JPS62257908A - 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 - Google Patents
新しい珪素を含む重合体及びその製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本゛発明は新規な重合体およびその製造法に関するもの
であフ、さらに詳しくは、有機珪素基を側鎖に有する新
規な重合体およびその製造法に関するものである。
であフ、さらに詳しくは、有機珪素基を側鎖に有する新
規な重合体およびその製造法に関するものである。
(従来の技術)
従来からスチレン誘導体は数多(開発合成されてきてお
シ、その重合性を利用し、機能性高分子の合成等に広く
利用されている。
シ、その重合性を利用し、機能性高分子の合成等に広く
利用されている。
珪素原子を有するスチレン誘導体としては、パラ−トリ
メチルシリルスチレン、パラ−トリメチルシリルメチル
スチレン、ジメチルフェニルシリルスチレン、パラエト
キシトリメチルシリルスチレン[2−(4−エチニルフ
ェニル)エトキシ〕トリメチルシラン等が知られている
。
メチルシリルスチレン、パラ−トリメチルシリルメチル
スチレン、ジメチルフェニルシリルスチレン、パラエト
キシトリメチルシリルスチレン[2−(4−エチニルフ
ェニル)エトキシ〕トリメチルシラン等が知られている
。
これらの化合物の重合体は多数知られているが。
下記構造式(I)で示されるスチレンのベンゼン環に炭
素が3つ続いて結合し、その後にオキシラン基が結合し
た形のスチレン誘導体の重合体は、これまで知られてい
ない。
素が3つ続いて結合し、その後にオキシラン基が結合し
た形のスチレン誘導体の重合体は、これまで知られてい
ない。
(式中、 R,、Rt、 Rs= Ra−Rsは水素ま
たは炭素数1〜10のアルキル基、アリール基。
たは炭素数1〜10のアルキル基、アリール基。
アラルキル基を表わす。)
このような背景をふまえて検討を重ねた結果。
本発明者らは、r4造式(I)で示される新規なスチレ
ン誘導体の共重合体を合成するに到った。
ン誘導体の共重合体を合成するに到った。
(発明の構成)
本発明は、下記構造式(I)で示される重合単位よシ成
シ1分子量が5,000ないし200,000である線
状高分子に関している。
シ1分子量が5,000ないし200,000である線
状高分子に関している。
(式中、Ra、 Rt、 Ra−R4−R5は水素また
は炭素数1〜10のアルキル基、了り−ル基、アラルキ
ル基を表わす。) −cH,−CHI−C(RIR−t)−0−8t(Rl
R,R5)はビニル基に対して、オルト、メタ、パラい
ずれの位置であってもよいが、パラがよシ好ましい。R
,IR,、R,、R,、R,は、水素または炭素数1−
10のアルキル基、アリール基、アラルキル基金表わす
が、シリル基の反応性から、メチル基、エチル基、フェ
ニル基のいずれかであることが好ましい。
は炭素数1〜10のアルキル基、了り−ル基、アラルキ
ル基を表わす。) −cH,−CHI−C(RIR−t)−0−8t(Rl
R,R5)はビニル基に対して、オルト、メタ、パラい
ずれの位置であってもよいが、パラがよシ好ましい。R
,IR,、R,、R,、R,は、水素または炭素数1−
10のアルキル基、アリール基、アラルキル基金表わす
が、シリル基の反応性から、メチル基、エチル基、フェ
ニル基のいずれかであることが好ましい。
本発明における線状高分子の分子量はs、oo。
〜200,000であるが、よシ好ましくは10,00
0〜200,000である、 本発明の線状高分子は、構造式(II)で示される単量
体を重合させることによって得ることができる。
0〜200,000である、 本発明の線状高分子は、構造式(II)で示される単量
体を重合させることによって得ることができる。
(式中、Ra−Rt−Rs−Ra−Rsは水素または炭
素数1〜10のアルキル基、了リール基。
素数1〜10のアルキル基、了リール基。
アラルキル基金表わす。)
上記単量体は、ビニルトルエンを特定の有機リチウム「
ヒ合物で予めメチル基をリチオ比した後、オキシラン化
合物およびクロロシラン化合物を系内に添加する方法で
製造される。
ヒ合物で予めメチル基をリチオ比した後、オキシラン化
合物およびクロロシラン化合物を系内に添加する方法で
製造される。
重合方法には特に制限はなく、加熱による重合でも充分
可能であるが、重合開始剤を利用することが好ましい場
合が多い。重合開始剤として用いられるのは、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイル等の過酸化アシル類、アゾ
ビスイソブチロニトリル、2.2°−アゾビス(2,4
−ジメチルマレロニトリル)等のアゾニトリル類、過酸
化ジターシャリ−ブチル、過酸化ジクミル。
可能であるが、重合開始剤を利用することが好ましい場
合が多い。重合開始剤として用いられるのは、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイル等の過酸化アシル類、アゾ
ビスイソブチロニトリル、2.2°−アゾビス(2,4
−ジメチルマレロニトリル)等のアゾニトリル類、過酸
化ジターシャリ−ブチル、過酸化ジクミル。
ミチルエチルケトンバーオキシド等の過酸化物、クメン
ヒドロペルオキシド、ターシャリ−ヒドロペルオキシド
等のヒドロペルオキシド類である。
ヒドロペルオキシド、ターシャリ−ヒドロペルオキシド
等のヒドロペルオキシド類である。
本発明における重合体は、不活性液体の存在下で重合を
行って製造することも可能である。
行って製造することも可能である。
不活性液体としてはノルマル−ペンタン、ノルマル−ヘ
キサン、ノルマル−ヘプタン、ノルマル−オクタンを始
めとする脂肪族炭化水素類。
キサン、ノルマル−ヘプタン、ノルマル−オクタンを始
めとする脂肪族炭化水素類。
メタノール、エタノール、イングロビルアルコールナト
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトシ、ジエ
チルケトンなどのケトン類。
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトシ、ジエ
チルケトンなどのケトン類。
ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香原炭rヒ水
素類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドを
始めとするアミド類、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエタン等の脂肪族ハロゲン化物、クロルベンゼン
を始めとする芳香族ハロゲン化物。
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香原炭rヒ水
素類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドを
始めとするアミド類、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエタン等の脂肪族ハロゲン化物、クロルベンゼン
を始めとする芳香族ハロゲン化物。
また、ジメチルスルホキシド等の極性液体も用いること
ができる。なお、これらの液体は単独ないしは二つ以上
の液体の混合物として用いることもできる。
ができる。なお、これらの液体は単独ないしは二つ以上
の液体の混合物として用いることもできる。
本発明において反応を行う温度については得に制限はな
いが、20〜150℃が好ましく。
いが、20〜150℃が好ましく。
50〜100℃がよシ好ましい。反応時間に制限はない
が、10分ないし500時間が好ましく、1時間ないし
100時間がより好ましい。
が、10分ないし500時間が好ましく、1時間ないし
100時間がより好ましい。
反応条件、目的物によって反応速度が異なるため、おの
ずと分子量も異なる。分子量の大きい線状高分子を得る
ためには、反応温度70〜100℃1反応時間20〜6
0時間がよ)好ましい。ガスクロマトグラフィーや液体
クロマトグラフィー等で原料や生成物の定f[e行い、
適当な分子量の生成物が得られた時点で反応の終了時間
を決定することが推奨される。
ずと分子量も異なる。分子量の大きい線状高分子を得る
ためには、反応温度70〜100℃1反応時間20〜6
0時間がよ)好ましい。ガスクロマトグラフィーや液体
クロマトグラフィー等で原料や生成物の定f[e行い、
適当な分子量の生成物が得られた時点で反応の終了時間
を決定することが推奨される。
(発明の効果)
本発明によって得られる新規な重合体(I)は、その珪
素原子による難燃効果から、難燃剤への利用が考えられ
るとともに、側鎖の珪素原子を利用して機能性高分子と
なフ、e未透過性膜への利用やフォトレジスト、電子線
レジスト用ポリマーの一成分として有用である。また。
素原子による難燃効果から、難燃剤への利用が考えられ
るとともに、側鎖の珪素原子を利用して機能性高分子と
なフ、e未透過性膜への利用やフォトレジスト、電子線
レジスト用ポリマーの一成分として有用である。また。
このポリマーを混入することによシ、珪素化合物である
シリコーンオイル、グラスファイバー等との密着性が非
常に曳くなシ、珪素化合物を使った複合材料の改質剤と
しても有用である、(実施例) 板子に本発明の実施(3ioを示すが、これらは本発明
を制限するものではない。
シリコーンオイル、グラスファイバー等との密着性が非
常に曳くなシ、珪素化合物を使った複合材料の改質剤と
しても有用である、(実施例) 板子に本発明の実施(3ioを示すが、これらは本発明
を制限するものではない。
実施例1
50ゴのアンプルに5.02のC3−(4−エチニルフ
ェニル) −tert−ペントキシ〕トリメチルシラン
、20−のキシレンおよび0.052のアゾビスイソブ
チロニトリルを入れ、充分混合溶解させた後、アンプル
管内を窒素パージして封管した。これを80℃の水浴中
に24時間浸漬した。冷却後、封管を割って内容物をヘ
キサン中にあけて沈澱を濾別し、ヘキサンで充分洗浄し
た後、真空乾燥して重tを測定したところ、4.889
(97,6%)であった。この生成物の元素分析値およ
び赤外吸収スペクトルにおける主なピークは次のとおシ
である。
ェニル) −tert−ペントキシ〕トリメチルシラン
、20−のキシレンおよび0.052のアゾビスイソブ
チロニトリルを入れ、充分混合溶解させた後、アンプル
管内を窒素パージして封管した。これを80℃の水浴中
に24時間浸漬した。冷却後、封管を割って内容物をヘ
キサン中にあけて沈澱を濾別し、ヘキサンで充分洗浄し
た後、真空乾燥して重tを測定したところ、4.889
(97,6%)であった。この生成物の元素分析値およ
び赤外吸収スペクトルにおける主なピークは次のとおシ
である。
元素分析値(括弧内は理論値を表わす、)Cニア3.1
4(73,20) H: 9.91(10,00) 0: 6.15(6,10) St: 10.80(10,70) 赤外吸収スペクトル 3080.2960,1900,1630゜1610.
1520,1410.1380゜1370.1270.
1180,1150゜1140.1110% 10!M
3、88o。
4(73,20) H: 9.91(10,00) 0: 6.15(6,10) St: 10.80(10,70) 赤外吸収スペクトル 3080.2960,1900,1630゜1610.
1520,1410.1380゜1370.1270.
1180,1150゜1140.1110% 10!M
3、88o。
840.760.680ロー1
単量体におけるC=C2重結合に由来する吸収が消失し
ていることから、重合体になっていることが確認された
。このものを、ゲルパーミエイションクロマトグラフィ
ーによって、ポリスチレンを検tiとして用いることに
よって分子iを測定したところ、分子量は120,00
0であった。
ていることから、重合体になっていることが確認された
。このものを、ゲルパーミエイションクロマトグラフィ
ーによって、ポリスチレンを検tiとして用いることに
よって分子iを測定したところ、分子量は120,00
0であった。
実施例2
C3−(4−エチニルフェニル) −tert−ペント
キシ〕トリメチルシランの代ゎシに〔3−(4−エチニ
ルフェニル) 5ee−ブトキシ)トリノチルシラン
を用いたこと以外は、実施例1とまったく同様に反応、
操作を行った。得られた生成物の収量は4.82F(9
6,4%)であシ、−七の元素分析値および赤外吸収ス
ペクトルにおける王なピークは次のとおりである。
キシ〕トリメチルシランの代ゎシに〔3−(4−エチニ
ルフェニル) 5ee−ブトキシ)トリノチルシラン
を用いたこと以外は、実施例1とまったく同様に反応、
操作を行った。得られた生成物の収量は4.82F(9
6,4%)であシ、−七の元素分析値および赤外吸収ス
ペクトルにおける王なピークは次のとおりである。
元素分析値(括弧内は理論値を表わす)Cニア2.63
(72,50) )I: 9.86(9,76) 0: 6.33(6,44) Si:11.18(11,30) 赤外吸収スペクトル 3060.3000.2950.1900.1620.
1510,1440.1400%1370.1260,
1180.1130.1070.830,750,68
0cm−’また1分子量を実施例1と同様に測定したと
ころ1分子量は110,000であった。
(72,50) )I: 9.86(9,76) 0: 6.33(6,44) Si:11.18(11,30) 赤外吸収スペクトル 3060.3000.2950.1900.1620.
1510,1440.1400%1370.1260,
1180.1130.1070.830,750,68
0cm−’また1分子量を実施例1と同様に測定したと
ころ1分子量は110,000であった。
実施例3
C3−(4−エチニルフェニル) −tert−ペント
キシ〕トリメチルシランの代わシに〔3−〔4−エチニ
ルフェニル) −tert−ペントキシ〕トリエチルシ
ランを用いたこと以外は、実施例1とまったく同様に反
応、操作を行った。得られた生成物の収量は4.89f
(97,8%)であシ、その元素分析値および赤外吸収
スペクトルにおける生なピークは次のとおシである。
キシ〕トリメチルシランの代わシに〔3−〔4−エチニ
ルフェニル) −tert−ペントキシ〕トリエチルシ
ランを用いたこと以外は、実施例1とまったく同様に反
応、操作を行った。得られた生成物の収量は4.89f
(97,8%)であシ、その元素分析値および赤外吸収
スペクトルにおける生なピークは次のとおシである。
元素分析値(括弧内は理論値を表わす)Cニア4.91
(74,92) H:10.71(10,61) Q: 5.18(5,25) Si: 9.20(9,22) 赤外吸収スペクトル 3070.2980.19(10,163n−1510
,1410,1370,1180,1150,1050
,870,840゜750.680cm−” また1分子量を実施例1と同様に測定したところ1分子
量は120,000であった。
(74,92) H:10.71(10,61) Q: 5.18(5,25) Si: 9.20(9,22) 赤外吸収スペクトル 3070.2980.19(10,163n−1510
,1410,1370,1180,1150,1050
,870,840゜750.680cm−” また1分子量を実施例1と同様に測定したところ1分子
量は120,000であった。
実施例4
[3−(4−エチニルフェニル) −tert−ペント
キシ〕トリメチルシランの代わシに〔3−〔4−エチニ
ルフェニル) 5ee−フトキシ〕トリエチルシラン
を用いたこと以外は、実施例1と′まった(同様に反応
、操作を行った。得られた生成物の収量は4.85F(
97,0%)であう、その元素分析値および赤外吸収ス
ペクトルにおける主なピークは次のとおシでちる。
キシ〕トリメチルシランの代わシに〔3−〔4−エチニ
ルフェニル) 5ee−フトキシ〕トリエチルシラン
を用いたこと以外は、実施例1と′まった(同様に反応
、操作を行った。得られた生成物の収量は4.85F(
97,0%)であう、その元素分析値および赤外吸収ス
ペクトルにおける主なピークは次のとおシでちる。
元素分析値(括弧内は理論値を表わす)Cニア4.32
(74,40) H:10.51(10,43) 0: 5.50(5,51) Si: 9.65(9,66) 赤外吸収スペクトル 3060.2990.2950,1900゜1620.
1510,1430,1400゜1370.1250,
1180,1130゜1070、 830. 750.
680m″″′また、分子t’を実施例1と同様に測
定したところ1分子量は110,000であった。
(74,40) H:10.51(10,43) 0: 5.50(5,51) Si: 9.65(9,66) 赤外吸収スペクトル 3060.2990.2950,1900゜1620.
1510,1430,1400゜1370.1250,
1180,1130゜1070、 830. 750.
680m″″′また、分子t’を実施例1と同様に測
定したところ1分子量は110,000であった。
実施例5
実施911で合成したポリマー12をテトラヒドロフラ
ン20−に溶解させた後、洗浄したガラス表面に、この
溶液を塗シボリマーフィルムを作った。溶媒のテトラヒ
ドロフラン120cで24時間乾燥して除去した後、水
にガラスを浸漬してポリマーフィルムを剥離した後、フ
ィルムを48時間真空乾燥した。
ン20−に溶解させた後、洗浄したガラス表面に、この
溶液を塗シボリマーフィルムを作った。溶媒のテトラヒ
ドロフラン120cで24時間乾燥して除去した後、水
にガラスを浸漬してポリマーフィルムを剥離した後、フ
ィルムを48時間真空乾燥した。
このフィルムの一方の側から空気を加え1反対側へ通過
して(るガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.5であった口 実施例6 実施例2で合成したポリマー12をテトラヒドロフラン
20−に溶解させた後、洗浄したガラス表面に、この容
赦を塗シポリマーフィルムを作った、溶媒のテトラヒド
ロフラン120’cで24時間乾燥して除去した後、水
にガラスを浸漬してポリマーフィルムを剥離した後、フ
ィルムを48時間真空乾燥した。
して(るガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.5であった口 実施例6 実施例2で合成したポリマー12をテトラヒドロフラン
20−に溶解させた後、洗浄したガラス表面に、この容
赦を塗シポリマーフィルムを作った、溶媒のテトラヒド
ロフラン120’cで24時間乾燥して除去した後、水
にガラスを浸漬してポリマーフィルムを剥離した後、フ
ィルムを48時間真空乾燥した。
このフィルムの一方の側から空気を加え1反対側へ通過
してくるガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.7であった。
してくるガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.7であった。
Claims (3)
- (1)下記構造式( I )で示される重合単位より成り
、分子量5,000〜200,000である線状高分子
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水
素または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表わす。) - (2)R_1、R_2、R_3、R_4、R_5がメチ
ル基、エチル基、フェニル基のいずれかである特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 - (3)下記構造式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水
素または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表わす。) で示される単量体を重合させることを特徴とする下記構
造式( I )で示される重合単位より成り、分子量が5
,000〜200,000である線状高分子の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水
素または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10192286A JPS62257908A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10192286A JPS62257908A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62257908A true JPS62257908A (ja) | 1987-11-10 |
Family
ID=14313401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10192286A Pending JPS62257908A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62257908A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5953506A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
JPS5953516A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | 新規ブロツク共重合体及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP10192286A patent/JPS62257908A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5953506A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
JPS5953516A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | 新規ブロツク共重合体及びその製造方法 |
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