JPS62212605A - 光導波路の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は結晶基板の表面の一部へ金属を加熱拡散し、屈
折率を高めて光導波路を作成する方法に関し、とくにＬ
ｉ２Ｂ２Ｏ，結晶基板を用いた金属加熱拡散による光導
波路の作製方法に関するものである。

〈従来の技術と問題点〉 従来、ガラスまたは誘電体たとえばり、Ｎ、Ｏ。

などの結晶板を用いて金属を加熱拡散して光導波路を作
製することは行われている。然し誘電体Ｌｉ２Ｂ２Ｏ，
結晶基板へ金属を加熱拡散して光導波路を形成すること
は未だ行われていない。

本発明はかかる従来技術の現状に鑑みてなされたもので
、新しい光導波路の作製方法を提供することを目的とす
る。

く問題点を解決するための手段〉 本発明によろ光導波路の作製方法は、結晶基板の表面の
一部に金属を熱拡散して光導波路を形成する光導波路の
作製方法において、Ｒ膜形成技術とリソグラフィ技術と
を用いてＬｉ２Ｂ４Ｏ７結晶基板上に金属層の光導波路
パターンを形成し、７７５℃以下の温度で前記金異層の
金属を前記Ｌｉ２Ｂ２Ｏ，結晶基板へ加熱拡散すること
を特徴とするものである。

く作　　　用〉 本発明ではＬ１□Ｂ４Ｏ７結晶基板上に金属層の光導波
路パターンを形成し、金属層の金属を７７５℃以下の温
度でり、２Ｂ４０．結晶基板へ加熱拡散することによっ
て、変形やひび割れ等の異常な（、Ｌ、Ｂ４０□結晶基
板の上記金属の拡散部分の屈折率を高め、光導波路を形
成している。

〈実　施　例〉 本発明による光導波路の作製方法の一実施例を図面を参
照しながら説明する。第１図に示すように、誘電体り、
２Ｂ４０７結晶基板１上に真空蒸着またはスパッタなど
の薄膜形成技術とリソグラフィ技術を泪いて金属層２の
光導波路パターンを形成する。次に金属層２のパターン
を形成したり、２Ｂ４０．結晶基板１を加熱し、第２図
に示すようにり、□Ｂ４Ｏ７結晶基板１に金属層２の金
属を熱拡散し、光導波路３を作成する。

金属を熱拡散させる上記工程において、Ｌ、２日４０７
結晶基板１を加熱保持する拡散温度を、基板のり、２Ｂ
４０７の融点である９１７℃から７７５℃の間に選定し
た場合、Ｌ、Ｂ４Ｏ７結晶基板１自体に軟化、またはひ
び割れ等の現家が生じた。

ところが本発明では拡散温度を７７５℃以下にして金ｉ
層２の金属の熱拡散を行ったところ、Ｌ、Ｂ、Ｏ，結晶
基板１自体には全く変形、ひび割れ等の異常はなく、金
属拡散が行われ、品質のよい光導波路３を形成すること
ができた。金属層２の金属としてＮｉを用いて、７５０
℃で７時間加熱保持したところ、Ｌ、２Ｂ、０．結晶基
板１の表面より約１μｍの深さまでＮｉが拡散し、拡散
部分の屈折率を高めることができ、Ｌ、Ｂ２Ｏ，結晶基
板１上に光導波路３を形成することができた。

〈発明の効果〉 本発明によれば、誘電体のし、２Ｂ４０７結晶基板を用
いて、金属の熱拡散温度を７７５℃より低くすることに
よって、金属加熱拡散法の品質のよい光導波路を作製す
ることができた。

このように本発明は、光導波路の作製における材料分計
の拡張に利するところ大である。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明による光導波路の作製方法を
説明する図である。 図面中、 １はＬｉ２Ｂ２Ｏ，結晶基板、２は金属層、３は光導波
路である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）結晶基板の表面の一部に金属を加熱拡散して光導
   波路を形成する光導波路の作製方法において、薄膜形成
   技術とリソグラフィ技術とを用いてＬ＿ｉ＿２Ｂ＿４Ｏ
   ＿７結晶基板上に金属層の光導波路パターンを形成し、
   ７７５℃以下の温度で前記金属層の金属を前記Ｌ＿ｉ＿
   ２Ｂ＿４Ｏ＿７結晶基板へ加熱拡散することを特徴とす
   る光導波路の作製方法。
2. （２）前記金属層の金属がＮｉであることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の光導波路の作製方法。