JPS62198176A - 透明高分子圧電素子及びその製造方法 - Google Patents
透明高分子圧電素子及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、新規な透明高分子圧電素子及びその製造方法
に関する。
に関する。
〈従来の技術〉
高分子圧電材料としては、例えばセルロース、蛋白質等
の天然高分子やポリーr−メチルーグルタメート等の合
成高分子の延伸フィルムや、またこれと拡別にいくつか
の合成高分子のエレクトレ、ト化したもの、例えばポリ
7ツ化ビニル、フッ化ビニル共重合体、y/ IJ 7
、化ビニリデン、フ、化ビニリデン共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリカーゴネート、
ナイロン11、ポリシアン化ビニリデン、シアン化ビニ
リデン共重合体などの未延伸または延伸フィルムを直流
高電界下でエレクトレット化したものか知られている。
の天然高分子やポリーr−メチルーグルタメート等の合
成高分子の延伸フィルムや、またこれと拡別にいくつか
の合成高分子のエレクトレ、ト化したもの、例えばポリ
7ツ化ビニル、フッ化ビニル共重合体、y/ IJ 7
、化ビニリデン、フ、化ビニリデン共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリカーゴネート、
ナイロン11、ポリシアン化ビニリデン、シアン化ビニ
リデン共重合体などの未延伸または延伸フィルムを直流
高電界下でエレクトレット化したものか知られている。
そして、これらの材料を圧電素子として使用する場合、
電圧を印加あるいは取り出すに際し、金やアルミニウム
などの金属を真空蒸着法やスノ母ックリング法にてフィ
ルムの両面に電極として形成させなければならない。ま
た、導電ペーストをフィルム両面に塗布する又は金属箔
などの導電性フィルムを密着させるなどKより電極を形
成することもある。しかし、上記電極のために高分子圧
電素子は不透明とな9、透明性を要する分野には使用で
きず、実用面での制約が大きい。
電圧を印加あるいは取り出すに際し、金やアルミニウム
などの金属を真空蒸着法やスノ母ックリング法にてフィ
ルムの両面に電極として形成させなければならない。ま
た、導電ペーストをフィルム両面に塗布する又は金属箔
などの導電性フィルムを密着させるなどKより電極を形
成することもある。しかし、上記電極のために高分子圧
電素子は不透明とな9、透明性を要する分野には使用で
きず、実用面での制約が大きい。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明者等は、かかる既存の高分子圧電素子の欠点を排
除し、成形加工性に優れ、かつ高い透明性を有する高分
子圧電素子を得ることを目的として鋭意検討を行った。
除し、成形加工性に優れ、かつ高い透明性を有する高分
子圧電素子を得ることを目的として鋭意検討を行った。
く問題点を解決するための手段〉
その結果、下記の如くピロール又はその誘導体の重合体
の層を透明な高分子圧電材料の表面に形成させたものが
上記目的を達成し得ることを見出し、かかる知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
の層を透明な高分子圧電材料の表面に形成させたものが
上記目的を達成し得ることを見出し、かかる知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
すなわち本発明の第1の蛇明は、透明な高分子圧電材料
上にピロール又はその誘導体の重合体層を形成した透明
高分子圧電素子である。
上にピロール又はその誘導体の重合体層を形成した透明
高分子圧電素子である。
第2の発明は、エレクトレット化された透明な高分子圧
電材料上にピロール又はその誘導体の重合酸化剤をコー
ティングし、ピロール又はその誘導体の蒸気と接触させ
る仁とによシピロール又はその誘導体を重合することを
特徴とする透明高分子圧電素子の製造方法である。
電材料上にピロール又はその誘導体の重合酸化剤をコー
ティングし、ピロール又はその誘導体の蒸気と接触させ
る仁とによシピロール又はその誘導体を重合することを
特徴とする透明高分子圧電素子の製造方法である。
第3の発明は、エレクトレット化によって圧電性を示す
透明な高分子材料上にピロール又はその誘導体の重合酸
化剤をコーティングし、ピロール又はその誘導体の蒸気
と接触させることKよυピロール又はその誘導体を蒐合
し、次いでエレクトレット化することを特徴とする透明
高分子圧電素子の製造方法である。
透明な高分子材料上にピロール又はその誘導体の重合酸
化剤をコーティングし、ピロール又はその誘導体の蒸気
と接触させることKよυピロール又はその誘導体を蒐合
し、次いでエレクトレット化することを特徴とする透明
高分子圧電素子の製造方法である。
本発明に用いられるエレクトレット化により圧電性を示
す透明な高分子としては、ボリア、化ビニル、フッ化ビ
ニル共重合体、ボリア、化ビニリデン、7ツ化ビニリデ
ン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、
ポリカーゴネート、ナイロン11、ポリシアン化ビニリ
デン、シアン化ビニリデン共重合体などがある。
す透明な高分子としては、ボリア、化ビニル、フッ化ビ
ニル共重合体、ボリア、化ビニリデン、7ツ化ビニリデ
ン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、
ポリカーゴネート、ナイロン11、ポリシアン化ビニリ
デン、シアン化ビニリデン共重合体などがある。
フ、化ビニリデン共重合体としては、7ツ化ビニリデン
と共重合可能な他の一種以上の七ツマ−との共重合体で
ある。共重合可能な他の七ツマ−としてはフッ化ビニル
、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、三フッ化塩化
エチレン、六7.化プロピレン、パークロロビニルエー
テル、シアン化ビニリデンが例示されるが、これらに限
定されるものではない。
と共重合可能な他の一種以上の七ツマ−との共重合体で
ある。共重合可能な他の七ツマ−としてはフッ化ビニル
、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、三フッ化塩化
エチレン、六7.化プロピレン、パークロロビニルエー
テル、シアン化ビニリデンが例示されるが、これらに限
定されるものではない。
シアン化ビニリデン共重合体としては、シアン化ビニリ
デンと共重合可能な他の一種以上のモノマーとの共重合
体である。共重合可能な他のモノマートシては、D酸ビ
ニル、グロビオン酸ビニル、MITビニル、安息香酸ビ
ニル等のビニルエステルlJ4、)fルビニルエーテル
等のビニルエーテル類、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、スチレン、クロロブタノエン、ノクロル
スチレン、メタクリル酸メチル、エチレン、インブチレ
ン、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン等が例示される
が、これらに限定されるものではない。
デンと共重合可能な他の一種以上のモノマーとの共重合
体である。共重合可能な他のモノマートシては、D酸ビ
ニル、グロビオン酸ビニル、MITビニル、安息香酸ビ
ニル等のビニルエステルlJ4、)fルビニルエーテル
等のビニルエーテル類、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、スチレン、クロロブタノエン、ノクロル
スチレン、メタクリル酸メチル、エチレン、インブチレ
ン、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン等が例示される
が、これらに限定されるものではない。
これ等のエレクトレット化によシ圧電性を示す透明な高
分子は、押出機又はホウトゲレスを用いて、あるいは良
溶媒に溶解し九樹脂溶液をキャヌトすることにより成膜
される。いずれの方法によりて得られた成形物も配向性
を高めるために延伸することが好ましく、この場合の延
伸方法としてはロールやカレンダーによる圧延、延伸装
置を用いて機械的な一軸または二軸方向への延伸を行う
。
分子は、押出機又はホウトゲレスを用いて、あるいは良
溶媒に溶解し九樹脂溶液をキャヌトすることにより成膜
される。いずれの方法によりて得られた成形物も配向性
を高めるために延伸することが好ましく、この場合の延
伸方法としてはロールやカレンダーによる圧延、延伸装
置を用いて機械的な一軸または二軸方向への延伸を行う
。
また、インフレーシ曹ン成形等により成形と同時に延伸
を行って延伸フィルムを製造することもできる。
を行って延伸フィルムを製造することもできる。
ピロールの誘導体としては、例えばN−アルキルピロー
ル、N−7リールピロール、3−アルキルビロール、3
−ハロゲン化ビロール、3.4−−/アルキルピロール
、3.4−ノハロrン化ヒロールなどである。
ル、N−7リールピロール、3−アルキルビロール、3
−ハロゲン化ビロール、3.4−−/アルキルピロール
、3.4−ノハロrン化ヒロールなどである。
N−フルキルピロール、3−フルキルビロール、3.4
−ジアルキルピロールとしては、アルキル基中に1〜4
個の炭素原子を有するもの、3−ハロゲン化ピロール、
3.4−ジハロゲン化ヒロールとしてはクロル置換のも
のが、特に優れている。
−ジアルキルピロールとしては、アルキル基中に1〜4
個の炭素原子を有するもの、3−ハロゲン化ピロール、
3.4−ジハロゲン化ヒロールとしてはクロル置換のも
のが、特に優れている。
以下、上記透明高分子フィルム上に形成する重合体層と
してピロールの重合体(ポリピロール)を例にとり本発
明を説明する。
してピロールの重合体(ポリピロール)を例にとり本発
明を説明する。
このフィルム上にポリピロール層を形成するためにピロ
ールの重合酸化剤の層を設けるが、この層と圧電性を示
す高分子のフィルムとの密着性を向上させるためにフィ
ルム表面をコロナ放電、逆スノ9ツタリングのような物
理処理、あるいは酸又はアルカリ溶液により表面のみを
化学エツチングする等の化学処理、あるいは、ウレタン
系樹脂、ポリエチレンイミン系樹脂などの水溶液、エマ
ルジ璽ン溶液、溶剤溶液をアンカーコートすることによ
るアンカーコート処理を施すことが望ましい。
ールの重合酸化剤の層を設けるが、この層と圧電性を示
す高分子のフィルムとの密着性を向上させるためにフィ
ルム表面をコロナ放電、逆スノ9ツタリングのような物
理処理、あるいは酸又はアルカリ溶液により表面のみを
化学エツチングする等の化学処理、あるいは、ウレタン
系樹脂、ポリエチレンイミン系樹脂などの水溶液、エマ
ルジ璽ン溶液、溶剤溶液をアンカーコートすることによ
るアンカーコート処理を施すことが望ましい。
次に表面処理されたエレクトレット化によシ圧電性を示
す高分子のフィルムの両面にピロールの重合酸化剤、好
ましくは重合酸化剤を含有している高分子溶液を塗布す
る。ここで、重合酸化剤とは、ピロールを重合してポリ
ピロールを合成しうる酸化剤のことである。塗布量は乾
燥時の厚みで0.1〜3μ倶になるように塗布すること
が望ましい。
す高分子のフィルムの両面にピロールの重合酸化剤、好
ましくは重合酸化剤を含有している高分子溶液を塗布す
る。ここで、重合酸化剤とは、ピロールを重合してポリ
ピロールを合成しうる酸化剤のことである。塗布量は乾
燥時の厚みで0.1〜3μ倶になるように塗布すること
が望ましい。
ピロールの重合酸化剤としては金属塩、過硫酸塩、キノ
ン類、ジアゾニウム塩などを用いることができる。金属
塩としては塩化第二鉄、硫酸第Z鉄、塩化第二銅、硫酸
第二銅、三塩化ルテニウム、五塩化モリブデンなど、過
硫酸塩としては過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、
過硫酸ナトリウムなど、キノン類としてはベンゾキノン
など、ジアゾニウム塩としては塩化ベンゼンノアゾニウ
ムなどである。その他、フェロシアン化カリウム、ヘキ
クロロ白金(IV)酸なども用いることができる。
ン類、ジアゾニウム塩などを用いることができる。金属
塩としては塩化第二鉄、硫酸第Z鉄、塩化第二銅、硫酸
第二銅、三塩化ルテニウム、五塩化モリブデンなど、過
硫酸塩としては過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、
過硫酸ナトリウムなど、キノン類としてはベンゾキノン
など、ジアゾニウム塩としては塩化ベンゼンノアゾニウ
ムなどである。その他、フェロシアン化カリウム、ヘキ
クロロ白金(IV)酸なども用いることができる。
ピロールの重合酸化剤を含有させる高分子としてはポリ
ビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリカー−
ネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ボリア、化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデ
ン、?リプタジエン、ポリイソプレン、ポリクロログレ
ン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、シリコンあような疎水性高分子、ポリビニルアル
コール、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、
ポリビニルピロリドン、ポリヒドロキシエチルメタクリ
レート、ポリエチレングリコール、ポリノロ。ピレング
リコール、ポリアクリル酸及びその塩、ポリメタクリル
酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩など
の親水性高分子及びこれらの誘導体ならびにこれらの二
成分以上の共重合体及びブレンド物である。共重合体の
中には、ビニルアルコールド酢酸ビニルの共重合体であ
るポリ酢酸ビニルの部分ケン化物、エチレングリコール
とゾロピレングリコールのプロ、り共重合体なども含ま
れ、アセタール化ポリビニルアルコールのように架橋剤
で架橋された高分子なども含まれる。また、セルロース
、でんぷん、カゼイン、天然ゴムなどのごとき天然高分
子化合物、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ーヌ、カル?キシルメチルセルロースナトのセルロース
誘導体のごとき高分子化合物、及びガラス、シリカ、ア
ルミナのごとき無機高分子化合物なども使用できる。
ビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリカー−
ネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ボリア、化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデ
ン、?リプタジエン、ポリイソプレン、ポリクロログレ
ン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、シリコンあような疎水性高分子、ポリビニルアル
コール、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、
ポリビニルピロリドン、ポリヒドロキシエチルメタクリ
レート、ポリエチレングリコール、ポリノロ。ピレング
リコール、ポリアクリル酸及びその塩、ポリメタクリル
酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩など
の親水性高分子及びこれらの誘導体ならびにこれらの二
成分以上の共重合体及びブレンド物である。共重合体の
中には、ビニルアルコールド酢酸ビニルの共重合体であ
るポリ酢酸ビニルの部分ケン化物、エチレングリコール
とゾロピレングリコールのプロ、り共重合体なども含ま
れ、アセタール化ポリビニルアルコールのように架橋剤
で架橋された高分子なども含まれる。また、セルロース
、でんぷん、カゼイン、天然ゴムなどのごとき天然高分
子化合物、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ーヌ、カル?キシルメチルセルロースナトのセルロース
誘導体のごとき高分子化合物、及びガラス、シリカ、ア
ルミナのごとき無機高分子化合物なども使用できる。
これらの高分子の水溶液、溶剤溶液、水分散液あるいは
溶剤分散液と重合酸化剤の溶液あるいは分散液を混合す
ることによシ重合酸化剤を含有している高分子溶液また
は分散液を調整する。この溶液を表面処理された圧電性
を示す高分子フィルムの両面に塗布し乾燥する。このよ
うにして得たフィルムを水分の共存下でビロール蒸気と
接触させることによりピロールを重合してフィルム両面
に透明導電性ポリピロールを形成させる。
溶剤分散液と重合酸化剤の溶液あるいは分散液を混合す
ることによシ重合酸化剤を含有している高分子溶液また
は分散液を調整する。この溶液を表面処理された圧電性
を示す高分子フィルムの両面に塗布し乾燥する。このよ
うにして得たフィルムを水分の共存下でビロール蒸気と
接触させることによりピロールを重合してフィルム両面
に透明導電性ポリピロールを形成させる。
上記成形物に圧電性を付与するためのエレクトレット化
(分極処理)はポリピロール電極形成工程の前又は後の
いずれに行ってもよい。ポリピロール電極形成後にエレ
クトレット化を行う場合には、成形物を所定の温度に加
熱し、そのままの状態でポリピロール層を電極としてフ
ィルム六裏から直流電界もしくは直流と交流電界を一定
時間印加し、しかる後、徐冷又は急冷することによって
エレクトレット化を行う。エレクトレット化の最適条件
は重合体くよって異なるが、結晶性重合体ではIラヌ転
移温度の近傍でエレクトレット化することが望ましく、
一般的には一り0℃〜250C。
(分極処理)はポリピロール電極形成工程の前又は後の
いずれに行ってもよい。ポリピロール電極形成後にエレ
クトレット化を行う場合には、成形物を所定の温度に加
熱し、そのままの状態でポリピロール層を電極としてフ
ィルム六裏から直流電界もしくは直流と交流電界を一定
時間印加し、しかる後、徐冷又は急冷することによって
エレクトレット化を行う。エレクトレット化の最適条件
は重合体くよって異なるが、結晶性重合体ではIラヌ転
移温度の近傍でエレクトレット化することが望ましく、
一般的には一り0℃〜250C。
好ましくは20℃〜190Cの範囲が用いられる。
印加電圧は、一般的K 10 kV/cm以上絶縁破壊
を生じない程度の電界強度、好ましくは100〜300
0kV/anであり、処理時間は特に限定されないが、
30分以上処理することが好適である。この様にして透
明高分子圧電素子を得る。
を生じない程度の電界強度、好ましくは100〜300
0kV/anであり、処理時間は特に限定されないが、
30分以上処理することが好適である。この様にして透
明高分子圧電素子を得る。
また、ポリピロール電極形成前にエレクトレ。
ト化を行う場合には、圧電性を示す高分子フィルムの両
面を銅板などの電極板で挾み前記と同様なエレクトレッ
ト化を行った後、スバ、タリング等により表面処理を行
い前記と同様にビロールの重合酸化剤を含む高分子層を
設けてポリピロールを形成してもよい。この場合は、ポ
リピロールM’に形成してからエレクトレット化を行う
必要がない。
面を銅板などの電極板で挾み前記と同様なエレクトレッ
ト化を行った後、スバ、タリング等により表面処理を行
い前記と同様にビロールの重合酸化剤を含む高分子層を
設けてポリピロールを形成してもよい。この場合は、ポ
リピロールM’に形成してからエレクトレット化を行う
必要がない。
更に、場合によっては電極であるポリピロール層の表面
保護のために、シリコン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン
樹脂などで)、17’コートを行ってもよい。
保護のために、シリコン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン
樹脂などで)、17’コートを行ってもよい。
〈実施例〉
次に実施例によって本発明をL!に具体的に説明するが
、本発明はその要旨を越えない限シ以下の実施例に制約
されるものではない。
、本発明はその要旨を越えない限シ以下の実施例に制約
されるものではない。
実施例1
ポリフッ化ビニリrン樹脂を用いて常法による溶融押出
し成形によシ厚さ100μmの未配向フィルムを得た。
し成形によシ厚さ100μmの未配向フィルムを得た。
このフィルムを延伸温度80℃で一軸方向に約4倍延伸
した後、延伸方向に張力を加え九′1ま拘束し、銅板の
電極間に挾んで400 kV^の直流電界を100℃で
30分間印加し、その後室温まで冷却して電界を解除す
る方法でエレクトレット化を行っ九。
した後、延伸方向に張力を加え九′1ま拘束し、銅板の
電極間に挾んで400 kV^の直流電界を100℃で
30分間印加し、その後室温まで冷却して電界を解除す
る方法でエレクトレット化を行っ九。
この上うに処理されたフィルムの両面にウレタン樹脂の
酢酸エチル溶液を乾燥時の厚みが0.5μmになる様に
パーコーターで塗工し乾燥した。次にフィルム両面のア
ンカーコート層の上に、ポリメチルメタクリレート;塩
化第二鉄:アセトン=8:2:90(重量比)からなる
溶液を乾燥時の厚みで1μmになるように塗工し乾燥し
た。
酢酸エチル溶液を乾燥時の厚みが0.5μmになる様に
パーコーターで塗工し乾燥した。次にフィルム両面のア
ンカーコート層の上に、ポリメチルメタクリレート;塩
化第二鉄:アセトン=8:2:90(重量比)からなる
溶液を乾燥時の厚みで1μmになるように塗工し乾燥し
た。
容積0.03 m”のデシケータ−中に水10プ及びビ
ロール10mを配置すると共に上記フィルムを気相部分
に放置し、系内の圧力を10 rmHtに保うて一10
℃で3時間ビロールの重合反応を行い、フィルム両面に
電極としてのポリピロールを形成し、透明高分子圧電素
子を得た。このフィルムの550nmでの光の透過率は
55%、圧電率は45X10−8CGS emuであっ
た(圧電素子のフィルムの厚み35μm)。
ロール10mを配置すると共に上記フィルムを気相部分
に放置し、系内の圧力を10 rmHtに保うて一10
℃で3時間ビロールの重合反応を行い、フィルム両面に
電極としてのポリピロールを形成し、透明高分子圧電素
子を得た。このフィルムの550nmでの光の透過率は
55%、圧電率は45X10−8CGS emuであっ
た(圧電素子のフィルムの厚み35μm)。
このフィルムの弐面抵抗はl×10Ω、4−でおりた。
実施例2
ツク化ビニリデンー三7.化エチレン共重合体(三7.
化エチレン含有量45モル俤〕をメチルエチルケトンに
溶解し、ガラヌ板上でキャスティングフィルムを作表し
、延伸温度25Cで一軸方向に約4倍延伸した。
化エチレン含有量45モル俤〕をメチルエチルケトンに
溶解し、ガラヌ板上でキャスティングフィルムを作表し
、延伸温度25Cで一軸方向に約4倍延伸した。
この延伸フィルムの両面に、ウレタン樹脂の酢酸エチル
溶液を乾燥時の厚みが0.5μsKなる様にパーコータ
ーで塗工し乾燥し丸。次にフィルム両面のアンカーコー
ト層の上に、ポリビニルアルコール:塩化第二鉄:水=
8:2:90(重量比〕からなる溶液を、乾燥時の厚み
で1ayyuCなるように塗工し乾燥した。
溶液を乾燥時の厚みが0.5μsKなる様にパーコータ
ーで塗工し乾燥し丸。次にフィルム両面のアンカーコー
ト層の上に、ポリビニルアルコール:塩化第二鉄:水=
8:2:90(重量比〕からなる溶液を、乾燥時の厚み
で1ayyuCなるように塗工し乾燥した。
上記フィルムを容積0.03m”のデシケータ−中に水
10m/及びビロール10mと共に気相部に放置し、系
内の圧力を200mmH1に保りて20℃で2時間ピロ
ールの重合反応を行い、フィルム両面にポリピロールの
形成を行った。
10m/及びビロール10mと共に気相部に放置し、系
内の圧力を200mmH1に保りて20℃で2時間ピロ
ールの重合反応を行い、フィルム両面にポリピロールの
形成を行った。
この形成されたポリピロール層を電極として400 k
Vlollの電界を50℃で30分間印加して後、室温
まで冷却することKよってエレクトレット化を行い、透
明高分子圧電素子を得た。
Vlollの電界を50℃で30分間印加して後、室温
まで冷却することKよってエレクトレット化を行い、透
明高分子圧電素子を得た。
このフィルムの550 nmでの光透過率は55%。
圧電率は100 X 10 CGS・Inでおった(
圧電素子のフィルムの厚みは40μ、m )。
圧電素子のフィルムの厚みは40μ、m )。
また、このフィルムの表面抵抗は2 X 10’ Q/
cdであった。
cdであった。
実施例3
シアン化ビニリデンと酢酸ビニルの交互共重合体をN、
N’−ジメチルアセトアミドに溶解し、ガラス板上でキ
ャヌティングフィルムを得た。このフィルムを延伸温度
50℃で一軸方向に2.5倍延伸した後、延伸方向に張
力を加え拘束したまま2枚の銅板で挾み、銅板を電極と
して400 kV/lllの直流電界を170℃で2時
間印加し、その後室温まで冷却を行い電界を解除してエ
レクトレット化を行った。
N’−ジメチルアセトアミドに溶解し、ガラス板上でキ
ャヌティングフィルムを得た。このフィルムを延伸温度
50℃で一軸方向に2.5倍延伸した後、延伸方向に張
力を加え拘束したまま2枚の銅板で挾み、銅板を電極と
して400 kV/lllの直流電界を170℃で2時
間印加し、その後室温まで冷却を行い電界を解除してエ
レクトレット化を行った。
エレクトレット化されたフィルムの表面にアクリル酸エ
ステル系のエマルノ腎ンを乾燥時の厚みが0.3μmに
なるようにバーコーターで塗工し乾燥して得たアンカー
コート層の上にポリアクリルアミド:塩化第二鉄:水=
9.5:0.5:90 (重量比)からなる水溶液を乾
燥時の厚みで1 /J?3になるように塗工し乾燥した
。
ステル系のエマルノ腎ンを乾燥時の厚みが0.3μmに
なるようにバーコーターで塗工し乾燥して得たアンカー
コート層の上にポリアクリルアミド:塩化第二鉄:水=
9.5:0.5:90 (重量比)からなる水溶液を乾
燥時の厚みで1 /J?3になるように塗工し乾燥した
。
次に、上記フィルムを容量0.03 rn”のデシケー
タ−中に水10m/及びピロール10mと共に気相部に
放置し、系内の圧力を10mHgに保って一10℃で3
時間ピロールの重合反応を行い、フィルムの両面に電極
としてポリピロールを形成し透明高分子圧電素子を得た
。
タ−中に水10m/及びピロール10mと共に気相部に
放置し、系内の圧力を10mHgに保って一10℃で3
時間ピロールの重合反応を行い、フィルムの両面に電極
としてポリピロールを形成し透明高分子圧電素子を得た
。
このフィルムの550 nmでの光の透過率は70チ、
圧電率は30 X 10 CGS @muでありた(
圧電素子のフィルムの厚み30綿)。
圧電率は30 X 10 CGS @muでありた(
圧電素子のフィルムの厚み30綿)。
このフィルムの表面抵抗は1×10Ω〜であった。
実施例4
ボリア、化ビニリデン樹脂を用いて常法による溶融押出
し成形して得念厚さ100 pmの未配向フィルムを、
延伸温度80℃で一軸方向く約4倍延伸した後、このフ
ィルムの表面をスパッタリング装置によシ逆スノ臂ツタ
リングして表面処理を行った0次に、フィルム両面上に
ポリビニルアルコール:塩化第二鉄:水=8:2:90
(重量比〕からなる水溶液を乾燥時の厚みで1綿になる
ように塗工して乾燥した。
し成形して得念厚さ100 pmの未配向フィルムを、
延伸温度80℃で一軸方向く約4倍延伸した後、このフ
ィルムの表面をスパッタリング装置によシ逆スノ臂ツタ
リングして表面処理を行った0次に、フィルム両面上に
ポリビニルアルコール:塩化第二鉄:水=8:2:90
(重量比〕からなる水溶液を乾燥時の厚みで1綿になる
ように塗工して乾燥した。
上記フィルムを容積0.03 m”のデシケータ中に水
10ゴ及びピロール101!llと共に気相部に放置し
、系内の圧力を10mHfに保って一10℃で3時間ピ
ロールの重合反応を行い、フィルムの両面に電極として
ポリピロールを形成した。
10ゴ及びピロール101!llと共に気相部に放置し
、系内の圧力を10mHfに保って一10℃で3時間ピ
ロールの重合反応を行い、フィルムの両面に電極として
ポリピロールを形成した。
形成されたポリピロール層を電極として2000kV/
amの電界を25℃で30分間印加することによシエレ
クトレ、ト化を行い透明高分子圧電素子を得た。
amの電界を25℃で30分間印加することによシエレ
クトレ、ト化を行い透明高分子圧電素子を得た。
このフィルムの550 nmでの光透過率は55%、圧
電率は70 X 10−8CGS @suであった(圧
電素子のフイへ・ムの厚み34μ雇)。
電率は70 X 10−8CGS @suであった(圧
電素子のフイへ・ムの厚み34μ雇)。
また、このフィルムの表面の抵抗値は8X102軟讐で
あった。
あった。
実施例5
実施例3と同様の方法によって得られたシアン化ビニリ
デンと安息香酸ビニルの交互共重合体のエレクトレット
化されたフィルムの表面に1アクリル酸エステル系のエ
マルノ1ンを乾燥時の厚みが0.3μ常になるようにパ
ーコーターで塗工し乾燥り、チアンカーコート層を形成
した。更に、このアンカーコート層の上にポリビニルア
ルコール:過硫酸ナトリクム:水=7:3:90CM量
比ンからなる水溶液を乾燥時の厚みでl#lになるよう
に塗工し乾燥した。
デンと安息香酸ビニルの交互共重合体のエレクトレット
化されたフィルムの表面に1アクリル酸エステル系のエ
マルノ1ンを乾燥時の厚みが0.3μ常になるようにパ
ーコーターで塗工し乾燥り、チアンカーコート層を形成
した。更に、このアンカーコート層の上にポリビニルア
ルコール:過硫酸ナトリクム:水=7:3:90CM量
比ンからなる水溶液を乾燥時の厚みでl#lになるよう
に塗工し乾燥した。
上記フィルムを容積0.03m”のデシクーター中に水
101ffj及びピロール10t/と共に気相部に放置
し、系内の圧力を10 txHgに保って一10℃ で
12時間ピロールの重合反応を行い、フィルムの両面に
電極としてのポリピロールを形成し、透明高分子圧電素
子を得た。
101ffj及びピロール10t/と共に気相部に放置
し、系内の圧力を10 txHgに保って一10℃ で
12時間ピロールの重合反応を行い、フィルムの両面に
電極としてのポリピロールを形成し、透明高分子圧電素
子を得た。
このフィルムの550 nmでの光の透過率は40チ、
圧電率30 X 10 CGS @膳Uであった(圧
電素子のフィルムの厚み30μm)。
圧電率30 X 10 CGS @膳Uであった(圧
電素子のフィルムの厚み30μm)。
このフィルムの表面抵抗はI X 10 Q/cn?
で必りた0 〈発明の効果〉 本発明の透明高分子圧電素子は、従来の高分子圧電材料
の用途、例えば音響変換素子(ヘッドホン、スピーカ、
マイクロホン、ピックアラ7’)、情報処理素子(キー
デート、無接点ヌイッチ、座標入力装置〕、物理計測用
素子(振動計、ひずみ計、加速度計、圧力計)、医療機
器素子(血圧計、心音マイク、脈波計、超音波装置)、
ロ?、ト用素子(触覚)などばかpでなく、透明である
という光学的性質を利用して、画面の偏光フィルタを兼
ねた透明スピーカ(テレビ)や窓ガラスに埋め込んだ透
明スピーカ(自動車)、赤外線の検出素子など圧電性、
焦電性を応用した幅広い民生及び工業的分野への用途が
期待される。
で必りた0 〈発明の効果〉 本発明の透明高分子圧電素子は、従来の高分子圧電材料
の用途、例えば音響変換素子(ヘッドホン、スピーカ、
マイクロホン、ピックアラ7’)、情報処理素子(キー
デート、無接点ヌイッチ、座標入力装置〕、物理計測用
素子(振動計、ひずみ計、加速度計、圧力計)、医療機
器素子(血圧計、心音マイク、脈波計、超音波装置)、
ロ?、ト用素子(触覚)などばかpでなく、透明である
という光学的性質を利用して、画面の偏光フィルタを兼
ねた透明スピーカ(テレビ)や窓ガラスに埋め込んだ透
明スピーカ(自動車)、赤外線の検出素子など圧電性、
焦電性を応用した幅広い民生及び工業的分野への用途が
期待される。
Claims (3)
- (1)透明な高分子圧電材料上にピロール又はその誘導
体の重合体層を形成した透明高分子圧電素子。 - (2)エレクトレット化された透明な高分子圧電材料上
にピロール又はその誘導体の重合酸化剤をコーティング
し、ピロール又はその誘導体の蒸気と接触させることに
よりピロール又はその誘導体を重合することを特徴とす
る透明高分子圧電素子の製造方法。 - (3)エレクトレット化によって圧電性を示す透明な高
分子材料上にピロール又はその誘導体の重合酸化剤をコ
ーティングし、ピロール又はその誘導体の蒸気と接触さ
せることによりピロール又はその誘導体を重合し、次い
でエレクトレット化することを特徴とする透明高分子圧
電素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61039081A JPS62198176A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 透明高分子圧電素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61039081A JPS62198176A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 透明高分子圧電素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62198176A true JPS62198176A (ja) | 1987-09-01 |
Family
ID=12543147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61039081A Pending JPS62198176A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | 透明高分子圧電素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62198176A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01163355U (ja) * | 1988-05-03 | 1989-11-14 | ||
JP2004515055A (ja) * | 2000-11-27 | 2004-05-20 | シン フイルム エレクトロニクス エイエスエイ | 強誘電性メモリ回路及びその製造方法 |
WO2009034832A1 (ja) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 有機圧電体 |
JP2011044679A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | J Touch Corp | 光透過性の振動素子とそのモジュール |
CN104448147A (zh) * | 2013-09-13 | 2015-03-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种改性接枝聚氟乙烯的制备方法和由其制备的改性接枝聚氟乙烯 |
CN104448148A (zh) * | 2013-09-13 | 2015-03-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种改性聚氟乙烯的制备方法和由其制备的改性聚氟乙烯 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60257581A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高感度圧電素子及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-02-26 JP JP61039081A patent/JPS62198176A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60257581A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高感度圧電素子及びその製造方法 |
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JP5310555B2 (ja) * | 2007-09-14 | 2013-10-09 | コニカミノルタ株式会社 | 有機圧電体 |
JP2011044679A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | J Touch Corp | 光透過性の振動素子とそのモジュール |
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CN104448148A (zh) * | 2013-09-13 | 2015-03-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种改性聚氟乙烯的制备方法和由其制备的改性聚氟乙烯 |
CN104448148B (zh) * | 2013-09-13 | 2017-02-15 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种改性聚氟乙烯的制备方法和由其制备的改性聚氟乙烯 |
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