JPS62201917A - リビングブロツク共重合体 - Google Patents

リビングブロツク共重合体

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JPS62201917A
JPS62201917A JP4402886A JP4402886A JPS62201917A JP S62201917 A JPS62201917 A JP S62201917A JP 4402886 A JP4402886 A JP 4402886A JP 4402886 A JP4402886 A JP 4402886A JP S62201917 A JPS62201917 A JP S62201917A
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JP
Japan
Prior art keywords
living
polymer
compound
formula
anionic polymerization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4402886A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Hatayama
敏雄 畑山
Takahiro Nakawa
孝宏 名川
Masao Yamaguchi
真男 山口
Kazuo Yamaguchi
和夫 山口
Akira Hirao
明 平尾
Seiichi Nakahama
中浜 精一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen Chemical Corp
Original Assignee
Tonen Sekiyu Kagaku KK
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Publication date
Application filed by Tonen Sekiyu Kagaku KK filed Critical Tonen Sekiyu Kagaku KK
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  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、芳香族ビニル化合物のリビングブロック共重
合体に関する。
従来の技術 バラ位に活性シリル基を有するスチレン誘導体とビニル
化合物とのアニオンリビングブロック共重合体は、既に
本発明者らによ#)開発されている〔高分子、予稿集、
35巻、2号、1267頁(1984);高分子、予稿
集、34巻、2号、189頁(1985))。
発明が鮮決しようとする問題点 本発明は、バラ位にトリアルコキシシリル基ヲ有スるス
チレン誘導体とスチレン系化合物とのリビングブロック
共重合体を提供すること全目的とする。
発明の要旨 本発明は。
一般式 OR 0式中、Rは低級アルキル基を示す。〕の繰り返し単位
(AJと、 一般式 〔式中、R′は水素原子又はメチル基を示す。〕の繰繰
返し単位(B)との結合を持つυビンクプロンク共貞合
体を要旨とする。
本発明のリビングフロック共1合体は、(11式Si(
OR)4で表わされるテトラアルコキシシラン(以下化
合物1という。)を、式 %式% ネ ジウムクロリド と反応させて、弐〇1( =GHGSi(OR)3のp
−トリアルコキシシリルスチレン(以下、化合物1とい
う。)を合成した俵、アニオン重合開始剤の存在下で1
合し、得られる 一般式 〔式中、Rは前記と同意義〕の繰り返し単位からなるリ
ビングポリマー(A)と、 一般式 〔式中、R′は前記と同意義。〕で表わされるスチレン
系化合物(以下、化合物Nという。)をリビング共重合
するか、又ハ(21化合物ylアニオン重合開始剤の存
在下に1介し、得られる一般式 〔式中、R′は前記と同意義。〕の繰繰返し単位からな
るリビングポリマー(BJと、前記化合物1をリビング
共重合するととくより製造することができる。
化合物■の上記式におけるRは低級アルキル基を示し、
具体的にはメチル、エチル、n−プロピル、i−7’ロ
ビル、n−ブチル,i−7”チル、t−)゛チル、n−
ペンチル、n−ヘキシル等が挙けられる。
化合物層と化合物層との反応は、−7 0C〜+tao
Cで1分間〜25時間、通常は溶媒の存在下で行なわれ
る。用い得る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジオキサン等のエーテル系化合物が挙げ
られる。化合物Iと化合物lとの接触割合は、171(
モル比)を通常0.9〜10の範囲とする。
上記の反応で得られな化合物1を、アニオン重合開始剤
の存在下でアニオン重合することにより、前記の繰り返
し単位からなるリビングポリマー(AJが、又前記の化
合物■、具体的にはスチレン及びα−メチルスチレン、
をアニオン重合開始剤の存在下アニオン重合することに
より前記の繰り返し単位からなるリビングポリマーCB
)が得られる。
本発明で用いられる過当なアニオン1合開始剤としては
、n−ブチルリチウム、ナフタレンリチウム塩、ナフタ
レンナトリウム塩、ナフタレンカリウム塩、(α−メチ
ルスチレンオリゴマー)ナトリウム塩、(σーメチルス
チレンオリゴマー)リチウム塩、(α−メチルスチレン
オリゴマー)カリウウム塩、クミルカリウム塩等を挙げ
ることができる。
アニオン重合は、室温で行ってもよいが、望゛ましくけ
、−30C以下の低温、特に望ましくは一SOC〜−1
00Cの低温で、0.1〜20時間、望ましくは溶媒の
存在下、で行なわれる。
適当な溶媒としては、THF、トルエン、ヘキサン、シ
クロヘキサン等が挙げられる。それらは二極以上用いて
もよい。又、重合反応は、不活性ガス雰囲気中、減圧下
、特に望ましくは高真空下で行うのが望ましい。
リビングポリマーfA)又は(B、lの分子量は、化合
物11/アニオン1合開始剤又は化合物11’/アニオ
ン1合開始剤の比を変えることによって制御することが
でき、その比を上けることによジ分子量を増加すること
ができる。又、アニオン1合開始剤の種類又は1合理度
を変えることによっても分子蓋の制御は可能である。
かくして得られるりピングポリマー(A)又#1(B)
は、通常約500〜約s a a、a o oの数平均
分子t’を持つが、次いで、リビングポリマー(A)は
化合物■と、リビングポリマー(BJは化合物lと、そ
れぞれリビング共重合することにより、本発明のリビン
グブロック共1合体が得られる。
本発明におけるリビング共重合方法は、前記の化合物置
及び化合物Nのリビング重合法に準じた方法に従えばよ
い。
すなわち、化合物置又は化合物■のリビング重合が終了
した後、その重合糸に化合物N又は化合物置を加えた上
で、先のリビング重合と同一の条件下に保つことにより
行なわれる。その際、温度、圧力等の先のリビング重合
の場合と変更してもよく、又溶媒を別種のもの七置換し
てもよい。
共1合体の化合物yylは化合物置のポリマー鎖長は、
加えるそれら化合物y又は舅の添加量。
反応温度を変えることによって制御することができる。
更に、化合物N又は化合物1の添加、共重合を屓次繰)
返し行ってもよく、夫々種類の異なる化合物〃又は化合
物1を順次加えて共重合することもできる。
上記の方法によシ、例えばム−B、B−^。
A−B−A、B−A−B、B−^−A’−B、A−B−
B’−A、^−B−^−B、A−B−A’−Bの配列か
らなるHlり返し単位(AI存び繰り返し単位(BJの
結合を有する本発明のリビングズロック共重合体が得ら
れる。
本発明の共1合体は、通常約500〜約500.000
望ましくはs、a a a 〜saa、ova。
更に望ましくil O,0(J O〜2 Q O,00
0の数平均分子量を持ち、各繰p返し単位(AJ (B
Jの共1合体中に占める割合は、任意であるが、通常は
(AI / (Bl (モル比〕=5〜95/95〜5
である。
又、′X′!を平均分子fl/数平均分子量= 1.0
5〜1.50という非常に狭い分子量分布を持ち、比較
的低温において安定な性質を有する。
発明の効果 本発明のリビングブロック共1合体は、酸処理或いは加
熱によって、ガラスや金R酸化物叫の無機物質の表との
化学反応が期待でき、ポリマー同士の架橋も可能である
実施例 以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明
は、その主旨に反しない限り、これら実施例に駆足され
るものではない。
実験は、高真空ラインに接続しfP:複数のアニオン重
合開始剤溶液及びモノマー溶液を凍結、脱気して封入し
次ブレーカプルシールを持つアンプル並びに系内を洗浄
した廃アニオン夏合開始剤及びリビングポリマーの一部
を取9出ナスペアーの枝管と接続されたフラスコからな
る第1図に示す装置を用い、次の方法で行った。
まず、フラスコ1を1a″″’llHgに5時間保って
脱気し、真9ライン8からA点で封じ切り、次いで一つ
のアニオン重合開始剤の入ったアンプル3のシールを破
り、フラスコ1を含む系内に導ひき、系内金十分に洗浄
し、スペア−の枝管7に導びき、その枝管7を0点で封
じ切り、系から堆り除き、しかる後、所定の温度に冷却
し、所定の温度に冷却された第2のアニオン重合開始剤
溶液が入ったアンプル2のシールヲ破シ、フラスコ1に
アニオン連合開始剤を導き、次いで第1のモノマーをア
ンプル4から同様にしてフラスコ1に導入して!919
時間反応さ一+!′た後、一部の溶&を枝管6に4人し
て封じ切り、リビングポリマーのキャラクタリゼーショ
ンに供し念。
フラスコ1中に残ったりピングポリマー溶液に第2のモ
ノマーをアングル5から導入し、ブロック共重合を行い
、後処理を行った上で、物200ILtのフラスコにマ
グネシウム金i4.8?、P (0,201モル〕とテ
トラヒドロフラン(THF)40−を入れ、次いでエチ
レンブ日ミド1.2−を加えマグネシウムを活性化する
。これにp−りo oスfレンj 4.491 (0,
105%k)とTHF601Ltからなる#液を滴下さ
せながら、徐々に加熱し、最終的には還流させる。1時
間掛けて滴下を終了させ、更に15分間反応を継すさせ
た後、冷去〇し、p−ビニルフェニルマグネシウムクロ
リドの溶液を調製した。
p−トリエトキシシリルスチレンの合成300射のフラ
スコに、テトラエトキシシラン41.961 (0,2
01モル)とTHFI30dを入れ、これに上記で得ら
れたp−ビニルフェニルマグネシウムクロリドの溶液を
、室温で1時間掛けて滴下する。更に室温で5時間攪拌
を行ない反応を完結させ、12時間靜装した。生成しな
塩を戸遇し、THFを蒸留により除去した後、10鵡H
gの減圧下40〜50Cでテトラエトキシシランを留出
させ、更に減圧上加熱し、p−トリエトキシシリルスチ
レン10.45 !!(0,0592モル)を得た。こ
のもの全精留により、純度99.1%のp−)リエトキ
シシリルスチレン(沸点; 90 C/ jwsaHg
 )を得た。
得うれたp−)リエトキシシリルスチレンの’H−NM
Hのケミカルシフト佃は、下記の通りであった。
’a−NMn(cat4)  :δ=1.24ppm(
t、9H。
8100H20H,) 、 3.85 ppm (q、
6H,5iOCH2cH3)、5.24 、5.74 
ppm (2d 、 2 H、(Ii2= 、 J=1
1.18h)、6.72 ppm (2d 、 I H
zH−)、 7.20〜7.80 ppm (m 、 
4 H、Q)p−トリエトキシシリルスチレンのアニオ
ン重合第1図に示す装置で、THF溶媒の存在下、上記
で得られたp−トリエトキシシリル4.28ミリモル、
α−メチルスチレンオリゴマージカリウム塩0.172
ミリモル(K イオンとして)を用いて、−78Cで4
分間重合を行った。1合反応液の一部を取出し、その反
応液にエーテル水溶液を加えて、1合反応を停止し、エ
ーテルノ曽にポリマーを抽出せしめた。エーテル層をM
gSO4で一日乾燥し、エーテルで減圧除去した。
更に少量のTHFを、次いで水を注いで再沈殿を行う操
作を2回Mジ返した。得られたポリマーを最後にベンゼ
ン溶液から凍結乾燥し、ポリマーのキャラクタリゼーシ
ョンを行った。得られたポリマーのcpcチャート全第
2図に示すが、Gpe分析からl1li1j定された数
平均分子量(Mn) は10,400であった。なお、
計算によるMn は14,000であった。又、このポ
リマーの1H−NMR分析の結果、前記p−)リエトキ
シシリルスチレンのNMRチャートと主体となることろ
に同じピークが現われることから、このポリマーはポリ
(p−トリエトキシシリルスチレン)であることが判明
した。
先に行ったp−)リエトキシシリルスチレンのアニオン
重合系に、スチレン8.52ミI)モルを加え、−7+
3Cで重合を行った。5分波メタノールで重合を停止し
、前記のボ!J(p−)リエトキシシリルスチレン)の
場合と同様に、溶解、沈殿を繰夛返し、以下のキャラク
リゼーションに用いた。
得られたポリマーのMn1VPOにより@J定したとこ
ろ42,200であp、計算値では59.599であっ
た。又、得られたポリマーのGPCチャートを第5図に
示すが、分子量分布は比較的狭((MY/ Mn = 
1j O)、低分子量側に、Wがなく、ホモポリマーは
存在しないことから、明らかにブロック共1合体が生成
し1いることが判る。
更に、共重合体の H−NMR分析によp、そのブロッ
ク構成を計算して求めると、ボ!J(p−トリエトキシ
シリルスチレン)セグメント(18モル%つトボリスチ
レンセグメント(82モル%)からなるブロック共1合
体でめることが判った。
従って、本発明で得られたリビングブロック共重合体は
、(ポリスチレン)4.− [ポリ(p−トリエトキシ
シリルスチレン))、8− (ポリスチレン〕4.の(
BJ −(AJ −(BJ形のりピングブロック共重合
体であることが判明した。
実施例2,3 実J’fNFIJfのp−)リエトキシシリルスチレン
のアニオン重合時のp−)リエトキシシリルスチレン及
びアニオン1合開始剤の使用itを変えて実施例1と同
様にしてp−トリエトキシシリルスチレンのアニオン1
合を行い、次いでスチレンの使用量を変えた以外は、実
施力1と同様にしてリビングブロック共1合を行った。
それらの結果を表に示した。
実施例4 α−メチルスチレンのアニオン重合 実施例1のp−トリエトキシシリルスチレンのアニオン
重合と同様にして、α−メチルスチレン7.08ミリモ
ル、α−メナルスチレンオリゴマージカリウム塩0.1
60ミリモル(K+ イオンとして)を用いてα−メチ
ルスチレンのアニオン1合を行った。一部を取出し、分
析したところ既知のポリ(α−メチルスチレン)が得ら
れていることが判った。その分子量は表の通りでめった
上記のα−メチルスチレンのアニオン1合糸に、実施例
1で合成したp−)リエトキンシリルスナレン5.21
ミリモルを加え、*流力1のリビングブロック共1合と
同様にして、1合を行った。得られたポリマーのキャラ
クタリゼーションt−夾施ft 1とlW、1様にして
行ったところ、GPC分析では、低分子量に肩がなく、
ホモポリマーが存在しないことから%明らかにプロンク
共重合体が生成していることが判った。又、’ H−N
MR分析の結果、前記のp−ト’)エトキシシリルスチ
レンの基本となるピークが現われ、ピリ(α−メメチス
チレン〕とポリ(p−トリエトキシシリルスチレン)と
のブロック共1合体であることが明らかである。従って
、この実施例で得られたリビングブロック共重合体は、
CホIJ (p −ト+)エトキシシリルスチレン)〕
−〔ポリ(α−メメチスチレン〕〕−〔ポリ(p−トリ
エトキシシリルスチレン〕〕の(A) −CB’) −
(A) ’Mのリビングブロック共重合体であることが
判明した。
東回面の簡単な説明 第1図は本発明におけるアニオン重合及びアニオンブロ
ック共1合を行う装置の一例の概念図であり、第2図及
び第5図は本発明における(共〕重合体のGPCチャー
トである。
1・・・フラスコ、2,3・・・アニオン重合開始剤封
入アングル、4・・・第一のモノマー封入アンプル、5
・・・第二のモノマー封入アングル、6,7・・・枝管
、8・・・真空ライン、9・・・コック、10・・・マ
グネット。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは低級アルキル基を示す。〕の繰り返し単位
    (A)と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R′は水素原子又はメチル基を示す。〕の繰り
    返し単位(B)との結合を持つリビングブロック共重合
    体。
JP4402886A 1986-03-03 1986-03-03 リビングブロツク共重合体 Pending JPS62201917A (ja)

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JP4402886A JPS62201917A (ja) 1986-03-03 1986-03-03 リビングブロツク共重合体

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JP4402886A JPS62201917A (ja) 1986-03-03 1986-03-03 リビングブロツク共重合体

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JPS62201917A true JPS62201917A (ja) 1987-09-05

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JP (1) JPS62201917A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5288826A (en) * 1991-09-13 1994-02-22 Nippon Paint Co., Ltd. Polymer, surface modifier for inorganic materials and modified products thereof
WO1998055886A1 (fr) * 1997-06-06 1998-12-10 Nippon Zeon Co., Ltd. Matiere a mouler pour lentilles plastiques

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5288826A (en) * 1991-09-13 1994-02-22 Nippon Paint Co., Ltd. Polymer, surface modifier for inorganic materials and modified products thereof
WO1998055886A1 (fr) * 1997-06-06 1998-12-10 Nippon Zeon Co., Ltd. Matiere a mouler pour lentilles plastiques
US6486262B1 (en) 1997-06-06 2002-11-26 Nippon Zeon Co., Ltd. Molding material for plastic lens

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