE−Fe−Co−に系合金で形成
すると共に、前記保護層をポリマーで形成する。しかも
、前記REは前記RE−Fe−Co−に系合金における
全体量の18〜35原子%;翳を持った希土類元素で、
前記Feは鉄で、前記Coは前記全体量の0〜20原子
%量を持ったコバルトで、前記Mは前記Fe−Co−H
全体量における2〜IO原子%量を持ち、かつ前記希土
類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともクロム
Crを含んで、それぞれ構成したものである。
とも光磁気記録層を形成すると共にその光磁気記録層を
保護する保護層を形成した光磁気記録用媒体において、
前記光磁気記録層をRE−Fe−Co−に系合金で形成
すると共に、前記保護層をポリマーで形成する。しかも
、前記REは前記RE−Fe−Co−に系合金における
全体量の18〜35原子%;翳を持った希土類元素で、
前記Feは鉄で、前記Coは前記全体量の0〜20原子
%量を持ったコバルトで、前記Mは前記Fe−Co−H
全体量における2〜IO原子%量を持ち、かつ前記希土
類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともクロム
Crを含んで、それぞれ構成したものである。
(作 用)
本発明によれば、以上のように光磁気記録用媒体を構成
したので、RE−Fe−Co−M系合金からなる光磁気
記録層は、高耐食性と良好な光磁気特性を持ち、さらに
高耐食性を持つために保、/J層に対するfjI限を緩
和するように働く、保護層は、光磁気記録層を腐食から
積極的に保護するためのものでなくてよく、光磁気記録
層を機械的なダメージから保護すると共に、該光磁気記
録層が外気、水分、油に直接さらされるのを防止し、該
光磁気記録層の耐食性を補助するものであればよい、そ
のため、保護層は、光磁気記録層上に塗布したり、ある
いはスピンコードやスプレー等の簡便な方法で形成可俺
なポリマー剤を用いることができる。
したので、RE−Fe−Co−M系合金からなる光磁気
記録層は、高耐食性と良好な光磁気特性を持ち、さらに
高耐食性を持つために保、/J層に対するfjI限を緩
和するように働く、保護層は、光磁気記録層を腐食から
積極的に保護するためのものでなくてよく、光磁気記録
層を機械的なダメージから保護すると共に、該光磁気記
録層が外気、水分、油に直接さらされるのを防止し、該
光磁気記録層の耐食性を補助するものであればよい、そ
のため、保護層は、光磁気記録層上に塗布したり、ある
いはスピンコードやスプレー等の簡便な方法で形成可俺
なポリマー剤を用いることができる。
従って前記kI題点を除去できるのである。
(実施例)
第1図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図である。
断面図である。
この光磁気記録用媒体は、透明度が高くかつ光学特性の
良いガラス板、あるいは樹脂板からなる基板lを有し、
その基板l上には、誘電体層2、RE−78層からなる
光磁気記録層3、及びポリマーからなる保護層4が、順
次積層状態に形成されている。
良いガラス板、あるいは樹脂板からなる基板lを有し、
その基板l上には、誘電体層2、RE−78層からなる
光磁気記録層3、及びポリマーからなる保護層4が、順
次積層状態に形成されている。
誘電体層2は、カー効果エン/\ンスメントの働きをも
つので、例えば膜厚80n+wのSiOで形成される。
つので、例えば膜厚80n+wのSiOで形成される。
従来における誘電体層はエンノ\ンスメントと保護の働
きを兼ねていたため、材料の制限があったが、本実施例
では材料の制限をほとんどうけず、エンハスメントに有
利な材料であれば、SiO笠、どのような材料でもよい
。
きを兼ねていたため、材料の制限があったが、本実施例
では材料の制限をほとんどうけず、エンハスメントに有
利な材料であれば、SiO笠、どのような材料でもよい
。
光磁気記録層3を形成するRE−7M層は、例えば膜厚
120nmのRE−Fe−Co−M系合金で作られてい
る。
120nmのRE−Fe−Co−M系合金で作られてい
る。
ここで、 REは、 Tb等の希土類元素であり、その
量を該RE−Fe−Co−H系合金における全体量の1
8〜35原千%とする。COの量は前記全体量の0〜2
0原子%とする。また1MはFe、 Co、及び希土類
元素以外の元素、例えばC「であり、その量をFe+C
o十N全体!辻の2〜10原子%とする。
量を該RE−Fe−Co−H系合金における全体量の1
8〜35原千%とする。COの量は前記全体量の0〜2
0原子%とする。また1MはFe、 Co、及び希土類
元素以外の元素、例えばC「であり、その量をFe+C
o十N全体!辻の2〜10原子%とする。
光磁気記録層3を被覆する保護層4は、ポリカーボネー
ト、PMMA、ポリエステル、ポリスチレン等のポリマ
ー材料により、膜厚が例えばlpm程度に形成されてい
る。
ト、PMMA、ポリエステル、ポリスチレン等のポリマ
ー材料により、膜厚が例えばlpm程度に形成されてい
る。
(1)以上のように構成された光磁気記録用媒体を用い
て光磁気記録ディスクを作り、そのディスクの回転数を
90Orpm、該ディスク面に照射する半導体レーザ光
を611%#以下とした場合、・IJL11程度の微小
記録を得、さらに1o万回以上の消去および再書込みの
反復に耐えることが確認できた。
て光磁気記録ディスクを作り、そのディスクの回転数を
90Orpm、該ディスク面に照射する半導体レーザ光
を611%#以下とした場合、・IJL11程度の微小
記録を得、さらに1o万回以上の消去および再書込みの
反復に耐えることが確認できた。
(2)また、基板lをポリカーボネート基板、誘電磁気
記録層3及び保護層4をそれぞれ以下の材料からなるR
E−7M層及びポリマ一層で構成して耐食性の比較を行
った。
記録層3及び保護層4をそれぞれ以下の材料からなるR
E−7M層及びポリマ一層で構成して耐食性の比較を行
った。
ポリマ一層
試 料 RE−7M層 (ポリカーボネート)
NO,I Tb:+o(Cr3Co+oFe+u)1o
右NO,2Tb:+o(Cr3Co+oFeaz)lo
無NO,3Tb:+o(Cr7CoHFeB3)7o右
NO,4Tb3q(Cr3Co+oFe+u)1o
無N005 Tb3o(Cr+oCo
+oFeso)lo有NO,8Tb3o(Cr+oCo
+oFeso)zo無NO,7Tb:+o(Co+oF
e9o)lo右N0.8 Tb3o(Co+oFeqo
)to無その結果、本実施例における光磁気記録用媒体
NO,l、NO,3,NO,5は、耐食性が著しく優れ
ていることが確認できた。
右NO,2Tb:+o(Cr3Co+oFeaz)lo
無NO,3Tb:+o(Cr7CoHFeB3)7o右
NO,4Tb3q(Cr3Co+oFe+u)1o
無N005 Tb3o(Cr+oCo
+oFeso)lo有NO,8Tb3o(Cr+oCo
+oFeso)zo無NO,7Tb:+o(Co+oF
e9o)lo右N0.8 Tb3o(Co+oFeqo
)to無その結果、本実施例における光磁気記録用媒体
NO,l、NO,3,NO,5は、耐食性が著しく優れ
ていることが確認できた。
(3)次に、前記(2)の耐食性について第2図を参照
しつつ説明する。
しつつ説明する。
第2図は、N091〜N018の試料を65℃85%R
H相対湿度雰囲気中に保持した後の透過率変化を示す。
H相対湿度雰囲気中に保持した後の透過率変化を示す。
該雰囲気に試料を保持すれば、薄膜を貫通する孔食が発
生するため、その孔食量の増加に伴ない透過率が増加す
る。
生するため、その孔食量の増加に伴ない透過率が増加す
る。
NO68のノンコート媒体に比べ、N087のポリマー
コート媒体は改善が見られるが、ポリマーコートのみで
は不完全であることがわかる。NO,2,NO,4NO
06のC「添加ノンコート媒体は、RE−TM層自体が
耐食性が大きく、Cr添加量が増加するほど、高耐食性
となる。
コート媒体は改善が見られるが、ポリマーコートのみで
は不完全であることがわかる。NO,2,NO,4NO
06のC「添加ノンコート媒体は、RE−TM層自体が
耐食性が大きく、Cr添加量が増加するほど、高耐食性
となる。
RE−TM層自体の耐食性が増大するほど、ポリマ一層
の有無による差は小さくなる。そのため、試料のN00
3とN004、N005とN096には、透過率変化に
関してほとんど差がない。ところが、ノンコート媒体で
は、腐食でなく、機械的ダメージによる穴(ピット)の
形成、さらにそのピットが原因となる腐食や、表面の種
々の汚染(コンタミネーション)による劣化があるが、
これらをポリマ一層により防ぐことができる。
の有無による差は小さくなる。そのため、試料のN00
3とN004、N005とN096には、透過率変化に
関してほとんど差がない。ところが、ノンコート媒体で
は、腐食でなく、機械的ダメージによる穴(ピット)の
形成、さらにそのピットが原因となる腐食や、表面の種
々の汚染(コンタミネーション)による劣化があるが、
これらをポリマ一層により防ぐことができる。
このように、RE−T刊層自体を高耐食性にし、ざらに
ポリマ一層でコートした媒体は、耐食性が著しく優れて
いることがわかる。しかも、ポリマ一層を使用するので
、従来の酸化膜や窒化膜のような保護層とは異なり、形
成に手間がかからず、コストも低い。しかも、このよう
なポリマ一層を形成するための装置は、磁化膜や窒化+
+12を形成する装置よりも、筒中となる。
ポリマ一層でコートした媒体は、耐食性が著しく優れて
いることがわかる。しかも、ポリマ一層を使用するので
、従来の酸化膜や窒化膜のような保護層とは異なり、形
成に手間がかからず、コストも低い。しかも、このよう
なポリマ一層を形成するための装置は、磁化膜や窒化+
+12を形成する装置よりも、筒中となる。
(4)本実施例のRE−78層において、Tb州の範囲
はRE−78層が垂直磁化膜となる範囲である。Coは
カー回転角θkを増加させるが、その反面、キュリ一点
を急上昇させるため、過度に添加すると、熱磁気書込み
が困難となる。そのため、Co添加は20%以下としで
ある。また、Crはその添加量が多くなるに伴なって耐
食性を向]二させるが、その反面、カー回転角Okの減
少、キュリ一点の低下、角形ヒステリシスの劣化等をも
たらす。そのため、Cr量は、耐食性の改み効果が大き
く、かつ磁気・光磁気特性の劣化が小さい範囲として、
2〜lO%としている。
はRE−78層が垂直磁化膜となる範囲である。Coは
カー回転角θkを増加させるが、その反面、キュリ一点
を急上昇させるため、過度に添加すると、熱磁気書込み
が困難となる。そのため、Co添加は20%以下としで
ある。また、Crはその添加量が多くなるに伴なって耐
食性を向]二させるが、その反面、カー回転角Okの減
少、キュリ一点の低下、角形ヒステリシスの劣化等をも
たらす。そのため、Cr量は、耐食性の改み効果が大き
く、かつ磁気・光磁気特性の劣化が小さい範囲として、
2〜lO%としている。
本発明は上記実施例に限定されず、種々の変形が可能で
ある。その変形例として例えば次のようなものがある。
ある。その変形例として例えば次のようなものがある。
(a)基板lは、ガラス板や樹脂板にのみ限定されるも
のではなく、板状、シート状、テープ状、その他の形状
で、しかも任意所望の材料で構成することができる。
のではなく、板状、シート状、テープ状、その他の形状
で、しかも任意所望の材料で構成することができる。
(b) RE−Fe−Co−M系合金におけるREは、
希土類としてTbを用いたが、Tb、Dy、Gd、Nd
等の1種または2種以上の希土類を用いた場合でも、C
「添加の効果は上記実施例と同様である。そのため、得
られる光磁気記録用媒体も、上記実施例と同様の高耐食
性を有する。
希土類としてTbを用いたが、Tb、Dy、Gd、Nd
等の1種または2種以上の希土類を用いた場合でも、C
「添加の効果は上記実施例と同様である。そのため、得
られる光磁気記録用媒体も、上記実施例と同様の高耐食
性を有する。
(C)保護層4を形成するポリマーは、上記実施例で例
示したものに限定されず、ポリウレタン、エポキシ、ポ
リイミド、フロロカーボン、ポリキシレン、ポリビニル
、ポリアミド、ポリサルファイド等の種々の材料が使用
できる。
示したものに限定されず、ポリウレタン、エポキシ、ポ
リイミド、フロロカーボン、ポリキシレン、ポリビニル
、ポリアミド、ポリサルファイド等の種々の材料が使用
できる。
(d)光磁気記録用媒体の断面構造は、第1図のものに
限定されず、例えば基板lと光磁気記録層3との間に誘
電体層2かない構造であってもよい。また、光磁気記録
層3と保護層4との間に、誘電体層、あるいは反射膜層
等を具える構造であってもよい。
限定されず、例えば基板lと光磁気記録層3との間に誘
電体層2かない構造であってもよい。また、光磁気記録
層3と保護層4との間に、誘電体層、あるいは反射膜層
等を具える構造であってもよい。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明によれば。
光磁気記録層を形成するRE−78層として高耐食性、
かつ良好な磁気・光磁気特性を持つ材木〒1を用いるた
め、書込み再生特性が良くなると共に耐食性も向」ニす
る。しかも、耐食性の向りに起因して記録の安定性が著
しく良くなり、占込み再生特性の経時的変化も抑制でき
る。さらに、保護層をポリマーで形成したので、従来の
ものに比べて保護層の形成にf間やコストがかからず、
しかも保護層の形成のための装置も簡単な装置で足りる
。
かつ良好な磁気・光磁気特性を持つ材木〒1を用いるた
め、書込み再生特性が良くなると共に耐食性も向」ニす
る。しかも、耐食性の向りに起因して記録の安定性が著
しく良くなり、占込み再生特性の経時的変化も抑制でき
る。さらに、保護層をポリマーで形成したので、従来の
ものに比べて保護層の形成にf間やコストがかからず、
しかも保護層の形成のための装置も簡単な装置で足りる
。
第1図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図、第2図は耐食性の実験結果を示す図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・誘電体層、3・・
・・・・光磁気記録層、4・・・・・・保護層。 ゛出願人代理人 柿 本 恭 数箱1図 保持時間(時間) 耐食性の実験結果 第2図
断面図、第2図は耐食性の実験結果を示す図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・誘電体層、3・・
・・・・光磁気記録層、4・・・・・・保護層。 ゛出願人代理人 柿 本 恭 数箱1図 保持時間(時間) 耐食性の実験結果 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に少なくとも光磁気記録層を形成すると共にそ
の光磁気記録層を保護する保護層を形成した光磁気記録
用媒体において、 前記光磁気記録層はRE−Fe−Co−M系合金で、前
記保護層はポリマーでそれぞれ形成し、 さらに、前記REは前記RE−Fe−Co−M系合金に
おける全体量の18〜35原子%量を持った希土類元素
で、前記Feは鉄で、前記Coは前記全体量の0〜20
原子%量を持ったコバルトで、前記Mは前記Fe−Co
−M全体量における2〜10原子%量を持ち、かつ前記
希土類元素、鉄及びコバルト以外の元素で少なくともク
ロムを含んで、それぞれ構成したことを特徴とする光磁
気記録用媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4061986A JPS62200550A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 光磁気記録用媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4061986A JPS62200550A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 光磁気記録用媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62200550A true JPS62200550A (ja) | 1987-09-04 |
Family
ID=12585545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4061986A Pending JPS62200550A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 光磁気記録用媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62200550A (ja) |
-
1986
- 1986-02-26 JP JP4061986A patent/JPS62200550A/ja active Pending
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