JPS5953506A - スチレン誘導体の重合体の製造方法 - Google Patents
スチレン誘導体の重合体の製造方法Info
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- JPS5953506A JPS5953506A JP16407882A JP16407882A JPS5953506A JP S5953506 A JPS5953506 A JP S5953506A JP 16407882 A JP16407882 A JP 16407882A JP 16407882 A JP16407882 A JP 16407882A JP S5953506 A JPS5953506 A JP S5953506A
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- polymer
- group
- styrene derivative
- anionic polymerization
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、反応性基を有するスチレン誘導体の重合体の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
分子中に水酸基、アミノ基等の反応性欠有するスチレン
誘導体の重合体は、反応性基中に活性水累奮有するため
、未だアニオン重合法によってはイ［）られていない。
誘導体の重合体は、反応性基中に活性水累奮有するため
、未だアニオン重合法によってはイ［）られていない。
本発明者らｔ、ｉ 、反応性基を持つスチレン誘導体の
反応基ヲ、予めトリアルキルシリル基、トリアリールシ
リル基等（以下 ｆｌｙ’：換シリル基という。）で保
腰［７た後、アニオン重合開始剤を作用させることによ
り、置換シリル基で保護した該スチレン誘Δ９４体のり
ピングポリマーが得しれ、しかる忰活性水素含有化合物
を作用きせると上記保砕基が脱離し、該スチレン誘導体
の重合体が得られることを見出して、本発明を完成【、
７た。
反応基ヲ、予めトリアルキルシリル基、トリアリールシ
リル基等（以下 ｆｌｙ’：換シリル基という。）で保
腰［７た後、アニオン重合開始剤を作用させることによ
り、置換シリル基で保護した該スチレン誘Δ９４体のり
ピングポリマーが得しれ、しかる忰活性水素含有化合物
を作用きせると上記保砕基が脱離し、該スチレン誘導体
の重合体が得られることを見出して、本発明を完成【、
７た。
すなわち、本クー、明は、アニオン重合による反応性基
音イｆするスチレン誘導体の重合体の製造法全桿供する
ことケロ的と（〜＼ Ｘ 〔式中、ｘｌま（ＯＨ２）ｎＯＨ基又はＮＲ１Ｒ２で表
わされるアミン基を示し、ｎは０〜６の数 ＲＩＲ２は
水素原子又はアルキル基を示す。但し ＲｘＲ，ｚは同
時にアルキル基ではない。〕で表わされるスチレン誘導
体欠式Ｒ３Ｒ４Ｒ６５ｉ−（但し、Ｒ３，Ｒ４及びＲ５
は同−又は異なるアルギル基ｐ′ｊＬ （はアリール基
〕で表わされる置換シリル基含有化合物と接触させ、得
られる該スチレンＨら導体の的換シリル基ｉ換体ケアニ
オン開始剤の存在下重合させて該置換体のリビングポリ
マーとした後、プロトン供与体と接触させることからな
るスチレン誘導体の重合体の製造方法’ｃ ”ＪＭ旨と
する０ 上記スチレン誘導体の一般式におりるＲ１ 、 Ｒ２で
表わされるアルキル基は、好１しくに、炭素数１〜６個
の低級アルキルである。それらスチレン誘導体の具体例
としてｉ；Ｊ： 、 ＣＨ，＝ｃ■（−◎−ＯＨ。
音イｆするスチレン誘導体の重合体の製造法全桿供する
ことケロ的と（〜＼ Ｘ 〔式中、ｘｌま（ＯＨ２）ｎＯＨ基又はＮＲ１Ｒ２で表
わされるアミン基を示し、ｎは０〜６の数 ＲＩＲ２は
水素原子又はアルキル基を示す。但し ＲｘＲ，ｚは同
時にアルキル基ではない。〕で表わされるスチレン誘導
体欠式Ｒ３Ｒ４Ｒ６５ｉ−（但し、Ｒ３，Ｒ４及びＲ５
は同−又は異なるアルギル基ｐ′ｊＬ （はアリール基
〕で表わされる置換シリル基含有化合物と接触させ、得
られる該スチレンＨら導体の的換シリル基ｉ換体ケアニ
オン開始剤の存在下重合させて該置換体のリビングポリ
マーとした後、プロトン供与体と接触させることからな
るスチレン誘導体の重合体の製造方法’ｃ ”ＪＭ旨と
する０ 上記スチレン誘導体の一般式におりるＲ１ 、 Ｒ２で
表わされるアルキル基は、好１しくに、炭素数１〜６個
の低級アルキルである。それらスチレン誘導体の具体例
としてｉ；Ｊ： 、 ＣＨ，＝ｃ■（−◎−ＯＨ。
Ｃ！Ｈ２＝ＣＨｅ ＮＨ−ｎ−０４）（ｇ％が挙げられ
る。
る。
スチレン誘導体の反応性基を保障するために用いられる
置換シリル基含有化合物は、トリプルキルシリル基、ア
ルキル・アリール混合三置換シリル基若しくはトリアリ
ールシリル基ケ含有する化合物であるが、該化合物は、
その−例として一般式（８１Ｒ３Ｒ４Ｒ５八Ｌ 〔式中
、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５１ま同−又ｔま異なるアルキル基
若しくｅよアリール基、Ｌはハロゲン原子又はＮ）１
基であり、ｎはＬが−・ロゲン原子の場合１であり、
ＮＨ基の場合は２である〕で表わされ、その具体例どし
ては、（（ＯＨ３）、８１）２ＮＨ，（（０２Ｈ５）３
Ｓｉ）、Ｎ）（。
置換シリル基含有化合物は、トリプルキルシリル基、ア
ルキル・アリール混合三置換シリル基若しくはトリアリ
ールシリル基ケ含有する化合物であるが、該化合物は、
その−例として一般式（８１Ｒ３Ｒ４Ｒ５八Ｌ 〔式中
、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５１ま同−又ｔま異なるアルキル基
若しくｅよアリール基、Ｌはハロゲン原子又はＮ）１
基であり、ｎはＬが−・ロゲン原子の場合１であり、
ＮＨ基の場合は２である〕で表わされ、その具体例どし
ては、（（ＯＨ３）、８１）２ＮＨ，（（０２Ｈ５）３
Ｓｉ）、Ｎ）（。
（（１−ＯｓＨ７）ｓｓｉ）ｚＮＨ，（（ｔ−０４Ｈｇ
）２ｃＨ３ｓｉ）２ＮＨ。
）２ｃＨ３ｓｉ）２ＮＨ。
（ＣＨ３）３ｓｔｃｚ、 （ｃ、、Ｈ，）Ｒ８１ｃ４
ｔ−０４Ｈ９（ｃＨ，Ｊ、８１Ｃ７゜０Ｈ３（０２Ｈ，
）、５ｉａｌｔ （ｎ −０４Ｈ９）３５ｉＣｔ。
ｔ−０４Ｈ９（ｃＨ，Ｊ、８１Ｃ７゜０Ｈ３（０２Ｈ，
）、５ｉａｌｔ （ｎ −０４Ｈ９）３５ｉＣｔ。
（（Ｃｓ Ｈｓ ｈｓｉ１２ＮＴ（、（Ｃ６Ｈ５（Ｏ）
１３ ）２Ｓｉ’）２ＮＨ。
１３ ）２Ｓｉ’）２ＮＨ。
（Ｃ，、Ｔ（５）２０６Ｈ５８１Ｃ４笠ケ挙げることが
できる。これらの化合物は、 （Ｑに限らず二種以上同
時にＩＬｌいてもよい。
できる。これらの化合物は、 （Ｑに限らず二種以上同
時にＩＬｌいてもよい。
スチレン誘導体と置換シリル基含有化合物との接触は、
室温若しくは加温下で、通常０５〜５０時間行なわれる
。接触は、溶媒中で行ってもよく、又窒素ガス等の不活
性ガス雰囲気下で行ってもよい。適当な溶媒としては、
ＤＭＦ （ジメチルホルムアミド）、ＴＨＦ（テトラヒ
ドロフラン）、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、スル
フオラン、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）笠が挙げ
られる。
室温若しくは加温下で、通常０５〜５０時間行なわれる
。接触は、溶媒中で行ってもよく、又窒素ガス等の不活
性ガス雰囲気下で行ってもよい。適当な溶媒としては、
ＤＭＦ （ジメチルホルムアミド）、ＴＨＦ（テトラヒ
ドロフラン）、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、スル
フオラン、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）笠が挙げ
られる。
スチレン誘導体と置換シリル基含有化合物との接触は、
二段以上で行ってもよく、必要に応じて０２ Ｒ５Ｍｆ
Ｂｒ等のグリニヤール試檗ヲ加えて行ってもよい。両
者の接触割合は、スチレン誘導体に対して置換シリル基
含有化合物が０５倍モル以上、望ましくｅよ当モル−１
０倍モルである０かくすることにより、スチレン誘導体
の反応性基中の活性水素は、置換ンＩＪ ）し基を置換
さね２、スチレン誘導体の置換体となるが、該置換体ｅ
よ次いでアニオン重合開始剤の存在１六ア０オフ重合す
ることにより、該ｆ４換休のリビング７ｙリマーが得ら
れる０ 適当なアニオン重合開始剤としては、ｎ−ブチルリチウ
ノ・、ナフタレンリチウム塩、ナフタレンナトリウム塩
、ナフタレンカリウム塩。
二段以上で行ってもよく、必要に応じて０２ Ｒ５Ｍｆ
Ｂｒ等のグリニヤール試檗ヲ加えて行ってもよい。両
者の接触割合は、スチレン誘導体に対して置換シリル基
含有化合物が０５倍モル以上、望ましくｅよ当モル−１
０倍モルである０かくすることにより、スチレン誘導体
の反応性基中の活性水素は、置換ンＩＪ ）し基を置換
さね２、スチレン誘導体の置換体となるが、該置換体ｅ
よ次いでアニオン重合開始剤の存在１六ア０オフ重合す
ることにより、該ｆ４換休のリビング７ｙリマーが得ら
れる０ 適当なアニオン重合開始剤としては、ｎ−ブチルリチウ
ノ・、ナフタレンリチウム塩、ナフタレンナトリウム塩
、ナフタレンカリウム塩。
（α−メチルスチレンオリゴマー）ナトリウム塩等を挙
げることができる０ アニオン重合は、室温で行ってもよいが、望ましくは、
−５０℃以下の低温、特に望才しくは一５０℃〜−１０
０℃の低温で、０．１〜２０時間、望す【７くは溶媒の
存在下、で行なわれる０適当な溶媒とじてｔよ、ＴＨＦ
、 トルエン、ヘキサン、シクｔｌヘキザン等が挙げ
られる０それらは二種以上用いてもよい。又、重合反応
は、不活性ガス雰囲気中、減圧下、特に望咬しくｔよ高
真空下で行うのが望捷しい０ リビングポリマーの分子月、は、該置換体／アニオン重
合開始剤比ケ変えることにより制御することができ、そ
の比奢上げることにより分子ｆ３．’ ｆ増加すること
ができる。又、アニオン重合開始剤の種類又は重合温度
ケ変えることによっても分子量、の調節は可能である。
げることができる０ アニオン重合は、室温で行ってもよいが、望ましくは、
−５０℃以下の低温、特に望才しくは一５０℃〜−１０
０℃の低温で、０．１〜２０時間、望す【７くは溶媒の
存在下、で行なわれる０適当な溶媒とじてｔよ、ＴＨＦ
、 トルエン、ヘキサン、シクｔｌヘキザン等が挙げ
られる０それらは二種以上用いてもよい。又、重合反応
は、不活性ガス雰囲気中、減圧下、特に望咬しくｔよ高
真空下で行うのが望捷しい０ リビングポリマーの分子月、は、該置換体／アニオン重
合開始剤比ケ変えることにより制御することができ、そ
の比奢上げることにより分子ｆ３．’ ｆ増加すること
ができる。又、アニオン重合開始剤の種類又は重合温度
ケ変えることによっても分子量、の調節は可能である。
かぐして得らノしたリビングポリマーは、通常約５００
〜約５００，０００の数平均分子量ヲ持ち、比較的低温
において安定な性質ケ有する。
〜約５００，０００の数平均分子量ヲ持ち、比較的低温
において安定な性質ケ有する。
本発明は、」二記で得られたりピングポリマー紮メタノ
ール、エタノール、フェノール、塩酸。
ール、エタノール、フェノール、塩酸。
硫酸等のプロトン供与体と接触させて、保勃基である置
換シリル基を脱離させ目的とする反応性基を有するスチ
レン誘導体の重合体とする。
換シリル基を脱離させ目的とする反応性基を有するスチ
レン誘導体の重合体とする。
本発明の方法は、ラジカル重合法、カチオン重合法等に
よる公知の該スチレン誘導体の重合体の製造法に比べ、
分子量の調節が容易であり、任意の分子量で力・つ狭い
分子量分布欠持つ重合体を容易に、製造することができ
、又該置換体のアニオン重合がほぼ定量的に行なわれ、
従って高収率で重合体が得られるという効果を示す〇本
発明の方法により１ｊｊられた重合体は、通常約５００
〜約５００，０００、望甘しくは２，０００〜２００．
Ｏｆｌ Ｉ＋、更に望ましくｉｊ：５，０００〜１００
．００１’ｌの数平均分子量ケ持ち、反応性高分子する
ために、他の官能基と容易に反応させることができ、反
応性高分子として有用である。
よる公知の該スチレン誘導体の重合体の製造法に比べ、
分子量の調節が容易であり、任意の分子量で力・つ狭い
分子量分布欠持つ重合体を容易に、製造することができ
、又該置換体のアニオン重合がほぼ定量的に行なわれ、
従って高収率で重合体が得られるという効果を示す〇本
発明の方法により１ｊｊられた重合体は、通常約５００
〜約５００，０００、望甘しくは２，０００〜２００．
Ｏｆｌ Ｉ＋、更に望ましくｉｊ：５，０００〜１００
．００１’ｌの数平均分子量ケ持ち、反応性高分子する
ために、他の官能基と容易に反応させることができ、反
応性高分子として有用である。
以下、本発明ケ実施例により詳細に説明するが、本発明
？Ｊ、（の主旨に反しない限り、これら実施例に限定さ
）するものではない。
？Ｊ、（の主旨に反しない限り、これら実施例に限定さ
）するものではない。
実＃ｉは、高真空ラインに接続した複数のアニオン重合
開始剤溶液及びモノマー溶液全凍結、脱気して封入した
プレー力プルシールヶ持つアンプル並びに系内全洗浄し
た廃アニオン重合開始剤及びリビングポリマーの一部會
取り出すスペア−の枝管と接続されたフラスコ力・らな
る図面に示す装置を用い、次の方法で行った。
開始剤溶液及びモノマー溶液全凍結、脱気して封入した
プレー力プルシールヶ持つアンプル並びに系内全洗浄し
た廃アニオン重合開始剤及びリビングポリマーの一部會
取り出すスペア−の枝管と接続されたフラスコ力・らな
る図面に示す装置を用い、次の方法で行った。
まず、フラスコ１ｆ Ｉ Ｏ−’ ｖｍＨｌに５時間保
って脱気し、ｌｃ空ライン８から人魚で封じ切シ、次い
で一つのアニオン重合開始剤の入ったアンプル５のシー
ルヶ破シ、フラスコ１を含む系内に導びき、系内欠十分
に洗浄し、スペア−の枝管７に導ひき、その枝管７ｆＣ
点で封じ切り、系から取り除き、（２カ・る後、所定の
温度に冷却し、所定の温度に冷却さ）１．た第２のアニ
オン重合開始剤溶液が入ったアンプル２のシール（ｃ破
す、フラスコ１にアニオン重合開始剤を導き、次いで第
１のモノマーをアンプル４から同様にしてフラスコ１に
導入して所定時間反応させた後、一部の溶液全枝管６に
導入し７て封じ切り、リビングポリマーのキャラクタリ
ゼーションに供した。
って脱気し、ｌｃ空ライン８から人魚で封じ切シ、次い
で一つのアニオン重合開始剤の入ったアンプル５のシー
ルヶ破シ、フラスコ１を含む系内に導びき、系内欠十分
に洗浄し、スペア−の枝管７に導ひき、その枝管７ｆＣ
点で封じ切り、系から取り除き、（２カ・る後、所定の
温度に冷却し、所定の温度に冷却さ）１．た第２のアニ
オン重合開始剤溶液が入ったアンプル２のシール（ｃ破
す、フラスコ１にアニオン重合開始剤を導き、次いで第
１のモノマーをアンプル４から同様にしてフラスコ１に
導入して所定時間反応させた後、一部の溶液全枝管６に
導入し７て封じ切り、リビングポリマーのキャラクタリ
ゼーションに供した。
フラスコ１中に残ったりピングポリマー溶液に第２のモ
ノマーをアンプル５かうｉ、ｑ入（７、ブロック共重合
４行い、後処理を行った土で、物性等の測定に供した。
ノマーをアンプル５かうｉ、ｑ入（７、ブロック共重合
４行い、後処理を行った土で、物性等の測定に供した。
ブロック共重合を行なわない場合は、リビングポリマー
全介孕キャラクタリゼーションに用いた。
全介孕キャラクタリゼーションに用いた。
実施例１
反ＬＦＳ Ｓにｐ−ビニルフェネチルアルコール（０１
４２＝ ＯＨ−＠刈ＯＴ（、Ｃ）１．ＯＨＪ （ＶＰＡ
）及びＶＰＡに対して当モルの（（ＣＨ３） ３日ｉ
−）２ ＮＨ（ＨＭＴ）Ｓ ） 會入れ、窒素ガス雰
囲気下５０℃で１ｉ侍間借拌を行った０次いで生成物全
減圧蒸留してｐ−ビニルフエネヂロキシトリノチルシラ
ン （０Ｈ２＝Ｃ！Ｈ−◎−ＣＨ２０Ｈ２０Ｓｉ （ＣＨ３
Ｊ、 ’］ （ＶＰＡ−８ｔ、） ｋ ？！、更にグリ
ニヤ試薬（ｉｊ２）１５ＭＳ’Ｂｒ） ’（５加えて
真空蒸留することにより、８２係の収率で精製したＶＰ
Ａ−８ｉ ’！ｙｒ得た。コ（７） ＶＰＡ−８ｉ
ｆＪ、 ７５℃７２．１−１’１の沸点欠有していた
０ このＶＰＡ−８ｊ のＮＭＲ（１００ＭＨｚ 、 Ｏ
ＤＯ，／−３溶液；以下の測定も同じ）分析全行った結
果孕下記に示す。
４２＝ ＯＨ−＠刈ＯＴ（、Ｃ）１．ＯＨＪ （ＶＰＡ
）及びＶＰＡに対して当モルの（（ＣＨ３） ３日ｉ
−）２ ＮＨ（ＨＭＴ）Ｓ ） 會入れ、窒素ガス雰
囲気下５０℃で１ｉ侍間借拌を行った０次いで生成物全
減圧蒸留してｐ−ビニルフエネヂロキシトリノチルシラ
ン （０Ｈ２＝Ｃ！Ｈ−◎−ＣＨ２０Ｈ２０Ｓｉ （ＣＨ３
Ｊ、 ’］ （ＶＰＡ−８ｔ、） ｋ ？！、更にグリ
ニヤ試薬（ｉｊ２）１５ＭＳ’Ｂｒ） ’（５加えて
真空蒸留することにより、８２係の収率で精製したＶＰ
Ａ−８ｉ ’！ｙｒ得た。コ（７） ＶＰＡ−８ｉ
ｆＪ、 ７５℃７２．１−１’１の沸点欠有していた
０ このＶＰＡ−８ｊ のＮＭＲ（１００ＭＨｚ 、 Ｏ
ＤＯ，／−３溶液；以下の測定も同じ）分析全行った結
果孕下記に示す。
’ＨＮＭＲ（６Ｑ Ｍｌｌ ｚ ： ＴＭＳ 基
準 ン ：（１，２４ｐｐｍ （ｓ、 ９Ｈ，Ｏ
−Ｓｌ、−ＯＨ５）。
準 ン ：（１，２４ｐｐｍ （ｓ、 ９Ｈ，Ｏ
−Ｓｌ、−ＯＨ５）。
２．４５ ｐｐｍ （ｔ、 ２ Ｈ，Ｊ＝７ Ｔ（ｚ
。
。
ｐｈｃＨ２ａＨ２）。
５、６８ ｐｐｍ （ｔ ： ２ Ｈ，Ｊ＝７ Ｈ２゜
Ｃ！Ｔ（２−０−８ｊ、） 、 （５，５２。
Ｃ！Ｔ（２−０−８ｊ、） 、 （５，５２。
５、８６ ｐｐｍ （２ｄ−、２Ｈ。
Ｊ＝１０．＋８Ｈｚ。
ＯＨ２＝＝ ＯＨン 〕 。
６、８ ７ ｐｐｍ （２ｄ、 ｌ Ｈ，ＯＴ
］２−１）。
］２−１）。
（７，２１，７，５２ｐｐｍ（２ｄ。
４ Ｈ，Ｊ ＝ ９． ９ Ｈ２，Ｐｈａ、ｂ
）） このデータにより上記構造であることが確認さ、ね、た
。
）） このデータにより上記構造であることが確認さ、ね、た
。
得られたＶＰＡ−８ｉ を第１表に示１−各種の７ニ
オン重合開始剤奢ハ１いて、Ｔｌ（Ｆ中、−７８℃。
オン重合開始剤奢ハ１いて、Ｔｌ（Ｆ中、−７８℃。
１時間の争件で重合した。いずれの場合も、重合系はり
ピングアニオン特有のや−や黒味がかった赤色を呈して
いた０ 結果を第１表に示すが、収ｆｊ−はｔユは定量的であっ
た。
ピングアニオン特有のや−や黒味がかった赤色を呈して
いた０ 結果を第１表に示すが、収ｆｊ−はｔユは定量的であっ
た。
このリビングポリマー全室１！Ａ ’Ｔ ＴＨＦ−Ｈ２
０溶媒中、メタノールで処理することにより、保設基の
トリメチルシリル基は脱離し、ボＵ（ｐ−ビニルフェネ
チルアルコール） （Ｐｖ”Ａ） カ得うした。ＰＶＰ
Ａ は１０８℃のガラス転移温度を持ち、エタノール
、酢酸、ピリジン、ジオキサンに可溶、 ＴＨＦ、
ヘンゼン、水、クロロホルム、アセトンに不溶であった
。
０溶媒中、メタノールで処理することにより、保設基の
トリメチルシリル基は脱離し、ボＵ（ｐ−ビニルフェネ
チルアルコール） （Ｐｖ”Ａ） カ得うした。ＰＶＰ
Ａ は１０８℃のガラス転移温度を持ち、エタノール
、酢酸、ピリジン、ジオキサンに可溶、 ＴＨＦ、
ヘンゼン、水、クロロホルム、アセトンに不溶であった
。
ＰＶＰＡ の工Ｒ及びＮＭＲ分析を行った結果ケ下記に
示す。
示す。
ＩＲ： ５５００〜５５５０ｃｍ’ （−ＯＨ）、 ＋
６１０及び＋ ５１０ｃｍ−’ （不同骨格）、８２０
ｔｔｎ−’ （３Ｒ０−Ｈ） （ＯＨ３ン３ｓｉ基の
特性吸収ｔｊ認められなかった。
６１０及び＋ ５１０ｃｍ−’ （不同骨格）、８２０
ｔｔｎ−’ （３Ｒ０−Ｈ） （ＯＨ３ン３ｓｉ基の
特性吸収ｔｊ認められなかった。
ＩＨＮＭＲでも同４重にトリメチルシリル基の！時性吸
収は１−４ぬられなかった。
収は１−４ぬられなかった。
従って、（！？ Ｃ）ｔ＋、 ｊｃポリマーは、次式の
繰返し中位からなっていることが確認された。
繰返し中位からなっていることが確認された。
ＯＨ，０Ｈ２０Ｈ
このＰＶＰＡ はベンゼンに不溶であるため、その寸＼
ではＶＰＯ（Ｖａｙ＋ｏｒ Ｐｒｅｅｓｕｅｅ Ｏｓｍ
ｏｍｅｔｅｒ ）での分子量６１す定が［＋ＪＭｉｆｔ
であるので、ピリジン中でアセチル化し、沈降、溶解會
〈り力・え１ツて精製した後乾燥會行い、アーレブール
イヒ■”ＶＰＡ ケイ杼、これを用いてｖｐｏで分子
量測定ケ行い、収率力；はｙ定量的であることから、：
Ｆ゛ＶＰＡ Ｑｌのフェネチル基が全べてアセチル化さ
引たとして計算した分子量とを第１表に示した。両者は
力蔦なりよく一致していることが））かる０ ヵお、本実施例でイ；）られたＰＶＰＡ 自身の分子
量は第１表の測定値より換釘して宕易に求めることがで
きる０ アセチル化ｒＶＩ）Ａ についてＴＨＦ ’（ｒ−溶
媒と［７てＧＰＣ（Ｇｅｌｐｅｒｍｅ８ｔｉｏｎ Ｃｈ
ｒｏｍａ、ｔｏＢｒａｐｈ、ｙ ） （Ｔ＋ｊｌ定孕
行い、極めて狭い分子量分布ケ持つポリマーであること
が確認された。
ではＶＰＯ（Ｖａｙ＋ｏｒ Ｐｒｅｅｓｕｅｅ Ｏｓｍ
ｏｍｅｔｅｒ ）での分子量６１す定が［＋ＪＭｉｆｔ
であるので、ピリジン中でアセチル化し、沈降、溶解會
〈り力・え１ツて精製した後乾燥會行い、アーレブール
イヒ■”ＶＰＡ ケイ杼、これを用いてｖｐｏで分子
量測定ケ行い、収率力；はｙ定量的であることから、：
Ｆ゛ＶＰＡ Ｑｌのフェネチル基が全べてアセチル化さ
引たとして計算した分子量とを第１表に示した。両者は
力蔦なりよく一致していることが））かる０ ヵお、本実施例でイ；）られたＰＶＰＡ 自身の分子
量は第１表の測定値より換釘して宕易に求めることがで
きる０ アセチル化ｒＶＩ）Ａ についてＴＨＦ ’（ｒ−溶
媒と［７てＧＰＣ（Ｇｅｌｐｅｒｍｅ８ｔｉｏｎ Ｃｈ
ｒｏｍａ、ｔｏＢｒａｐｈ、ｙ ） （Ｔ＋ｊｌ定孕
行い、極めて狭い分子量分布ケ持つポリマーであること
が確認された。
最初に得られた暗赤色のＶＰＡ−８ｉ のポリマー溶液
にスチレンを加えることにより７１″リスチレンセグメ
ントとＶＰＡ −Ｓ ｉ のポリマーセグメントと力
・らなるブロック共電イを体が得られた０実施例２ ■）−アミノスチレン（ＣＨ２二〇Ｈ−＜ｑ矢Ｎ）］２
） （Ａｓ）に５倍モルのＨＭＴＪ Ｓ と０５倍モ
ルのＳ：１． （ＯＨ３）３ｃｚｋ′加えて、還流温度
下２．５時間反応ケ行った０生成物を減圧蒸留すること
により、ＡＳ７月リメすルシリル基１置換体がほぼ定（
１を的に？ＦＪられた。この置換体は９０℃／ ５ 、
Ｈｆの沸点ケ有していた０更に、この置換体に２倍モル
のクリニヤーＡ−試；ｆ／４ （Ｃ！２８５Ｍ５’Ｂｒ
） ｋ加え、ＴＨ１１’中、室温で２時間反応させた
後、４倍モルのＳｉ （Ｃ！Ｈ３）３０ｔケ加えて１２
時間放置し、減圧蒸留することにより、８４％の収率で
ｐ−（ビストリメチルシリルアミノ）スグーレン（０Ｈ
２＝ｃＨ−ρ列Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ３ｈ）ｚ（ＢＴＭＳＡＳ
）を得た。このＢＴＭＳＡＳ は６０〜８０℃７２祁Ｈ
９の沸点ケ有していたＯ ＢＴＭＥｉＡＳ の１）］ ＮＭＲは２置換トリメチ
ルシル某のＨｉ基準に１７でＩ３．Ｏｐｐｍ（Ｓ、１８
Ｈ，Ｓｉ−以即。
にスチレンを加えることにより７１″リスチレンセグメ
ントとＶＰＡ −Ｓ ｉ のポリマーセグメントと力
・らなるブロック共電イを体が得られた０実施例２ ■）−アミノスチレン（ＣＨ２二〇Ｈ−＜ｑ矢Ｎ）］２
） （Ａｓ）に５倍モルのＨＭＴＪ Ｓ と０５倍モ
ルのＳ：１． （ＯＨ３）３ｃｚｋ′加えて、還流温度
下２．５時間反応ケ行った０生成物を減圧蒸留すること
により、ＡＳ７月リメすルシリル基１置換体がほぼ定（
１を的に？ＦＪられた。この置換体は９０℃／ ５ 、
Ｈｆの沸点ケ有していた０更に、この置換体に２倍モル
のクリニヤーＡ−試；ｆ／４ （Ｃ！２８５Ｍ５’Ｂｒ
） ｋ加え、ＴＨ１１’中、室温で２時間反応させた
後、４倍モルのＳｉ （Ｃ！Ｈ３）３０ｔケ加えて１２
時間放置し、減圧蒸留することにより、８４％の収率で
ｐ−（ビストリメチルシリルアミノ）スグーレン（０Ｈ
２＝ｃＨ−ρ列Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ３ｈ）ｚ（ＢＴＭＳＡＳ
）を得た。このＢＴＭＳＡＳ は６０〜８０℃７２祁Ｈ
９の沸点ケ有していたＯ ＢＴＭＥｉＡＳ の１）］ ＮＭＲは２置換トリメチ
ルシル某のＨｉ基準に１７でＩ３．Ｏｐｐｍ（Ｓ、１８
Ｈ，Ｓｉ−以即。
〔５，ｏｓ、５．５７ｐｐｍ （２ｄ、２Ｈ，７＝ｊＱ
。
。
１７ Ｔｔｚ、 ＯＨ２＝ＣＨ））、 ６．５５ ｐ
ｐｍ （２ｄ、。
ｐｍ （２ｄ、。
１ ）１． ＣＨ＝ＣＨ２）、（６，７５，７，Ｉ
８ｐｐｍ （２ｄ。
８ｐｐｍ （２ｄ。
４ Ｈ，Ｊ ＝９． Ｉ） Ｈｚ、Ｐｈ、ａ、 ｂ
） ） であり、上記の措造であ２Ｉことが確認さノ
また。
） ） であり、上記の措造であ２Ｉことが確認さノ
また。
得らｈｆｒ、、Ｆｌ’ｌ”ＭＥｉＡＩＪ ｆアニオン
重合開始剤としてリチウムナフタレン食用いて、ＴＨＦ
中、−７８ｃ、１時間の争件で重合した。その結果ケ第
２表に示す。重合系は茶色がかったオレンジ色で室温で
も安定であり（大過剰のメタノールで処理するとポリマ
ーは白色沈殿となって分離する）−ポリマーはほぼ定量
的に得られた。このポリマーは注意深く取扱えば保斡基
をつけたま＼取扱うことができ、メタノール処理後のポ
リマーはＴＨＦ 、ベンゼン、クロロホルムに可溶、メ
タノールに不溶であり、第２表に示す分子ｉｋ有してい
た。
重合開始剤としてリチウムナフタレン食用いて、ＴＨＦ
中、−７８ｃ、１時間の争件で重合した。その結果ケ第
２表に示す。重合系は茶色がかったオレンジ色で室温で
も安定であり（大過剰のメタノールで処理するとポリマ
ーは白色沈殿となって分離する）−ポリマーはほぼ定量
的に得られた。このポリマーは注意深く取扱えば保斡基
をつけたま＼取扱うことができ、メタノール処理後のポ
リマーはＴＨＦ 、ベンゼン、クロロホルムに可溶、メ
タノールに不溶であり、第２表に示す分子ｉｋ有してい
た。
このメタノール処理後のポリマーのＮＭＲ分析及びＩＲ
分析の結果會下記に示す。
分析の結果會下記に示す。
ＩＨＮＭＲ： ｏ、 ｏ ｐｐｍ （基準） （５ｉ−
ＯＨ３）、 ０．７〜２，５（−皿８−明→ 計９値２＋：４：実測値２４４ ＩＲ： Ｉ ６ ｎ ５ｍ−１（環内骨格）、１２５０
ｃｍ−’ （Ｓｉ（Ｃ）Ｉ３）３〕、 ＋ １７
５ ｃｍ ’（８ｊ、 −Ｎ−８ｉ）。
ＯＨ３）、 ０．７〜２，５（−皿８−明→ 計９値２＋：４：実測値２４４ ＩＲ： Ｉ ６ ｎ ５ｍ−１（環内骨格）、１２５０
ｃｍ−’ （Ｓｉ（Ｃ）Ｉ３）３〕、 ＋ １７
５ ｃｍ ’（８ｊ、 −Ｎ−８ｉ）。
９ ５ ５ ｃｍ−’ （Ｓｉ−Ｎ−８ｉ） 、
０ ４ ４ ｒｍ−’（Ｓｉ（ＣＨ３）３’） 、
７５２ ｃｍ−’ （Ｓｉ（ＯＨ，）３’］これらの
分析の結果から、上記リビングポリＮ−（ｓｌ−ＣＨ３
）２ ろＨ３ らかである。
０ ４ ４ ｒｍ−’（Ｓｉ（ＣＨ３）３’） 、
７５２ ｃｍ−’ （Ｓｉ（ＯＨ，）３’］これらの
分析の結果から、上記リビングポリＮ−（ｓｌ−ＣＨ３
）２ ろＨ３ らかである。
このトリメチルシリル保股基を有するポリマーｋ ２
Ｎ −Ｈｃｚ水溶液で処理することにより、容易に保愚
基が脱離し、酸性下で水溶性のポリアミノスチレンが得
られた０ この水溶性ポリアミノスチレン（ＰＡＳ）のＮＭＲ分析
及びＩＲ分析の結果を下記に示すＯＩＨＮＭＲ（Ｄ２０
溶液） ： １〜２ ｐｐｍ （ｂｒｏａｄ ：ＩＲ：
４５８０ｃｍ−’に−Ｎ Ｈ層ｃｔ０の特性吸収が認
めらり、るが（ＯＴＴ３）３Ｓｉ基の住Ｙ性吸収は認め
らｔｌ−なかった。
Ｎ −Ｈｃｚ水溶液で処理することにより、容易に保愚
基が脱離し、酸性下で水溶性のポリアミノスチレンが得
られた０ この水溶性ポリアミノスチレン（ＰＡＳ）のＮＭＲ分析
及びＩＲ分析の結果を下記に示すＯＩＨＮＭＲ（Ｄ２０
溶液） ： １〜２ ｐｐｍ （ｂｒｏａｄ ：ＩＲ：
４５８０ｃｍ−’に−Ｎ Ｈ層ｃｔ０の特性吸収が認
めらり、るが（ＯＴＴ３）３Ｓｉ基の住Ｙ性吸収は認め
らｔｌ−なかった。
酸性ケ中４１１することにより水不溶（ｊＬのＮｒｌ。
又、このリビングポリマーにスチレンを加えて重合させ
Ｚ）ことにより、ポリスチレンとのＢ−Ａ −Ｂ ３％
すのリビングブロック共重合体が得られた。
Ｚ）ことにより、ポリスチレンとのＢ−Ａ −Ｂ ３％
すのリビングブロック共重合体が得られた。
得られたポリマーのＧＰＣケ測定Ｅまたとこる明らかに
単一ピークで高分子量側への移行が認められ、ブロック
ポリマーが生成していることが確認された。
単一ピークで高分子量側への移行が認められ、ブロック
ポリマーが生成していることが確認された。
ＰＡ８Ｉ７）構造）；ｌ：、Ｊ二記の各種分析データよ
り、次式の構造式緊持つポリマーであるととｔｉｔ明ら
かである。
り、次式の構造式緊持つポリマーであるととｔｉｔ明ら
かである。
Ｈ２
なお、ＰＡＳの分子前は、直接測定して１ハないが、第
２表の値よ斡換算１．て容易に求めることができる。
２表の値よ斡換算１．て容易に求めることができる。
第 ２ 表
実施例
（ｖｐ） 及びＶＰ Ｋ対して、等モルのｔ−０４Ｈ
９（ＯＨ３）２ＳｉＣ／、、 （ＢＤＭＳ） −＠：
入れ、イミダゾールの存在下、ＤＭＦ溶媒中、室温で４
時間反応させた。生成物ケ減王蒸留してｐ−ビニルフェ
ノキシｔ−ブチルジメチルシラン （ＯＨｚ ＝ＣＩ（−＜０＞−０８１（ｃ）Ｔ、）、
ｔ −ｃ ４１（、ン （ＶＰ−ＢＤＭ Ｓ） ’
ｉ７６％＋７） １１ｖ率で得７ｊ ｎ コ（７） Ｖ
Ｐ−ＢＤＭＳ ｆよ８０℃１０、 Ｊ ｙ６ＴＩｆ
のｆ１ド点ゲ有していた。
９（ＯＨ３）２ＳｉＣ／、、 （ＢＤＭＳ） −＠：
入れ、イミダゾールの存在下、ＤＭＦ溶媒中、室温で４
時間反応させた。生成物ケ減王蒸留してｐ−ビニルフェ
ノキシｔ−ブチルジメチルシラン （ＯＨｚ ＝ＣＩ（−＜０＞−０８１（ｃ）Ｔ、）、
ｔ −ｃ ４１（、ン （ＶＰ−ＢＤＭ Ｓ） ’
ｉ７６％＋７） １１ｖ率で得７ｊ ｎ コ（７） Ｖ
Ｐ−ＢＤＭＳ ｆよ８０℃１０、 Ｊ ｙ６ＴＩｆ
のｆ１ド点ゲ有していた。
ＶＰ−ＢＤＭＳのＮＭ１１分析の結果を下記に示すＯＩ
ＨＮＭＲ： Ｉｆ、 Ｏｐｐｍ基準（１３、５Ｈ、０−
８ｉ−ＯＨ３）。
ＨＮＭＲ： Ｉｆ、 Ｏｐｐｍ基準（１３、５Ｈ、０−
８ｉ−ＯＨ３）。
Ｉｌ、 １．１０ ｐｐｍ （Ｓ 、 ９ Ｈ、Ｆｌｉ
−０−０）Ｔｓ ）。
−０−０）Ｔｓ ）。
Ｌ：４．８７，５．４４ｐｐｍ（２ｄ、２Ｈ。
Ｊ−１０，＋ ７ Ｈｚ、０Ｔ（２＝Ｃ！Ｈ） ）。
６、５６ ｐｐｍ （２ｃｌ ｅ ＋ Ｈ、朋＝：０
Ｈ２）。
Ｈ２）。
（６，５４，７０６ｐｐｍ （２ｄ、４Ｈ。
Ｊ ＝ ｌ ＯＨｚ、Ｐｈ ａ、 ｂ ） ）。
この結果からＶＰ−ＢＤＭＳの構造であることが確認さ
れた。
れた。
かくして得られたＶＰ−ＢＤＭｉ９−ｉ第５表に示すア
ニオン重合開始剤を用いて１．ＴＨＦ中−７８℃。
ニオン重合開始剤を用いて１．ＴＨＦ中−７８℃。
１時間の重合条件で重合７行った後大量のメタノールで
リビングポリマーを処理すると白色沈殿となってポリマ
ーが分離される。ポリマーの収）ｉ；はｅ１ヌ定骨的で
あった。リビング■［合糸は少（７黒味がかった赤色で
あり、室温でも退色せず安定であった。
リビングポリマーを処理すると白色沈殿となってポリマ
ーが分離される。ポリマーの収）ｉ；はｅ１ヌ定骨的で
あった。リビング■［合糸は少（７黒味がかった赤色で
あり、室温でも退色せず安定であった。
上記重合系を水処理して得らねたポリマーをよりＤＭＳ
保護基が脱１ｉｆｔしないで残っており、ベンゼン
、メタノール、クロロホルムにｉ′ｉＴＲ＊へキサン、
アセトンに不溶であった。従って、このポリマーについ
てｖｐｃ法により数平均分子）１を測定し几。結果を第
５表に示す。
保護基が脱１ｉｆｔしないで残っており、ベンゼン
、メタノール、クロロホルムにｉ′ｉＴＲ＊へキサン、
アセトンに不溶であった。従って、このポリマーについ
てｖｐｃ法により数平均分子）１を測定し几。結果を第
５表に示す。
処理後のポリマーのＮＭＲ分析及びＩＲ分析の結果全下
肥に示す。
肥に示す。
ＩＨＮＭＲ：αＯｐｐｍ基準（８、５Ｈ、０−８ｉ−Ｏ
Ｈｓ）。
Ｈｓ）。
１８５ ｐｐｍ （Ｓ 、 ９ Ｈ、ｓｉ、−ｃ−ＣＨ
３）。
３）。
ｊ 〜２ ｐｐｍ （ｂｒｏａａ、 ２ Ｈ，０Ｈ２
）。
）。
ｊ 〜２ ｐｐｍ （ｂｒｏａｄ、 １Ｈ，ＯＨ）。
６、５５ ｐｐｍ （ｂｒｏａｄ、 ４ Ｈ，Ｏ，Ｈ
５）ＩＲ： ＋ ６１ａｒｍ−’ （ＦＪ内引格振７Ｊ
Ｉ） ） 、 ＋ ５９５及び＋ ５６５ ｃｍ−”
（Ｃ＋ＣＨ＊ｈ ）、 １２６５ｃｍ−’ （５ｉ−Ｃ
） ｔ ＋ ＋ ７０ ｃｍ−’ （Ｓｉ −０−０
）。
５）ＩＲ： ＋ ６１ａｒｍ−’ （ＦＪ内引格振７Ｊ
Ｉ） ） 、 ＋ ５９５及び＋ ５６５ ｃｍ−”
（Ｃ＋ＣＨ＊ｈ ）、 １２６５ｃｍ−’ （５ｉ−Ｃ
） ｔ ＋ ＋ ７０ ｃｍ−’ （Ｓｉ −０−０
）。
９２０ｃｍ−’ （Ｓｉ−０−Ａｒ） 、 ８４６
ｃｍ ’（Ｓｉ−ＣＬこれらの分析の結果から、本実施
例で得られ０−８ｉ −Ｃ−（１！Ｈ３ １ ０Ｈ３Ｃ）（３ とが明らかであるＯ ＢＤＭＳ 保護基を有するポリマー？２Ｎ−ＨＣ４水
溶液で処理することによシ、保尭基が脱離し、ＴＨＦ
、 メタノール、アセトンに可溶、ベンゼン。
ｃｍ ’（Ｓｉ−ＣＬこれらの分析の結果から、本実施
例で得られ０−８ｉ −Ｃ−（１！Ｈ３ １ ０Ｈ３Ｃ）（３ とが明らかであるＯ ＢＤＭＳ 保護基を有するポリマー？２Ｎ−ＨＣ４水
溶液で処理することによシ、保尭基が脱離し、ＴＨＦ
、 メタノール、アセトンに可溶、ベンゼン。
ｎ−ヘキサン、クロロホルムに不溶のポリｐ−ビニルフ
ェノール（ＰＶＰ ）が得られた。
ェノール（ＰＶＰ ）が得られた。
ＰＶＰ （Ｄ ＮＭＲ５）析及ヒＩＲ分析の結果、ＢＤ
Ｍ８保静基に基づ（／ｌ’４ｉ性吸収は認められず、こ
のボＨ が確認さｉまた。
Ｍ８保静基に基づ（／ｌ’４ｉ性吸収は認められず、こ
のボＨ が確認さｉまた。
なお、１）Ａｓの分子量は、直接？１１１１定していな
いが、第５表の値よりｔｏ算して容易に求めることがで
きる。
いが、第５表の値よりｔｏ算して容易に求めることがで
きる。
又、本実施例でイ）らノ’Ｌ ；ｉ ＶＰ−Ｔ３ＤＭＳ
のリビングポリマーにα−メチルスチレン會加えて重合
ケ行うことによりポリα−メヂルースチレンセグメント
とＶＰ−ＢＤＭＳポリマーセグメントケ持つブロック共
重合体が得らハ、り〇 第５表
のリビングポリマーにα−メチルスチレン會加えて重合
ケ行うことによりポリα−メヂルースチレンセグメント
とＶＰ−ＢＤＭＳポリマーセグメントケ持つブロック共
重合体が得らハ、り〇 第５表
図面は本発明におけるアニオン重合及びアニオンブロッ
ク共重合ケ行う装置の概略ケ示すＯｌ・・フラスコ、２
，５・・アニオン重合開始剤封入アンプル、４・・第一
のモノマー封入アンプル、５・・第二のモノマー封入ア
／プル、６．７・・枝管、８・・真空ライン、９・・コ
ック、１０・・マグネット 代理人 内 ［Ｈ明 代ｌｊ１人 萩 原 亮 −
ク共重合ケ行う装置の概略ケ示すＯｌ・・フラスコ、２
，５・・アニオン重合開始剤封入アンプル、４・・第一
のモノマー封入アンプル、５・・第二のモノマー封入ア
／プル、６．７・・枝管、８・・真空ライン、９・・コ
ック、１０・・マグネット 代理人 内 ［Ｈ明 代ｌｊ１人 萩 原 亮 −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔式中、Ｘは（ＯＨ２Ｊ ｎＯＨ基又はＮＲＩ Ｒ２で
表わされるアミノ基を示し、ｎは０〜６の数、ＲＩＲ２
は水素原子又はアルキル基を示す。但し、ＲＩＲ２は同
時にアルキル基でＶ」、ない。〕で表わされるスチレン
誘導体を式Ｈ３Ｈ４Ｒ５Ｓｉ−（但し、Ｒ３Ｒ４及びＲ
５は同−又は異なるアルキル基若しくｅニアリール基〕
で表わきれる置換シリル基含有化合物と接触させ、得ら
れる該スチレン誘導体の置換シリル基置換体奮アニオン
重合開始剤の存在下重合させて該置換体のりピングポリ
マーとした後、プロトン供与体と接触させることかしな
るスチレン誘導体の重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16407882A JPS5953506A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16407882A JPS5953506A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5953506A true JPS5953506A (ja) | 1984-03-28 |
| JPS6339001B2 JPS6339001B2 (ja) | 1988-08-03 |
Family
ID=15786357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16407882A Granted JPS5953506A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953506A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62257908A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-10 | Teiji Tsuruta | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |
| JPS62263190A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-16 | Teiji Tsuruta | 珪素を含む化合物及びその製造法 |
| US4731424A (en) * | 1986-03-14 | 1988-03-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for producing polymer compound containing alkenylsilyl group |
| JPH04356505A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-12-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリヒドロキシスチレンの製造方法 |
| JP2001294619A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-10-23 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| JP2001294618A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-10-23 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| JP2007100076A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Nippon Soda Co Ltd | 活性水素を含有するモノマーを用いた重合体の製造方法 |
-
1982
- 1982-09-22 JP JP16407882A patent/JPS5953506A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4731424A (en) * | 1986-03-14 | 1988-03-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for producing polymer compound containing alkenylsilyl group |
| JPS62257908A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-10 | Teiji Tsuruta | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |
| JPS62263190A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-16 | Teiji Tsuruta | 珪素を含む化合物及びその製造法 |
| JPH04356505A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-12-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリヒドロキシスチレンの製造方法 |
| JP2001294619A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-10-23 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| JP2001294618A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-10-23 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | スチレン系重合体及びその製造方法 |
| JP2007100076A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Nippon Soda Co Ltd | 活性水素を含有するモノマーを用いた重合体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6339001B2 (ja) | 1988-08-03 |
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