JPS62192922A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野］ 本発明は、金属性薄膜を有する磁気記録媒体の耐食性、
耐摩耗性の向上に関する。

［従来の技術］ 従来の磁性体微粉末をバインダーに分散して塗布する塗
布型の磁気記録媒体に比べ、金属磁性薄膜を磁気記録層
とする金属薄膜磁気記録媒体は、磁束密度が大きくかつ
薄型、高保磁力のため木質的に高密度記録に適し、例え
ばＧｏ−Ｎｉ膜、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ膜、Ｇｏ−Ｃｒ膜等の
ように高密度磁気記録媒体として優れた磁気特性を有す
ることが確認され、一部実用化されている。

ところで、磁気テープ、磁気ディスクに代表される磁気
記録媒体は、磁気的性能を満足させ、かつ摩擦係数が小
さく円滑に走行すること、耐摩耗性に優れ長時間にわた
り安定な録再特性を維持すること、更に耐環境性の優れ
ていることが必要である。

ところが金属磁性薄膜は磁気特性には優れているものの
、そのままでは摩擦係数が大きい、摩耗する、腐食する
等の問題を有し、−１−述した記録媒体の機能を満足し
ないものである。

以上の問題は、磁気記録媒体としての信頼性にかかわる
重要な問題であるが、これらを解決する方法として、従
来から脂肪酸、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル、脂曹族アルコール、金属セッケン
等を表面に塗布することが行われてきた。

［発明が解決しようとする問題点］ ｌ−かじながら従来公知の力〃、ではトップ］−１・層
の厚みを均一にすることがむすかＬ　＜、また効果が使
用するにつれて低下し耐久に１がない為に満足すべきも
のではなかっｊ−０層足すべき耐久＋１を得るために塗
布膜を厚くすると、スペーシングロスによる出力低下が
生じる。以１のように、薄くて耐久性があり所定の効果
を持つ被ＩＩ費を形成することは困難であった。

本発明は、Ｉ−記従来技術の問題点を解決１．た金属磁
性薄膜磁気記録媒体の提供を１１的とする。すなわぢ本
発明は出力を低下きせることなく、１耐食に１および耐
摩耗＋１を向−１，させた磁気記録媒体を提供するもの
である。

［問題点を解決するだめの手段及びｆｒ　ＩＩＩ　］本
発明によれば、非磁性基体１４に直接あるいは中間層を
介してＣｏを主成分とする強磁性金属磁気記録層を形成
する１−程と、該強磁性金属磁気記録層１−にＣｏ酸化
物層を形成する一１程と、該Ｃｏ酸化物層に酸素イオン
を１１人する一■程からなる磁気記録媒体の製造力ｎ、
が提供される。

本発明においては、まず、Ｊ］磁＋１基体Ｌｉｊ直接あ
るいは中間層を檜１〜でＧｏを１成分とする強磁＋１金
属磁気記録層を、真空蒸着、くバッタリング、メンキ法
等の方ツノ−こ形成側る。次いで、酸素雰囲気中でＧｏ
を蒸着あるいはスパッタリングすることにより酸化１パ
ルト層を形成４−る。しがる後に、該Ｃｏ酸化物層に酸
素イオンを注入する。

本発明における。、ＩＩ　／ａ　＋１基体としては、ア
ルミ。

ガラス、アクリルの他ポリ丁スフル、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリカーボネイト、ポリスルボン、ポリエーテ
ル〕−−−デルケト〕／等の高分子フィルムが使用１１
丁能である。

また、Ｇｏを主Ｊ＆分とする強磁＋１金属磁気記録層を
形成する金属磁＋Ｊ１材料と１．では、純Ｇｏの他、Ｇ
ｏ−Ｎｉ、　Ｇｏ−Ｏｒ、　Ｇｏ−Ｖ、　Ｃｏ−Ｐｔ、
　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ、　Ｃｏ−Ｒｅ　’９のＧｏを−１−
成分とした合金が選択される。

本発明において、Ｃｏ系金属磁に１層ＩにＣｏ酸化物層
を設（するのは、ＣｏＯ化物が耐摩耗性、ヘンド摺動性
に優れ、磁に１層と同Ｆｉ　ｈＡ利のため＋Ｉ−ｊｉ力
が大きいためである。特に、ＧＯ酸酸化物層滑層べｆ金
属の方が伺着力が大きい。

Ｃｏ酸化物層の厚みは、耐食性、耐摩耗性、大きな再生
出力を満足するためには５０〜３００Ａが好ましく、８
０〜２０ＯＡがより好ましい。

本発明のＧｏ酸化物層形成方Ｖ、として奸才しいのは、
形成表面層に酸素をふきつ（ＪつつＧｏをスパッタリン
グする力が、である。第１図にその装置の−・例の概略
を示す。第１図での流れを説明すると巻出しロール４か
ら巻出されたベースフィルム１（すでにＣｏを１成分と
する強磁性金属磁気記録層を設けである）はキャン３に
沿って巻取りロール５に巻き取られるまでに、磁気記録
層の表面にＧ。

膜が酸化されつつ堆積し、Ｃｏ酸化物層の形成が行なわ
れていく。

Ｃｏ酸化物層が形成された物はＣｏ酸化物層を形成して
いないものと比べて耐食性、耐摩耗性は向上している。

Ｃｏ酸化物層は磁気ヘッドと媒体との間隙となるため再
生出力の点からできる限り薄いことが９＋ましいが、そ
の反面薄いと耐食性、耐摩耗＋１の向１−効果が小さい
。

本発明は耐食性、耐摩耗性性能は少し劣るＣｏ酸化物層
がやや薄い条件で形成］７、その後酸素イオンをＧｏ％
化物層の表面に注入−４ることにより薄くかつ強固な酸
化物層を形成するものである。

酸素イオンの注入は第１図の如きＣｏ酸化物層を形成す
るための装置内で行なってもよいし、別の酸素イオン注
入のための装置で１１なってもよい。

酸素イオンを注入する１段としては酸素イオン発生器と
加速器及びイオンビーム走査器を備えた公知のものが使
用できる。

本発明の酸化物形成の様−ｒはオージェ電子分析により
認められる。

第２図は強磁性金属として８０％Ｇｏ　　２０％Ｃ「合
金を真空蒸着法により蒸着後、Ｃｏ酸化物層を形成した
蒸着テープ中の酸素濃度を小したものである。

イオン注入をしていない試料（曲線Ａ）に比べ、イオン
注入した試料（曲線Ｂ）は表面からある厚さまで１・分
に酸化したＣｏ酸化物層が形成されていることがわかる
。このＣｏ酸化物層の酸化度は酸素イオンの加速電圧に
依存する。

酸素イオンの加速電圧は、通常のイオン注入の場合より
も低い力が好ましく、１０〜６０ＫＶ、更には１０〜４
０ＫＶが良い。また注入早は１Ｑ１６〜１ＱＩ８個／ｃ
ｍ２が好ましく、それ以ドでは効果が少なく、またそれ
以上も効果の向トは期待できない。

イオン注入Ｖ、による注入濃度および分布は、加速電圧
およびドース早によって自由に制御され、（Ｉｆ現性も
よく、均一な保護層が形成される。厚み方向への分ｌ／
Ｉｉの形はＧａｕｓｓ分布に近い形態を示すが、本発明
のように耐摩耗性向Ｉ−を目的とするときは最表面がそ
のピークとなるように調整するのが好ましい。また他の
目的（例えば内部の耐食性向−１−）のために加速電圧
を調整して層内部にピークが来るようにすることもでき
る。

なお、本発明製造方法で製造した磁気記録媒体表面に有
機潤滑剤を薄く塗布することにより、ヘッドもしくは機
器部材との摺動摩擦が減少し、走行性が向−１−シかつ
耐久性も向上する。

［実施例］ 次に実施例を挙げて本発明をより詳しく説明する。

実施例１ 厚さ１０Ｉｉ、ｍポリイミドフィルム上に真空蒸着法に
より８０％Ｇｏ−２０％Ｃｒ垂直磁化膜を０．４μｍμ
ｍ酸形成に第１図の概略図装置を使用しＣｏ酸化膜を１
００Ａ形成した。その表面に加速電圧１２ＫＶの酸素イ
オンを５ＸＩ０１６個／ｃＩ１１２注入し磁気テープを
製造した。

比較例１ 実施例Ｉと同一方法、同一条件で酸素イオンを注入しな
い磁気テープを製造した。

以上、実施例１で製造した磁気テープと、比較例１で製
造した磁気テープの酸素濃度分布をオージェ電子分析法
で調べ、第２図の結果を得た。本発明磁気テープは比較
例に比べ、Ｃｏ酸化物層そのものの厚みはほとんど不変
であるが、酸化度の高い層が厚い。

また、以下のように耐食テスト、耐久テストをし、また
出力を７１１１１定した。結果を第１表に示す。

耐食テスト・・・６０°Ｃ２８０％の高温高湿１２０時
間保存後でサビの発生を見る。

耐久テスト・・・耐食テスト後のテープをテープ評価用
に改造した８ｍｍビデオデツキで初 期出力−３ｄＢとなるスチル耐久時間 を測定。

出　力　・・・ＲＦｍ力を市販８ｍｍテープと比較。

本発明製造方法磁気テープと比較例テープに同じ有機潤
滑剤を形成して８ＩＩＩＩ＋ビデオデツキで性能比較し
た結果を第１表に示す。

第　　　　１　　　　表 以−にの結果から本発明テープは出力は同等で耐食・耐
久性に極めて優れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の製造方法におけるＧＯ酸化物層を形
成させる場合に使用される装置の一例を示す概略説明図
、第２図はポリイミドフィルム」二に真空蒸着法により
８０％Ｇｏ−２０％Ｃｒ垂直磁化膜を形成後、その上に
ＧＯ酸化物層を形成した磁気テープの酪素濃度分布を示
すグラフで曲線Ａは酸素イオン注入していない試料、曲
線Ｂは酸素イオン注入した試料を示す。 ｌ・・・ベースフィルム（強磁性金属磁気記録層を形成
済のもの）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基体上に直接あるいは中間層を介してＣｏを主成
   分とする強磁性金属磁気記録層を形成する工程と、該強
   磁性金属磁気記録層上にＣｏ酸化物層を形成する工程と
   、該Ｃｏ酸化物層に酸素イオンを注入する工程からなる
   磁気記録媒体の製造方法。