JPS62192566A - 永久磁石材料及びその製造方法 - Google Patents
永久磁石材料及びその製造方法Info
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- JPS62192566A JPS62192566A JP61034830A JP3483086A JPS62192566A JP S62192566 A JPS62192566 A JP S62192566A JP 61034830 A JP61034830 A JP 61034830A JP 3483086 A JP3483086 A JP 3483086A JP S62192566 A JPS62192566 A JP S62192566A
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Classifications
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
利用産業分野
この発明は、焼結永久磁石表面の研削加工等に伴なう磁
気特性の劣化を防止し、かつ磁気特性の経年変化を防止
したFe−B−R系永久磁石に係り、特に、厚みが1.
0+r++r+以下の高性能永久磁石材料及びその製造
方法に関する。
気特性の劣化を防止し、かつ磁気特性の経年変化を防止
したFe−B−R系永久磁石に係り、特に、厚みが1.
0+r++r+以下の高性能永久磁石材料及びその製造
方法に関する。
背景技術
現在、高磁気特性でかつ安価な永久磁石材料が求められ
、さらに資源的に豊富で、今俊の安定供給が可能な組成
元素からなる永久磁石材料が切望されており、本出願人
は先に、高価なSmやらを含有しない新しい高性能永久
磁石として、Fa−B−R系(RはYを含む希土類元素
のうち少なくとも1種)永久磁石を提案した(特開昭5
9−46008@、特開昭59−64733号、特開昭
59−89401号、特開昭59−132104号)。
、さらに資源的に豊富で、今俊の安定供給が可能な組成
元素からなる永久磁石材料が切望されており、本出願人
は先に、高価なSmやらを含有しない新しい高性能永久
磁石として、Fa−B−R系(RはYを含む希土類元素
のうち少なくとも1種)永久磁石を提案した(特開昭5
9−46008@、特開昭59−64733号、特開昭
59−89401号、特開昭59−132104号)。
この永久磁石は、Rとして陶や円を中心とする資源的に
豊富な軽希土類を用い、R,B、Feを主成分として2
0MGO8以上の極めて高いエネルギー積を示す、すぐ
れた永久磁石である。
豊富な軽希土類を用い、R,B、Feを主成分として2
0MGO8以上の極めて高いエネルギー積を示す、すぐ
れた永久磁石である。
最近、磁気回路の高性能化、小形化に伴ない、Fe−B
−R系永久磁石材料が益々注目され、さらに、厚みが1
.0mm以下の小物あるいは薄物用Fa −B−R系永
久磁石材料が要望されてきた。
−R系永久磁石材料が益々注目され、さらに、厚みが1
.0mm以下の小物あるいは薄物用Fa −B−R系永
久磁石材料が要望されてきた。
かかる用途の永久磁石材おl@製造するには、成形焼結
した小物あるいは極薄物の焼結磁石体を、その表面の凹
凸や歪みを除去するため、あるいは表面酸化層を除去す
るため、さらには磁気回路に組込むために、磁石体の全
面あるいは所要表面を切削加工する必要がある。
した小物あるいは極薄物の焼結磁石体を、その表面の凹
凸や歪みを除去するため、あるいは表面酸化層を除去す
るため、さらには磁気回路に組込むために、磁石体の全
面あるいは所要表面を切削加工する必要がある。
しかしながら、かかるFe −B −R系永久磁石材料
(15,5陶7.5877Fa )を研削加工すると、
例えば、厚み20mmより1mm以下の製品厚みに加工
すると、第1図〜第3図の曲線すに示す如く、各磁気特
性が劣化する問題があった。
(15,5陶7.5877Fa )を研削加工すると、
例えば、厚み20mmより1mm以下の製品厚みに加工
すると、第1図〜第3図の曲線すに示す如く、各磁気特
性が劣化する問題があった。
出願人は、先に、かかる加工に伴なう磁気特性の劣化を
防止するため、磁石体の被研削加工面に、R″′薄膜層
(R−はNd、 Pr、 h、 Ho、 Tbのうち少
なくとも1種)を蒸着等にて形成後、熱処理して加工変
質層による磁気特性の劣化を改善する方法を提案(特願
昭60−216047号)した。
防止するため、磁石体の被研削加工面に、R″′薄膜層
(R−はNd、 Pr、 h、 Ho、 Tbのうち少
なくとも1種)を蒸着等にて形成後、熱処理して加工変
質層による磁気特性の劣化を改善する方法を提案(特願
昭60−216047号)した。
しかし、上記のR′薄膜層は、非常に酸化し易いため、
使用環境条件によっては、磁石表面のR′薄膜層が酸化
して磁気特性が再び劣化する恐れがあった。
使用環境条件によっては、磁石表面のR′薄膜層が酸化
して磁気特性が再び劣化する恐れがあった。
発明の目的
この発明は、希土類・ボロン・鉄を主成分とする新規な
永久磁石材料において、特に小物あるいは極薄物用の焼
結磁石体の切削加工に伴なう磁気特性の劣化を防止する
と共に、磁気特性の経年変化を改善した永久磁石材料及
びその製造方法を目的としている。
永久磁石材料において、特に小物あるいは極薄物用の焼
結磁石体の切削加工に伴なう磁気特性の劣化を防止する
と共に、磁気特性の経年変化を改善した永久磁石材料及
びその製造方法を目的としている。
発明の構成と効果
発明者らは、Fa −B −R系永久磁石材料の保磁力
について種々検討した結果、前記磁石体の保磁力の大小
は、結晶粒内よりも粒界@造の差異に基因しており、研
摩された焼結磁石表面を、)(err効果を用いた光学
顕微鏡で、磁区の反転機構を詳細に調べると、磁石体表
面の磁化反転が磁石体内部の保磁力の172以下の非常
に低い磁界で起り、焼結磁石体の加工された表面第1層
の結晶群の保磁力が低い理由は、高保磁力を出現するた
めに必要な最適の体心立方品構造を有する金属相(以下
、体心立方相という)が存在しないためであることを知
見した。
について種々検討した結果、前記磁石体の保磁力の大小
は、結晶粒内よりも粒界@造の差異に基因しており、研
摩された焼結磁石表面を、)(err効果を用いた光学
顕微鏡で、磁区の反転機構を詳細に調べると、磁石体表
面の磁化反転が磁石体内部の保磁力の172以下の非常
に低い磁界で起り、焼結磁石体の加工された表面第1層
の結晶群の保磁力が低い理由は、高保磁力を出現するた
めに必要な最適の体心立方品構造を有する金属相(以下
、体心立方相という)が存在しないためであることを知
見した。
発明者が始めて発見した高保磁力を出現させる体心立方
相を、加工された焼結磁石体表面の結晶群上に、最適の
厚みでかつ特殊な体心立方相構造を有する粒界相として
設けることは、通常の方法では容易ではないが、Tj、
W、 Pt、 Au、 Cr、 Ni、Cu、 Co
、 Al、 Ta、 Agのうち少なくとも1種とR−
(R−はCe、 Li、 Nd、 Pr、 Dy、 H
o、 Toのうち少なくとも1種)からなる合金薄膜層
を形成し、その俊真空あるいは不活性雰囲気中で特定の
熱処理を施すことにより、該焼結体の被研削加工面の保
磁力の低い結晶粒からなる変質層及び格子欠陥を、前記
薄膜層と変質層との拡散反応で改質層となし、さらに、
表面に酸化防止層が生成されることにより、Fe−B−
R系永久磁石材利の保磁力並びに減磁曲線の角型性を改
善向上させ、かつ磁気特性の経年変化を改善し得ること
を知見し、この発明を完成したものである。
相を、加工された焼結磁石体表面の結晶群上に、最適の
厚みでかつ特殊な体心立方相構造を有する粒界相として
設けることは、通常の方法では容易ではないが、Tj、
W、 Pt、 Au、 Cr、 Ni、Cu、 Co
、 Al、 Ta、 Agのうち少なくとも1種とR−
(R−はCe、 Li、 Nd、 Pr、 Dy、 H
o、 Toのうち少なくとも1種)からなる合金薄膜層
を形成し、その俊真空あるいは不活性雰囲気中で特定の
熱処理を施すことにより、該焼結体の被研削加工面の保
磁力の低い結晶粒からなる変質層及び格子欠陥を、前記
薄膜層と変質層との拡散反応で改質層となし、さらに、
表面に酸化防止層が生成されることにより、Fe−B−
R系永久磁石材利の保磁力並びに減磁曲線の角型性を改
善向上させ、かつ磁気特性の経年変化を改善し得ること
を知見し、この発明を完成したものである。
すなわち、この発明は、
R(RはNd、 Pr、 Dy、Ho、Tbのうち少な
くとも1種おるいはさらに、La、 Co、 SNd、
Gd、 Er、 Eu、1m。
くとも1種おるいはさらに、La、 Co、 SNd、
Gd、 Er、 Eu、1m。
Yb、 Lu、 Yのうち少なくとも1種からなる)1
2%〜20原子%、 B44原子〜20原子%、 Fe65原子%〜81原子%を主成分とし、主相が正方
品相からなる焼結磁石体の被研削加工面に、Ti、 W
、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 Cu、 Co、
A&、 Ta、 Agのうち少なくとも1種を1.0
原子%〜50.0原子%含有し、 残部R′(R−はCe、 La、 Nd、 Pr、 D
y、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種)からなる合
金層が被着され、該被研削加工面上に改質層と表面の酸
化防止層を有することを特徴とする永久磁石材料でおる
。
2%〜20原子%、 B44原子〜20原子%、 Fe65原子%〜81原子%を主成分とし、主相が正方
品相からなる焼結磁石体の被研削加工面に、Ti、 W
、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 Cu、 Co、
A&、 Ta、 Agのうち少なくとも1種を1.0
原子%〜50.0原子%含有し、 残部R′(R−はCe、 La、 Nd、 Pr、 D
y、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種)からなる合
金層が被着され、該被研削加工面上に改質層と表面の酸
化防止層を有することを特徴とする永久磁石材料でおる
。
さらに、前記の主相が正方品相からなる焼結磁石体の被
研削加工面に、TL、 W、 Pt、 Au、 Cr、
NL。
研削加工面に、TL、 W、 Pt、 Au、 Cr、
NL。
Cu、 Co、 Al、 Ta、 Aaのうち少なくと
も1種を1.0原子%〜50.O原子%含有し、 残部R−(R−はCe、 La、 Nd、 Pr、 D
y、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種)からなる合
金層を被着した後、 さらに、真空おるいは不活性雰囲気中で、400 ’C
〜900°C,1分〜3時間の熱処理を施して、該被研
削加工面の加工変質層を改質層となし、かつ改質層上に
酸化防止層を設けたことを特徴とする永久磁石材料の製
造方法である。
も1種を1.0原子%〜50.O原子%含有し、 残部R−(R−はCe、 La、 Nd、 Pr、 D
y、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種)からなる合
金層を被着した後、 さらに、真空おるいは不活性雰囲気中で、400 ’C
〜900°C,1分〜3時間の熱処理を施して、該被研
削加工面の加工変質層を改質層となし、かつ改質層上に
酸化防止層を設けたことを特徴とする永久磁石材料の製
造方法である。
また、この発明の永久磁石材131は、平均結晶粒径が
1〜80μmの範囲にある正方品系の結品構造を有する
化合物を主相とし、体積比で1%〜50%の非磁性相(
酸化物相を除く〉を含むことを特徴とする。
1〜80μmの範囲にある正方品系の結品構造を有する
化合物を主相とし、体積比で1%〜50%の非磁性相(
酸化物相を除く〉を含むことを特徴とする。
したがって、この発明は、RとしてMあるいはさらに円
を中心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe
、B、R,を主成分とすることにより、20MGOe以
上の極めて高いエネルギー積並びに、高残苗磁束密度、
高保磁力を有し、かつ研削加工による磁気特性の劣化を
防止したFa −B −R系永久磁石材料を安価に得る
ことができる。
を中心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe
、B、R,を主成分とすることにより、20MGOe以
上の極めて高いエネルギー積並びに、高残苗磁束密度、
高保磁力を有し、かつ研削加工による磁気特性の劣化を
防止したFa −B −R系永久磁石材料を安価に得る
ことができる。
すなわち、この発明により、Fe−B−R系永久磁石材
料(15,5Nd 7.5877Fe )の研削加工に
おいて、例えば、被研削加工面に合金薄膜層を設けて加
工変質層を改質層にすることにより、厚み20mmより
inm以下の製品厚みに加工しても、第1図〜第3図の
曲線aに示す如く、陶然着層を設けない比較例(曲線b
)に対して、各磁気特性が改善され、研削加工に伴なう
磁気特性の劣化を防止する効果がある。
料(15,5Nd 7.5877Fe )の研削加工に
おいて、例えば、被研削加工面に合金薄膜層を設けて加
工変質層を改質層にすることにより、厚み20mmより
inm以下の製品厚みに加工しても、第1図〜第3図の
曲線aに示す如く、陶然着層を設けない比較例(曲線b
)に対して、各磁気特性が改善され、研削加工に伴なう
磁気特性の劣化を防止する効果がある。
さらに、被研削表面上に被着した合金薄膜層は、Ti、
W、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 CLL、
Co、 /V、 Ta、 AQのうち少なくとも1種を
含むことにより、R′薄膜層のみに比べて耐食性が向上
する。
W、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 CLL、
Co、 /V、 Ta、 AQのうち少なくとも1種を
含むことにより、R′薄膜層のみに比べて耐食性が向上
する。
この発明において、焼結磁石体の被研削加工表面に被着
する合金薄膜層組成を、TL、 W、 Pt、 Au。
する合金薄膜層組成を、TL、 W、 Pt、 Au。
Cr、 Ni、 CLL、 Co、 Al、 Ta、〜
のうち少なくとも1種を1.0原子%〜50. O原子
%含有し、残部R−(R−はCe、 La、 Nd、
Pr、 Dy、 Ha、 Toのうら少なくとも1種)
としたのは、TL、 W、 Pt、 Au、 Cr。
のうち少なくとも1種を1.0原子%〜50. O原子
%含有し、残部R−(R−はCe、 La、 Nd、
Pr、 Dy、 Ha、 Toのうら少なくとも1種)
としたのは、TL、 W、 Pt、 Au、 Cr。
NL、 Cu、 Co、 /V、 Ta、 Agのうち
少なくとも1種が、1.0原子%未満では、合金薄膜層
の酸化防止効果がなく、また、50.0原子%を越える
と、合金薄膜層内のR′田が少なく、加工変質層を改質
層となす効果がなくなり、さらに、薄g!層内の該金属
あるいは合金と基地の焼結磁石体が反応して磁気特性に
悪影響を及ぼす反応層が形成され好ましくないためであ
る。
少なくとも1種が、1.0原子%未満では、合金薄膜層
の酸化防止効果がなく、また、50.0原子%を越える
と、合金薄膜層内のR′田が少なく、加工変質層を改質
層となす効果がなくなり、さらに、薄g!層内の該金属
あるいは合金と基地の焼結磁石体が反応して磁気特性に
悪影響を及ぼす反応層が形成され好ましくないためであ
る。
この発明において、焼結磁石体の被研削加工表面に、上
記組成の合金薄膜層を被着さぜるには、真空蒸着、イオ
ンスパッタリング、イオンブレーティング、イオン蒸@
薄膜形成法(IVD )、プラズマ蒸着薄膜形成法(E
VD)等の薄膜形成方法が適宜選定利用できる。
記組成の合金薄膜層を被着さぜるには、真空蒸着、イオ
ンスパッタリング、イオンブレーティング、イオン蒸@
薄膜形成法(IVD )、プラズマ蒸着薄膜形成法(E
VD)等の薄膜形成方法が適宜選定利用できる。
また、合金薄膜層の厚みは、0.1μm〜30Amが好
ましく、薄膜層厚みが0.1Am未満では、均一な被膜
が形成されず、また熱処理中に薄膜層の希土類金属が酸
化消失するため好ましくなく、また、厚みが30.を越
えると、蒸着等に長時間を要してコスト高を招来し、か
つ膜厚の増大に伴なって磁気回路に不要のギャップを形
成することになって不利であり、表面層の改質効果も飽
和するため好ましくない。
ましく、薄膜層厚みが0.1Am未満では、均一な被膜
が形成されず、また熱処理中に薄膜層の希土類金属が酸
化消失するため好ましくなく、また、厚みが30.を越
えると、蒸着等に長時間を要してコスト高を招来し、か
つ膜厚の増大に伴なって磁気回路に不要のギャップを形
成することになって不利であり、表面層の改質効果も飽
和するため好ましくない。
また、この発明において、厚み0.1如〜30−のT5
W、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 CLL、
Co、 /V、 Ta、 Aa。
W、 Pt、 Au、 Cr、 NL、 CLL、
Co、 /V、 Ta、 Aa。
Pbのうち少なくとも1種を1.0原子%〜50.0原
子%含有し、残部R−(R−はCe、 LJ、 Nd、
Pr、 Dy。
子%含有し、残部R−(R−はCe、 LJ、 Nd、
Pr、 Dy。
)−1o、 Tbのうち少なくとも1種)からなる合金
薄膜層を形成した後、真空あるいは不活性雰囲気中で熱
処理を施すが、熱処理条件は、真空おるいは不活性雰囲
気中、400℃〜900℃、1分〜3時間の熱処理を、
少なくとも1回施す必要があり、熱処理により前記薄膜
層と変質層との拡散反応で改質層となる。しかし、40
0’C未満では、界面での拡散反応が不十分で、上記効
果が得られず、また、900℃を越えると薄膜層が酸化
しやすく、磁気特性改善効果がなくなるため好ましくな
く、加熱時間も1分未満では、界面での拡散反応が不十
分で、磁気特性の改善効果が少なく、また、3時間を越
えると、薄膜層の酸化により磁気特性の改善効果が得ら
れないため好ましくない。
薄膜層を形成した後、真空あるいは不活性雰囲気中で熱
処理を施すが、熱処理条件は、真空おるいは不活性雰囲
気中、400℃〜900℃、1分〜3時間の熱処理を、
少なくとも1回施す必要があり、熱処理により前記薄膜
層と変質層との拡散反応で改質層となる。しかし、40
0’C未満では、界面での拡散反応が不十分で、上記効
果が得られず、また、900℃を越えると薄膜層が酸化
しやすく、磁気特性改善効果がなくなるため好ましくな
く、加熱時間も1分未満では、界面での拡散反応が不十
分で、磁気特性の改善効果が少なく、また、3時間を越
えると、薄膜層の酸化により磁気特性の改善効果が得ら
れないため好ましくない。
また、前記熱処理は、少なくとも1回施すことにより、
所要の効果を得ることができるが、必要に応じて多段熱
処理してもよい。
所要の効果を得ることができるが、必要に応じて多段熱
処理してもよい。
永久磁石材料の成分限定理由
この発明の永久磁石材料に用いる希土類元素Rは、組成
の12原子%〜20原子%を占めるが、Nd。
の12原子%〜20原子%を占めるが、Nd。
円、 Dy、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種、あ
るいは、さらに、Li、 Co、 SNd、 Gd、
Er、 Eu、 TNd、 Yb、 Lu。
るいは、さらに、Li、 Co、 SNd、 Gd、
Er、 Eu、 TNd、 Yb、 Lu。
Yのうち少なくとも1種を含むものが好ましい。
また、通常Rのうち1種をもって足りるが、実用上は2
種以上の混合物(ミツシュメタル、ジジム等)を入手上
の便宜等の理由により用いることができる。
種以上の混合物(ミツシュメタル、ジジム等)を入手上
の便宜等の理由により用いることができる。
なお、このRは純希土類元素でなくてもよく、工業上入
手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するもので
も差支えない。
手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するもので
も差支えない。
Rは、新規な上記系永久磁石材料における、必須元素で
あって、12原子%未満では、結晶構造がα−鉄と同−
M4造の立方晶組織が析出するため、高磁気特性、特に
高保磁力が得られず、20原子%を越えると、Rリッチ
な非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下し
て、すぐれた特性の永久磁石が得られない。よって、希
土類元素は、12原子%〜20原子%の範囲とする。
あって、12原子%未満では、結晶構造がα−鉄と同−
M4造の立方晶組織が析出するため、高磁気特性、特に
高保磁力が得られず、20原子%を越えると、Rリッチ
な非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下し
て、すぐれた特性の永久磁石が得られない。よって、希
土類元素は、12原子%〜20原子%の範囲とする。
Bは、この発明による永久磁石材料における、必須元素
であって、4原子%未満では、菱面体構造が主相となり
、高い保磁力(it−lc)は得られず、20[子%を
越えると、Bリッチな非磁性相が多くなり、残ff11
束密度(Sr)が低下するため、すぐれた永久磁石が得
られない。よって、Bは、4原子%〜20原子%の範囲
とする。
であって、4原子%未満では、菱面体構造が主相となり
、高い保磁力(it−lc)は得られず、20[子%を
越えると、Bリッチな非磁性相が多くなり、残ff11
束密度(Sr)が低下するため、すぐれた永久磁石が得
られない。よって、Bは、4原子%〜20原子%の範囲
とする。
Feは、新規な上記系永久磁石において、必須元素であ
り、65原子%未満では残留磁束密度3rが低下し、8
1原子%を越えると、高い保磁力が得られないので、F
eは65原子%〜81原子%の含有とする。
り、65原子%未満では残留磁束密度3rが低下し、8
1原子%を越えると、高い保磁力が得られないので、F
eは65原子%〜81原子%の含有とする。
また、この発明による永久磁石材おlにおいて、Feの
一部を6で置換することは、1テられる磁石の磁気特性
を損うことなく、温度特性を改善することができるが、
Co置′J&ffiがFeの20%を越えると、逆に磁
気特性が劣化するため、好ましくない。C。
一部を6で置換することは、1テられる磁石の磁気特性
を損うことなく、温度特性を改善することができるが、
Co置′J&ffiがFeの20%を越えると、逆に磁
気特性が劣化するため、好ましくない。C。
の原子比率がFBとらの合計量の5%〜15%の場合は
、(Br)は置換しない場合に比較して増加するため、
高磁束密度を得るためには好ましい。
、(Br)は置換しない場合に比較して増加するため、
高磁束密度を得るためには好ましい。
また、下記添加元素のうち少なくとも1種は、R−B−
Fe系永久磁石に対してその保磁力、減磁曲線の角型性
を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があるた
め添加することができる。
Fe系永久磁石に対してその保磁力、減磁曲線の角型性
を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があるた
め添加することができる。
9.5原子%以下のA1.4.5原子%以下のTi、9
.5原子%以下のV、8.5原子%以下のCr。
.5原子%以下のV、8.5原子%以下のCr。
8.0原子%以下の)In、5.0原子%以下のB11
9.5原子%以下のNb、9゜5原子%以下のTa。
9.5原子%以下のNb、9゜5原子%以下のTa。
9.5原子%以下の)4o、 9.5原子%以下の見
、2.5原子%以下のsb、7 原子%以下のGe、3
.5原子%以下のSm 5.5原子%以下のZr、9.
0原子%以下のNi、 9.0原子%以下の5i11
.1原子%以下のZn、 5.5原子%以下の11f
1のうち少なくとも1種を添加含有、但し、2種以上含
有する場合は、その最大含有■は当該添加元素のうち最
大値を有するものの原子%以下の含有させることにより
、永久磁石の高保磁力化が可能になる。
、2.5原子%以下のsb、7 原子%以下のGe、3
.5原子%以下のSm 5.5原子%以下のZr、9.
0原子%以下のNi、 9.0原子%以下の5i11
.1原子%以下のZn、 5.5原子%以下の11f
1のうち少なくとも1種を添加含有、但し、2種以上含
有する場合は、その最大含有■は当該添加元素のうち最
大値を有するものの原子%以下の含有させることにより
、永久磁石の高保磁力化が可能になる。
結品相は主相が正方品であることが、微細で均一な合金
粉末より、すぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石を作
製するのに不可欠である。
粉末より、すぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石を作
製するのに不可欠である。
また、この発明の永久磁石は、磁場中プレス成型するこ
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
この発明による永久磁石は、保磁力i llc≧4kO
s、残留磁束密度Br> 4 kG、を示し、最大エネ
ルギー積(Bll )maxは、好ましい組成範囲では
、(Bll )[11aX≧208GOeを示し、最大
値は258GOe以上に達する。
s、残留磁束密度Br> 4 kG、を示し、最大エネ
ルギー積(Bll )maxは、好ましい組成範囲では
、(Bll )[11aX≧208GOeを示し、最大
値は258GOe以上に達する。
また、この発明の永久磁石材料のRの主成分がその50
%以上を陶及び円を主とする軽希土類金属が占める場合
で、R12原子%〜15原子%、B6原子%〜9原子%
、F878原子%〜80原子%、の組成範囲のとき、(
Bll)max 35HGOe以上のすぐれた磁気特性
を示し、特に軽希土類金属がMの場合には、その最大値
が42)IGOe以上に達する。
%以上を陶及び円を主とする軽希土類金属が占める場合
で、R12原子%〜15原子%、B6原子%〜9原子%
、F878原子%〜80原子%、の組成範囲のとき、(
Bll)max 35HGOe以上のすぐれた磁気特性
を示し、特に軽希土類金属がMの場合には、その最大値
が42)IGOe以上に達する。
実施例
友邦1−
出発原料として、純度99.9%の電解鉄、フェロボロ
ン合金、純度99.7%以上のNd、 Dνを使用し、
これらを配合後に高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳
造し、13.5Nd 7B 1.5Dy78Fsなる組
成の鋳塊を得た。
ン合金、純度99.7%以上のNd、 Dνを使用し、
これらを配合後に高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳
造し、13.5Nd 7B 1.5Dy78Fsなる組
成の鋳塊を得た。
その後このインゴットを、H2ガス吸蔵により脆化させ
たのち、スタンプミルにより粗粉砕し、次にボールミル
により微粉砕し、平均粒度3.OAmの微粉末を得た。
たのち、スタンプミルにより粗粉砕し、次にボールミル
により微粉砕し、平均粒度3.OAmの微粉末を得た。
この微粉末を金型に挿入し、20 kOeの磁界中で配
向し、磁界に垂直方向に、1.5 t4の圧力で成形し
た。
向し、磁界に垂直方向に、1.5 t4の圧力で成形し
た。
jqられた成形体を、1100℃、1時間、 Ar雰囲
気中、の条件で焼結し、艮ざ20mmX幅10mmX厚
み10mm寸法の焼結体を得た。
気中、の条件で焼結し、艮ざ20mmX幅10mmX厚
み10mm寸法の焼結体を得た。
そして焼結体より、磁石の配向方向に垂直な方向を面内
に含むように、長さ3mmX幅4mmX厚み0.15m
m寸法の試験片に切出し、ざらに同方向に研摩して、厚
みを減少させて、鏡面を有する0、1mm厚みの薄板試
験片を1qた。
に含むように、長さ3mmX幅4mmX厚み0.15m
m寸法の試験片に切出し、ざらに同方向に研摩して、厚
みを減少させて、鏡面を有する0、1mm厚みの薄板試
験片を1qた。
次に、第1表に示す合金を陰極ターゲツト材として、下
記条例のスパッタリングを施し、試験片両面に約31J
m厚みの合金111A層を被着させた。その後、3x1
0−6Torr真空中で、630℃、1時間の熱処理を
施した。
記条例のスパッタリングを施し、試験片両面に約31J
m厚みの合金111A層を被着させた。その後、3x1
0−6Torr真空中で、630℃、1時間の熱処理を
施した。
また、上記の薄板試験片にNd薄膜層を設け、直ちに同
条件の熱処理を施した比較永久磁石(比較例6)を作製
した。
条件の熱処理を施した比較永久磁石(比較例6)を作製
した。
得られた各永久磁石材料のBr、iHc。
BHc及び(BH)maX値を、撮動試料型磁力計(V
SM )を用いて開回路で測定し、さらに、室温。
SM )を用いて開回路で測定し、さらに、室温。
空気中で10000時間放置する不可逆減磁率で評価す
る減磁、率を測定した。これらの測定結果を第1表に示
す。
る減磁、率を測定した。これらの測定結果を第1表に示
す。
なお、第1表における比較例5は、研摩加工したままの
試験片の特性である。
試験片の特性である。
くスパッタ条件〉
到達真空度: 2X10−8TOrr高周波スパッタ
リング時のAr圧力 ; 0.2xlO−3Torr 〜 lXl0づ丁
orr入力電圧:150W (初スパッタ時及び本スパッタ時) 70W (逆スパツタ時) スパッタ時間:初スパッタ 30分 逆スパツタ 30分 本スパッタ 3時間 よ塵炎2 実施例1と同一条件で製造、加工した13.5Nd 7
B 1.5Dy78Faの組成を有する磁石焼結体試験
片に、実施例1のスパッタ条件で、第2表に示す陶を主
成分とする合金薄膜層を311m厚みで被着した。
リング時のAr圧力 ; 0.2xlO−3Torr 〜 lXl0づ丁
orr入力電圧:150W (初スパッタ時及び本スパッタ時) 70W (逆スパツタ時) スパッタ時間:初スパッタ 30分 逆スパツタ 30分 本スパッタ 3時間 よ塵炎2 実施例1と同一条件で製造、加工した13.5Nd 7
B 1.5Dy78Faの組成を有する磁石焼結体試験
片に、実施例1のスパッタ条件で、第2表に示す陶を主
成分とする合金薄膜層を311m厚みで被着した。
さらに、実施例1と同じ熱処理を施し、得られた各永久
磁石材F3IのBr 、 1t−1c 、 Bl−
(C、HC及び(BH)max値を、振動試料型磁力計
(VSM )を用いて開回路で測定し、さらに、室温、
空気中で10000時間放置する不可逆賊vii率で評
価する減磁率を測定した。これらの測定結果を第2表に
示す。
磁石材F3IのBr 、 1t−1c 、 Bl−
(C、HC及び(BH)max値を、振動試料型磁力計
(VSM )を用いて開回路で測定し、さらに、室温、
空気中で10000時間放置する不可逆賊vii率で評
価する減磁率を測定した。これらの測定結果を第2表に
示す。
なお、合金薄膜層形成のためのターゲツト材は、出金底
に所要金属板を貼着した複合型であり、組成はその面積
比で表示しである。
に所要金属板を貼着した複合型であり、組成はその面積
比で表示しである。
以下余白
第1表
第2表
第1図〜第3図は永久磁石材料試験片厚みと3r、
iHc及び(B)−1)maxとの関係を示すグラフで
おる。
iHc及び(B)−1)maxとの関係を示すグラフで
おる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 R(RはNd、Pr、Dy、Ho、Tbのうち少なくと
も1種あるいはさらに、La、Ce、Sm、Gd、Er
、Eu、Tm、Yb、Lu、Yのうち少なくとも1種か
らなる)12%〜20原子%、 B4原子%〜20原子%、 Fe65原子%〜81原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結磁石体の被研削加工面に、Ti、W、
Pt、Au、Cr、Ni、Cu、Co、Al、Ta、A
gのうち少なくとも1種を1.0原子%〜50.0原子
%含有し、 残部R′(R′はCe、La、Nd、Pr、Dy、Ho
、Tbのうち少なくとも1種)からなる合金薄膜層が被
着され、 該被研削加工面上に改質層と表面の酸化防止層を有する
ことを特徴とする永久磁石材料。 R(RはNd、Pr、Dy、Ho、Tbのうち少なくと
も1種あるいはさらに、La、Ce、Sm、Gd、Er
、Eu、Tm、Yb、Lu、Yのうち少なくとも1種か
らなる)12%〜20原子%、 B4原子%〜20原子%、 Fe65原子%〜81原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結磁石体を研削加工後、 該被研削加工面に、Ti、W、Pt、Au、Cr、Ni
、Cu、Co、Al、Ta、Agのうち少なくとも1種
を1.0原子%〜50.0原子%含有し、 残部R′(R′はCe、La、Nd、Pr、Dy、Ho
、Tbのうち少なくとも1種)からなる合金薄膜層を被
着した後、 さらに、真空あるいは不活性雰囲気中で、400℃〜9
00℃、1分〜3時間の熱処理を施して、該被研削加工
面の加工変質層を改質層となし、かつ改質層上に酸化防
止層を形成したことを特徴とする永久磁石材料の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034830A JPH0742553B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 永久磁石材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034830A JPH0742553B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 永久磁石材料及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62192566A true JPS62192566A (ja) | 1987-08-24 |
| JPH0742553B2 JPH0742553B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=12425114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61034830A Expired - Lifetime JPH0742553B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 永久磁石材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0742553B2 (ja) |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR100284465B1 (ko) * | 1998-01-31 | 2001-03-02 | 박호군 | Sm계거대자기변형박막및그제조방법 |
| JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
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