JPS62205649A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、外部光をとり入れる受光素子とこの受光素
子に接続し受光素子が発する電気信号によって動作を行
なう動作ICを備えた半導体装置に関し、特にカメラ用
測光ICに使用されるものである。
子に接続し受光素子が発する電気信号によって動作を行
なう動作ICを備えた半導体装置に関し、特にカメラ用
測光ICに使用されるものである。
41す光に用いられる半導体装置における従来の一例の
構造を第2図に示す。第2図aは゛斡導体装置の斜視図
、第2図すは第2図aのAA線に沿う断面図を示す。図
中、101は受光素子、102は上記受光素子が受光し
て発する電気信号によって動作を行なう動作ICで、叙
上の受光素子101と動作Tに102は透光性封止樹脂
体103、例えばエポキシ樹脂で一体にモールド封止さ
れ、さらに動作IC102に不所望に外部光が入射する
ことによって発生する誤動作を防止するために、上記透
光性封止樹脂体103の外側を遮光性樹脂層104でモ
ールドを施すとともに、この遮光性樹脂F!1104が
受光素子の受光面に対向する部分に光導入窓104aを
設けている。なお、上記受光素子101.動作IC10
2はいずれも取付ヘッド105.105にマウン1〜さ
れ、各電極はボンディングワイヤ106.106・・・
で外部導出リード107.107・・・に接続されてい
る。また、この半導体装置の製品型名等を示すマーク型
層108は上記遮光性樹脂Rづ104上にマーキング手
段によって形成されたものである。
構造を第2図に示す。第2図aは゛斡導体装置の斜視図
、第2図すは第2図aのAA線に沿う断面図を示す。図
中、101は受光素子、102は上記受光素子が受光し
て発する電気信号によって動作を行なう動作ICで、叙
上の受光素子101と動作Tに102は透光性封止樹脂
体103、例えばエポキシ樹脂で一体にモールド封止さ
れ、さらに動作IC102に不所望に外部光が入射する
ことによって発生する誤動作を防止するために、上記透
光性封止樹脂体103の外側を遮光性樹脂層104でモ
ールドを施すとともに、この遮光性樹脂F!1104が
受光素子の受光面に対向する部分に光導入窓104aを
設けている。なお、上記受光素子101.動作IC10
2はいずれも取付ヘッド105.105にマウン1〜さ
れ、各電極はボンディングワイヤ106.106・・・
で外部導出リード107.107・・・に接続されてい
る。また、この半導体装置の製品型名等を示すマーク型
層108は上記遮光性樹脂Rづ104上にマーキング手
段によって形成されたものである。
上記従来の構造によると、動作ICに外部光が入射する
と誤動作するので、透光性封止樹脂体!03の周囲をさ
らに遮光性樹脂層104でモールドが施される。すなわ
ち、二重モールド構造が必須で。
と誤動作するので、透光性封止樹脂体!03の周囲をさ
らに遮光性樹脂層104でモールドが施される。すなわ
ち、二重モールド構造が必須で。
しかも、受光素子上に光導入窓104aが必要であるた
め、製造に長時間を要するとともに、材料(モール1〜
材)も高価につく。特に、上記光導入窓104aを設け
ることはここに遮光性樹脂層が流れこみやすく、工程の
歩留が低下するなどの問題がある。
め、製造に長時間を要するとともに、材料(モール1〜
材)も高価につく。特に、上記光導入窓104aを設け
ることはここに遮光性樹脂層が流れこみやすく、工程の
歩留が低下するなどの問題がある。
この発明は上記従来の半導体装置の欠点に鑑み、改良さ
れた構造の半導体装置を提供する。
れた構造の半導体装置を提供する。
この発明の半導体装置は、外部光をとり入れる受光素子
、この受光素子に接続し受光素子が発する電気信号によ
って動作する動作IC1上記受光素子と動作ICを一体
に封止する透光性封止樹脂体、少くとも動作ICに対向
する上記透光性封止樹脂体の」ユ部表面域に被着され列
部光を遮断するマーク液固層、およびこのマーク液固層
、」二に被着されたマーク型層を具備してなり、動作I
Cに対する遮光層がマーク液で施されるので製造工程
の短縮、歩留の向−に、材料の低廉化がはかれる。
、この受光素子に接続し受光素子が発する電気信号によ
って動作する動作IC1上記受光素子と動作ICを一体
に封止する透光性封止樹脂体、少くとも動作ICに対向
する上記透光性封止樹脂体の」ユ部表面域に被着され列
部光を遮断するマーク液固層、およびこのマーク液固層
、」二に被着されたマーク型層を具備してなり、動作I
Cに対する遮光層がマーク液で施されるので製造工程
の短縮、歩留の向−に、材料の低廉化がはかれる。
以ド、この発明の一実施例につき第1図を参照して説明
する。なお、説明において従来と変わらない部分につい
ては図面に従来の各部と同じ符号を付けて示し説明を省
略する。
する。なお、説明において従来と変わらない部分につい
ては図面に従来の各部と同じ符号を付けて示し説明を省
略する。
第1図aは一実施例の半導体装置の斜視図、第1図すは
第1図aのAA線に沿う断面図を示す。
第1図aのAA線に沿う断面図を示す。
図において、11はマーク液固層で、透光性封止樹脂体
103上にて、少くとも動作IC102の上面域に被着
されたものである。このマーク液固層11は外部光を遮
断するもので、外部光が例えば可視域の光に対してはこ
れを遮断する黒色の着色剤が添加されたマーク液、赤外
域の光に対してはこれを遮断する添加剤が加えられたマ
ーク液または上記黒色の着色剤が添加されたマーク液と
して一般に求めることができる。そして、上記マーク液
の塗着にあたっては、特に受光素子101のL方には付
着しないように避けて動作IC上方のみとするか、また
はマスクによって窓11aを設けるようにする。
103上にて、少くとも動作IC102の上面域に被着
されたものである。このマーク液固層11は外部光を遮
断するもので、外部光が例えば可視域の光に対してはこ
れを遮断する黒色の着色剤が添加されたマーク液、赤外
域の光に対してはこれを遮断する添加剤が加えられたマ
ーク液または上記黒色の着色剤が添加されたマーク液と
して一般に求めることができる。そして、上記マーク液
の塗着にあたっては、特に受光素子101のL方には付
着しないように避けて動作IC上方のみとするか、また
はマスクによって窓11aを設けるようにする。
次に、マーク型層108の形成は上記マーク液固層11
上に従来の場合と全く同様に施される。
上に従来の場合と全く同様に施される。
なお、上記マーク液固層形成のためのマーク液に、例え
ば紫外線同化性のものを用いればこれの固化が迅速に達
成できてさらに能率の向」:をはかることができる。
ば紫外線同化性のものを用いればこれの固化が迅速に達
成できてさらに能率の向」:をはかることができる。
この発明によれば、従来の二重モールド構造としないの
で、モールド用の遮光性樹脂層が不要でかつ、製造に要
する時間も短縮でき、光導入窓形成のための不良発生も
ない等の顕著な利点がある。
で、モールド用の遮光性樹脂層が不要でかつ、製造に要
する時間も短縮でき、光導入窓形成のための不良発生も
ない等の顕著な利点がある。
また、この発明における遮光のためのマーク液の使用量
も僅少でよく、廉価である利点もある。
も僅少でよく、廉価である利点もある。
第1図はこの発明の半導体装置にかかり、第1図aは斜
視図、第1図すは第1図aのAA線に沿う断面図、第2
図は従来の゛ト導体装置にかかり。 第2図aは斜視図、第2図すは第2図aのAA線に沿う
断面図である。 11 マーク液固層 101 受光素子 102 動作IC 103透光性封止樹脂体 108 マーク型層
視図、第1図すは第1図aのAA線に沿う断面図、第2
図は従来の゛ト導体装置にかかり。 第2図aは斜視図、第2図すは第2図aのAA線に沿う
断面図である。 11 マーク液固層 101 受光素子 102 動作IC 103透光性封止樹脂体 108 マーク型層
Claims (1)
- 外部光をとり入れる受光素子と、この受光素子に接続し
受光素子が発する電気信号によって動作を行なう動作I
Cと、前記受光素子と動作ICを一体に封止する透光性
封止樹脂体と、少くとも動作ICに対向する前記透光性
封止樹脂体の上部表面域に被着され外部光を遮断するマ
ーク液固層と、このマーク液固層上に被着されたマーク
型層を具備した半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61047245A JPS62205649A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61047245A JPS62205649A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62205649A true JPS62205649A (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=12769849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61047245A Pending JPS62205649A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62205649A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107844U (ja) * | 1991-03-05 | 1992-09-17 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路装置 |
US5317195A (en) * | 1990-11-28 | 1994-05-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device improved in light shielding property and light shielding package |
WO1997005660A1 (fr) * | 1995-08-02 | 1997-02-13 | Matsushita Electronics Corporation | Dispositif de prise de vues a semi-conducteurs et fabrication dudit dispositif |
WO2005038908A1 (ja) * | 2003-10-16 | 2005-04-28 | Rohm Co., Ltd. | 電子機器およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-03-06 JP JP61047245A patent/JPS62205649A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5317195A (en) * | 1990-11-28 | 1994-05-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device improved in light shielding property and light shielding package |
JPH04107844U (ja) * | 1991-03-05 | 1992-09-17 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路装置 |
WO1997005660A1 (fr) * | 1995-08-02 | 1997-02-13 | Matsushita Electronics Corporation | Dispositif de prise de vues a semi-conducteurs et fabrication dudit dispositif |
US5952714A (en) * | 1995-08-02 | 1999-09-14 | Matsushita Electronics Corporation | Solid-state image sensing apparatus and manufacturing method thereof |
WO2005038908A1 (ja) * | 2003-10-16 | 2005-04-28 | Rohm Co., Ltd. | 電子機器およびその製造方法 |
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