JPS62192404A - 感光性樹脂とその製造方法 - Google Patents
感光性樹脂とその製造方法Info
- Publication number
- JPS62192404A JPS62192404A JP3415286A JP3415286A JPS62192404A JP S62192404 A JPS62192404 A JP S62192404A JP 3415286 A JP3415286 A JP 3415286A JP 3415286 A JP3415286 A JP 3415286A JP S62192404 A JPS62192404 A JP S62192404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- chalcone
- group
- addition reaction
- side chain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 92
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 33
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 15
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical class [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 abstract 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract 1
- -1 silicate ester Chemical class 0.000 description 26
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 12
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 125000006519 CCH3 Chemical group 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QHVMGGGKTZLMPS-UHFFFAOYSA-N [4-(3-phenylprop-2-enoyl)phenyl] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(C=C1)=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 QHVMGGGKTZLMPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- WDGPHUKIJHMXPV-UHFFFAOYSA-N [2-(3-oxo-3-phenylprop-1-enyl)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 WDGPHUKIJHMXPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZROGCHDPRZRKTI-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibutoxybenzene Chemical compound CCCCOC1=CC=C(OCCCC)C=C1 ZROGCHDPRZRKTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 5-carboxy-2',7'-dichlorofluorescein Chemical compound C12=CC(Cl)=C(O)C=C2OC2=CC(O)=C(Cl)C=C2C21OC(=O)C1=CC(C(=O)O)=CC=C21 JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性樹脂とその製造方法に関する。
さらに詳しくは、重合体、特にポリメタクリル酸エステ
ルまたはその共重合体の側鎖にカルコン基を有する高感
度で透明性に優れた感光性樹脂とその製造方法に関する
。
ルまたはその共重合体の側鎖にカルコン基を有する高感
度で透明性に優れた感光性樹脂とその製造方法に関する
。
感光性樹脂は、画像形成材料、印刷インキ、塗料、接着
剤などに用いられているだけではなく、最近は、繊維、
医療、生化学、分析、計測などへの応用も期待されてい
るもので、機能性のポリマーとして今後の大きな発展が
見込まれるものでおる。
剤などに用いられているだけではなく、最近は、繊維、
医療、生化学、分析、計測などへの応用も期待されてい
るもので、機能性のポリマーとして今後の大きな発展が
見込まれるものでおる。
このような感光性樹脂に関しては、すでに、ポリマー主
鎖に苅する側鎖の部位にカルコン(ベンザルアセトフェ
ノン)基を有するポリマーが、未増感の状態においても
高い感度を示すことが知られている。しかしながら、こ
れまでのところ、増感したけいひ酸エステル型の感光性
樹脂と比較して、このポリマーには特に優れた特性が見
出Vず、感光性材料として実用化されるまでには至って
いなかった。
鎖に苅する側鎖の部位にカルコン(ベンザルアセトフェ
ノン)基を有するポリマーが、未増感の状態においても
高い感度を示すことが知られている。しかしながら、こ
れまでのところ、増感したけいひ酸エステル型の感光性
樹脂と比較して、このポリマーには特に優れた特性が見
出Vず、感光性材料として実用化されるまでには至って
いなかった。
また一方、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に代
表されるメタクリル樹脂は古くから有機ガラスとして知
られており、その優れた透明性を利用して様々に用途に
用いられてきている。感光性材料の分野においてもこの
透明性を利用すべく検討が行われてきたが、いまだ実用
化には至っていなかった。
表されるメタクリル樹脂は古くから有機ガラスとして知
られており、その優れた透明性を利用して様々に用途に
用いられてきている。感光性材料の分野においてもこの
透明性を利用すべく検討が行われてきたが、いまだ実用
化には至っていなかった。
このような背景から、側鎖にカルコン基を有する、高感
度の感光特性と、メタクリル樹脂に由来する透明性とを
あわせ持った感光性樹脂が提案されたことから、側鎖に
カルコン基を有する重合体としてのポリメタクリル酸ま
たはその共重合体が注目されている。この重合体は、カ
ラーフィルター等の作成のための感光材料、光感知素子
、集積回路等の保護被膜材料などへの応用が期待されて
もいる。
度の感光特性と、メタクリル樹脂に由来する透明性とを
あわせ持った感光性樹脂が提案されたことから、側鎖に
カルコン基を有する重合体としてのポリメタクリル酸ま
たはその共重合体が注目されている。この重合体は、カ
ラーフィルター等の作成のための感光材料、光感知素子
、集積回路等の保護被膜材料などへの応用が期待されて
もいる。
この新たに提案された感光性樹脂は、ポリメタクリル酸
エステルの側鎖にカルコン基を有する次式のポリ(4−
メタクリロキシカルコン)(P4MO)、ポリ(4′−
メタクリロキシカルコン> (P4’MC)や、その
共重合体からなるものであつた(特開昭59−2315
31号参照)。
エステルの側鎖にカルコン基を有する次式のポリ(4−
メタクリロキシカルコン)(P4MO)、ポリ(4′−
メタクリロキシカルコン> (P4’MC)や、その
共重合体からなるものであつた(特開昭59−2315
31号参照)。
しかしながら、この感光性樹脂は光感度および透明性と
もにいまだ満足できるものでなく、またその製造につい
ても次のような問題があった。
もにいまだ満足できるものでなく、またその製造につい
ても次のような問題があった。
すなわち、この感光性樹脂の重合体は、その構成単位の
モノマーのラジカル重合によって製造されている。この
モノマーは、分子内にメタクリロイル基とカルコン基と
の二種類の二重結合を持っている。このため、重合反応
の過程においてゲル化が起きるのである。したがって、
可溶性のP4MCやP4’ MCおよびその共重合体を
製造するためには、モノマーからポリマーへの転化率を
60%以下とすることが必要になる。また、このモノマ
ーの合成原料としてメタグリル酸クロリドの使用が必要
でもある。
モノマーのラジカル重合によって製造されている。この
モノマーは、分子内にメタクリロイル基とカルコン基と
の二種類の二重結合を持っている。このため、重合反応
の過程においてゲル化が起きるのである。したがって、
可溶性のP4MCやP4’ MCおよびその共重合体を
製造するためには、モノマーからポリマーへの転化率を
60%以下とすることが必要になる。また、このモノマ
ーの合成原料としてメタグリル酸クロリドの使用が必要
でもある。
以上のことは、感光性樹脂を製造する観点からははなは
だ不都合で、好ましくないことである。
だ不都合で、好ましくないことである。
ざらに、これまでのモノマーのラジカル重合による重合
体の製造法においては、カルコン基を有する七ツマー構
成単位と、他のオレフィンモノマーまたはエポキシ基等
を有するオレフィンモノマーなとの共重合体モノマー構
成単位との比率を所望のものとすることも、重合反応中
のゲル化などのために容易ではなかった。
体の製造法においては、カルコン基を有する七ツマー構
成単位と、他のオレフィンモノマーまたはエポキシ基等
を有するオレフィンモノマーなとの共重合体モノマー構
成単位との比率を所望のものとすることも、重合反応中
のゲル化などのために容易ではなかった。
本発明は、このような問題のない高感度の感光性樹脂、
特に高感度で、しかも透明性に優れた感光性樹脂とその
製造方法を提供することを目的としている。ざらに詳し
くは、ポリマー側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂で
あって、特に、ポリメタクリル酸エステル、またはその
共重合体の側鎖にカルコン基を有する高感度で、透明性
に優れた感光性樹脂とその製造方法を提供することを目
的としている。
特に高感度で、しかも透明性に優れた感光性樹脂とその
製造方法を提供することを目的としている。ざらに詳し
くは、ポリマー側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂で
あって、特に、ポリメタクリル酸エステル、またはその
共重合体の側鎖にカルコン基を有する高感度で、透明性
に優れた感光性樹脂とその製造方法を提供することを目
的としている。
本発明の詳細な説明すると、本発明の目的とする感光性
樹脂は、側鎖にエポキシ基を有する高分子化合物と、分
子内にカルコン基を有するカルボン酸エステルとの付加
反応によって、上記高分子化合物の側鎖にカルコン基を
導入したものである。
樹脂は、側鎖にエポキシ基を有する高分子化合物と、分
子内にカルコン基を有するカルボン酸エステルとの付加
反応によって、上記高分子化合物の側鎖にカルコン基を
導入したものである。
この感光性樹脂の感光度は非常に浸れたものであって、
しかも上記の高分子化合物の主鎖の構成単位の適宜な選
択によって、透明性に優れた、あるいは他の所望の特性
を有した感光性樹脂を得ることもできるという特徴も有
している。
しかも上記の高分子化合物の主鎖の構成単位の適宜な選
択によって、透明性に優れた、あるいは他の所望の特性
を有した感光性樹脂を得ることもできるという特徴も有
している。
このような本発明の感光性樹脂は、次に説明する本発明
の重合体の製造方法によってはじめて得られたものであ
る。すなわち、本発明の感光性樹脂の製造方法は、側鎖
にエポキシ基を有する高分子化合物と、分子内にカルコ
ン基を有するカルボン酸エステルとを付加反応させるこ
とよりなる。
の重合体の製造方法によってはじめて得られたものであ
る。すなわち、本発明の感光性樹脂の製造方法は、側鎖
にエポキシ基を有する高分子化合物と、分子内にカルコ
ン基を有するカルボン酸エステルとを付加反応させるこ
とよりなる。
側鎖にエポキシ基を有する高分子化合物としては、ポリ
グリシジルメタクリレート、ポリグリシジルアクリレー
ト、ポリアリルグリシジルエーテルなどの単独重合体、
またはその共重合体が用いられる。透明性に優れた感光
性樹脂を1qるためには、側鎖にエポキシ基を有する高
分子化合物としてポリグリシジルメタクリレートを用い
るのが好ましい。共重合体を用いる場合には、共重合構
成単位上ツマ−としては、メチルアタリレート、エヂル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、スチレン、酢酸ビニル
、N−ビニルピロリドンなどのオレフィン壮士ツマ−の
適宜なものを選択することができる。これらのオレフィ
ン壮士ツマ−は約80モル%以下、好ましくは約55モ
ル%以下の割合で共重合されて用いられる。
グリシジルメタクリレート、ポリグリシジルアクリレー
ト、ポリアリルグリシジルエーテルなどの単独重合体、
またはその共重合体が用いられる。透明性に優れた感光
性樹脂を1qるためには、側鎖にエポキシ基を有する高
分子化合物としてポリグリシジルメタクリレートを用い
るのが好ましい。共重合体を用いる場合には、共重合構
成単位上ツマ−としては、メチルアタリレート、エヂル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、スチレン、酢酸ビニル
、N−ビニルピロリドンなどのオレフィン壮士ツマ−の
適宜なものを選択することができる。これらのオレフィ
ン壮士ツマ−は約80モル%以下、好ましくは約55モ
ル%以下の割合で共重合されて用いられる。
側鎖にエポキシ基を有する重合体と付加反応させる分子
内にカルコン基を有するカルボン酸エステルとしては、
酢酸、プロピオン酸、安息香酸、ニトロ安息香酸、ナフ
タレンカルボン酸などの脂肪族、脂環族、もしくは芳香
族のカルボン酸、または置換基を有したカルボン酸の適
宜なもののカルコンとのエステル化合物を用いることが
できる。
内にカルコン基を有するカルボン酸エステルとしては、
酢酸、プロピオン酸、安息香酸、ニトロ安息香酸、ナフ
タレンカルボン酸などの脂肪族、脂環族、もしくは芳香
族のカルボン酸、または置換基を有したカルボン酸の適
宜なもののカルコンとのエステル化合物を用いることが
できる。
これらのエステル化合物のなかで、特に好ましいものと
しては4−ニトロ安息香酸のエステルなどがある。
しては4−ニトロ安息香酸のエステルなどがある。
イ」加反応は、スルホラン、N−メチルピロリドン、D
MF、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
シクロヘキサノン、アニソール、トルエン、キシレンな
どの溶媒中で、第4アンモニウム塩、第3アミン、また
は第4ホスホニウム塩などの触媒を用いて、約60〜2
00 ’Cの反応温度で反応させることによって行う。
MF、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
シクロヘキサノン、アニソール、トルエン、キシレンな
どの溶媒中で、第4アンモニウム塩、第3アミン、また
は第4ホスホニウム塩などの触媒を用いて、約60〜2
00 ’Cの反応温度で反応させることによって行う。
この付加反応は、本発明者らが、一連の自己増感型感光
性樹脂を製造する際に、ポリグリシジルメタクリレート
(PGMA)やその共重合体の側鎖のエポキシ基とけい
ひ酸P−二トロフェニルエステルが付加反応するとの事
実を見出したこと(西久保、他、polymerJou
rnal 、 16.371 (1984年〉)に基づ
いており、高感度の感光性樹脂の製造方法としてざらに
発展させたものである。
性樹脂を製造する際に、ポリグリシジルメタクリレート
(PGMA)やその共重合体の側鎖のエポキシ基とけい
ひ酸P−二トロフェニルエステルが付加反応するとの事
実を見出したこと(西久保、他、polymerJou
rnal 、 16.371 (1984年〉)に基づ
いており、高感度の感光性樹脂の製造方法としてざらに
発展させたものである。
このような本発明の製造方法によると、高感度の感光性
樹脂、特に高感度で透明性に優れた感光性樹脂として、
側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂が得られるばかり
でなく、カルボン酸クロリドを原料として用いる必要が
ないこと、およびラジカル重合反応ではなく重合体への
付加反応によってカルコン基を導入していることから、
不純成分の混入、副生成物の生成という問題はない。ま
た、付加反応の過程におけるゲル状物の生成もないので
、高収率で目的の感光性樹脂が得られる。
樹脂、特に高感度で透明性に優れた感光性樹脂として、
側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂が得られるばかり
でなく、カルボン酸クロリドを原料として用いる必要が
ないこと、およびラジカル重合反応ではなく重合体への
付加反応によってカルコン基を導入していることから、
不純成分の混入、副生成物の生成という問題はない。ま
た、付加反応の過程におけるゲル状物の生成もないので
、高収率で目的の感光性樹脂が得られる。
ざらに本発明の方法の特徴として、反応条件の制御や、
付加反応の原料としての分子内にカルコン基を有するカ
ルボン酸エステルの使用量を適宜に選択することにより
、付加反応生成物の側鎖に導入されたカルコン基と残存
するグリシジルエステル基等のエポキシ基との割合(含
有率)を任意に調整することができる。
付加反応の原料としての分子内にカルコン基を有するカ
ルボン酸エステルの使用量を適宜に選択することにより
、付加反応生成物の側鎖に導入されたカルコン基と残存
するグリシジルエステル基等のエポキシ基との割合(含
有率)を任意に調整することができる。
このような本発明の効果はこれまでの方法によっては実
現できないものでおり、高感度の感光性樹脂の製造方法
としての意義は大きい。
現できないものでおり、高感度の感光性樹脂の製造方法
としての意義は大きい。
また、本発明の感光性樹脂については、上記の方法によ
って、所望の特性を得るためにポリマーの側鎖にカルコ
ン基の他にグリシジルエステル基等のエポキシ基を残し
ておくことができる。このエポキシ基は、種々の光カチ
オン重合触媒の存在下で感光性基として用いることもで
きるので、ざらに本発明の効果は大きなものといえる。
って、所望の特性を得るためにポリマーの側鎖にカルコ
ン基の他にグリシジルエステル基等のエポキシ基を残し
ておくことができる。このエポキシ基は、種々の光カチ
オン重合触媒の存在下で感光性基として用いることもで
きるので、ざらに本発明の効果は大きなものといえる。
次に実施例を示して、本発明を具体的に説明する。
実施例 1
ポリ(2−(4−ニトロベン′ゾイルオキシ) −3−
(4−シンナモイルフェノキシ)プロピル メタクリレ
ート〕の製造。
(4−シンナモイルフェノキシ)プロピル メタクリレ
ート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(〜IW91600)
ヲ(1、169,8mmol)ジグライム(20r/1
12)に)容屏し、つづいて次式で示される4’−(4
−二トロペンゾイルオキシ)カルコ>′(2,9’1.
8ml1lOI>およびテトラエチルアンモニウムプロ
ミド(TEAB>(0,169、0,8mmol)をそ
の重合体溶液中に加えた。
ヲ(1、169,8mmol)ジグライム(20r/1
12)に)容屏し、つづいて次式で示される4’−(4
−二トロペンゾイルオキシ)カルコ>′(2,9’1.
8ml1lOI>およびテトラエチルアンモニウムプロ
ミド(TEAB>(0,169、0,8mmol)をそ
の重合体溶液中に加えた。
反応混合物を100℃の温度で24時間撹拌し、ついで
エタノール中に注入した。生成物は、テトラヒドロフラ
ン(T I−I F )−メタノールで2回再沈殿させ
、50’Cの温度で減圧乾燥した。重合体の収量は3.
319であった。重合体の側鎖のエポキシ基の反応率は
78.4mo1%であった(窒素の元素分析より計算)
。また還元粘度は0.80dl/g(30’C,0,5
(]/旧、;DMF>であった。
エタノール中に注入した。生成物は、テトラヒドロフラ
ン(T I−I F )−メタノールで2回再沈殿させ
、50’Cの温度で減圧乾燥した。重合体の収量は3.
319であった。重合体の側鎖のエポキシ基の反応率は
78.4mo1%であった(窒素の元素分析より計算)
。また還元粘度は0.80dl/g(30’C,0,5
(]/旧、;DMF>であった。
生成した重合体化合物の感度はグレースケール法により
測定した。すなわち、重合体の10%シクロヘキサノン
溶液を銅板上に塗布し、室温で2時間乾燥した後に、コ
ダックスステップタブレットNα2を重ねてケミカルラ
ンプ(15Wx7本)で3 cmの距離から30秒間露
光し、テトラヒドロフランで2分間現像して不溶化段数
を求めた。その結果は、15段であった。
測定した。すなわち、重合体の10%シクロヘキサノン
溶液を銅板上に塗布し、室温で2時間乾燥した後に、コ
ダックスステップタブレットNα2を重ねてケミカルラ
ンプ(15Wx7本)で3 cmの距離から30秒間露
光し、テトラヒドロフランで2分間現像して不溶化段数
を求めた。その結果は、15段であった。
赤外線(IR>吸収スペクトル(フィルム)の測定で、
1730cm−1,16601−1,1600cm−1
,1530ctn−1,1340ctn−1の吸収が認
められた。また、N〜IR(CDC,I!・)の測定で
は、δ=0.95 (C−CH3>、2.0 (C−c
t−+2−c> 、 4.4 (C−CI−(2−0>
、 5゜70 (0−CH−C)、7.0〜8.4
(−CH=CH−、芳香族性水素)の結果が得られた。
1730cm−1,16601−1,1600cm−1
,1530ctn−1,1340ctn−1の吸収が認
められた。また、N〜IR(CDC,I!・)の測定で
は、δ=0.95 (C−CH3>、2.0 (C−c
t−+2−c> 、 4.4 (C−CI−(2−0>
、 5゜70 (0−CH−C)、7.0〜8.4
(−CH=CH−、芳香族性水素)の結果が得られた。
これらの分析値から、生成重合体は、ポリ(2−(4−
ニトロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ〉′ナモイ
ルフエノキシ)プロピルメタクリレート〕でおることを
確認した。
ニトロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ〉′ナモイ
ルフエノキシ)プロピルメタクリレート〕でおることを
確認した。
実施例 2
ポリ(2−(4−クロロベンゾイル) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート)の製
造。
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート)の製
造。
ポリグリシジルメタクリレート(,1,16SJ。
8mmol)と4’−(4−クロロベンゾイルオキシ)
カルコン: (2,90g、8mmol)とをジグライム(20d)
中で、TEAB (0,16g、0.8mmol)の存
在下に24時間反応させた。
カルコン: (2,90g、8mmol)とをジグライム(20d)
中で、TEAB (0,16g、0.8mmol)の存
在下に24時間反応させた。
反応生成物は、実施例1と同様にして精製した。
生成物重合体の収量は3.30SFであった。またグリ
シジルメタクリレート重合体の付加反応率は74.7m
o1%であった(塩素の元素分析より計算)。また、生
成重合体の還元粘度は0.42旧/F(30’C,0,
5g/dl:DMF)であった。
シジルメタクリレート重合体の付加反応率は74.7m
o1%であった(塩素の元素分析より計算)。また、生
成重合体の還元粘度は0.42旧/F(30’C,0,
5g/dl:DMF)であった。
実施例1と同様にして、同一の条件で感度を測定したと
ころ、不溶化段数は11段であった。赤外線(IR)吸
収スペクトル分析(フィルム)では、1720cm”、
1660cm−1,1600cm−1゜および760
cm−1の吸収が認められた。NMR(CDCI!3
)の分析結果は、δ=1.0(C−CI−13> 、
1 、9 (C−CI−12−C) 、 4.3(C−
C112−0)、5.6 (0−CI−1−C)。
ころ、不溶化段数は11段であった。赤外線(IR)吸
収スペクトル分析(フィルム)では、1720cm”、
1660cm−1,1600cm−1゜および760
cm−1の吸収が認められた。NMR(CDCI!3
)の分析結果は、δ=1.0(C−CI−13> 、
1 、9 (C−CI−12−C) 、 4.3(C−
C112−0)、5.6 (0−CI−1−C)。
6.9〜8.0 (−CH=CH−、芳香族性水素)で
あった。
あった。
このことから、付加反応による生成物重合体は、ポリ(
2−(4−クロロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート〕であ
ることを確認した。
2−(4−クロロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート〕であ
ることを確認した。
実施V!43
ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−シンナモイル
フェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
フェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,169゜8mmo
l)をジグライム(20,d)中でTEAB(0,16
g、0.8mmol)の存在下に、4′−ベンゾイルオ
キシカルコン: (2,639,8mmol)と、100’Cの温度で2
4時間反応させた。
l)をジグライム(20,d)中でTEAB(0,16
g、0.8mmol)の存在下に、4′−ベンゾイルオ
キシカルコン: (2,639,8mmol)と、100’Cの温度で2
4時間反応させた。
生成物重合体の収量は2.439であり、付加反応率は
、H’ −NMRのスペクトルの強度比より求めたとこ
ろ、69.6mo1%であった。また、還元粘度は0.
91 dl/Q (30℃、 0.51:I/旧:DM
F中で)であった。
、H’ −NMRのスペクトルの強度比より求めたとこ
ろ、69.6mo1%であった。また、還元粘度は0.
91 dl/Q (30℃、 0.51:I/旧:DM
F中で)であった。
実施例1と同様にして感度を測定したところ、不溶化段
数は15段であった。
数は15段であった。
この重合体の分析値は次のとおりであった。
、 赤外吸収スペクトル(フィルム):、ノ
1720cm−1,および1600cm−1での吸収。
NMR(CDCI! 3 ) :δ=1.0(C−CH
) 、 1.9 (C−CI−1□−〇)、3゜9およ
び4.2(C〒CH2−0)、5゜6 (0−CI−1
2−C’) 、および7.0〜8゜0 (−C)−1=
CH−、芳香族水素)。
) 、 1.9 (C−CI−1□−〇)、3゜9およ
び4.2(C〒CH2−0)、5゜6 (0−CI−1
2−C’) 、および7.0〜8゜0 (−C)−1=
CH−、芳香族水素)。
付加反応による生成物重合体は、ポリ(2−ベンゾイル
オキシ−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピル
メタクリレート)でおった。
オキシ−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピル
メタクリレート)でおった。
実施例 4
ポリ(2−(4−メチルベンゾイルオキシ) −3−(
4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート
)の製造。
4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート
)の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,169゜3mmo
l)をジグライム(20d)中で、TEAB(0,16
g、0.8mmol)の存在下、4’ −(4−メチル
ベン′ン゛4ルオキシ)カルコン:(2,739,8m
mol)と、100’Cの温度で24時間反応させた。
l)をジグライム(20d)中で、TEAB(0,16
g、0.8mmol)の存在下、4’ −(4−メチル
ベン′ン゛4ルオキシ)カルコン:(2,739,8m
mol)と、100’Cの温度で24時間反応させた。
精製後の付加反応による生成物重合体の収量は2.93
9であった。付加反応率は66.6mo1%でI’>ッ
た。(ト1′−N〜1Rのスペクトルの強度比より)。
9であった。付加反応率は66.6mo1%でI’>ッ
た。(ト1′−N〜1Rのスペクトルの強度比より)。
重合体の3元粘度は0.65dl/g(30’C,0,
59/dlxDMF中で)であった。
59/dlxDMF中で)であった。
実施例1と同様にして、この重合体の感度を測定したと
ころ1、不溶化段数は16段であった。
ころ1、不溶化段数は16段であった。
また、この重合体の分析値は次のとおりでめった。
赤外吸収スペクトル(フィルム〉:
1720cm 、1660cm−1および1600c
m−1での吸収。
m−1での吸収。
NMR(CDC,f! 3 ) :
δ=1.1 (C−CH3>、2.0 (C−CI−1
2−C> 、 2.3 (◎ヒCH3)。
2−C> 、 2.3 (◎ヒCH3)。
4.3 (C−CH2−0)、5.6 (0−C;H−
C)、および6.9〜7.9 (−CH−CH−、芳香
族水素)。
C)、および6.9〜7.9 (−CH−CH−、芳香
族水素)。
付加反応による生成物重合体は、ポリ(2−(p−メチ
ルベンゾイルオキシ) −3−(4−シンナモイルフェ
ノキジンプロピルメタクリレート)であった。
ルベンゾイルオキシ) −3−(4−シンナモイルフェ
ノキジンプロピルメタクリレート)であった。
実施例 5
ポリ(2−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −3−(
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,169゜8mm0
+)をジグtイム(20f111)中で、TEAB(0
,i 69.0.8mmol)の存在下に、4−’(4
−ニトロベンゾイルオキシ)カルコン: (2,999,8mmol)と、100℃の温度で1時
間反応させた。
+)をジグtイム(20f111)中で、TEAB(0
,i 69.0.8mmol)の存在下に、4−’(4
−ニトロベンゾイルオキシ)カルコン: (2,999,8mmol)と、100℃の温度で1時
間反応させた。
付加反応生成物の重合体の収量は1.639であり、付
加反応率は19.3mo1%でおった。
加反応率は19.3mo1%でおった。
(窒素の元素分析より計算)a還元粘度は0.30dl
/gであった(30℃、0.5g/旧:DMF)。
/gであった(30℃、0.5g/旧:DMF)。
実施例1と同様にして感度を測定したところ、不溶化段
数は8段であった。
数は8段であった。
また、この生成物重合体の分析値は次のとおりであった
。
。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1730cm 、 ’1660cm−’。
1600CIft、 1530r、w−’。
および1340ca−’での吸収。
NMR(CDCF 、):
δ =0. 95 (C−CH3”) 、
2’、 O’(C−CH2−C)、3.80〜4.
30(C−CH2−〇>、5.50(○−CH−C)、
および6.95〜8.20 (−CH=CH−、芳香族
水素)、。
2’、 O’(C−CH2−C)、3.80〜4.
30(C−CH2−〇>、5.50(○−CH−C)、
および6.95〜8.20 (−CH=CH−、芳香族
水素)、。
実施例 6
ポリ32−(4−クロロベンゾイルオキシ) −3−(
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,16y。
8mmol)をジグライム(20m>中で、TEAB(
0,169,0,8mmol)の存在下に、4−(4−
グロロペンゾイルオキシ)カルコン: <2.90!7.8mmol)と、100’Cの温度で
24時間撹拌して反応させた。
0,169,0,8mmol)の存在下に、4−(4−
グロロペンゾイルオキシ)カルコン: <2.90!7.8mmol)と、100’Cの温度で
24時間撹拌して反応させた。
付加反応生成物の重合体の収量は3.10yでおった。
付加反応率は7Q、Qmo1%であった塩素の元素分析
より計算)。また、還元粘度は0゜25dl/g(30
’C,0,5g/dl: DMF>。
より計算)。また、還元粘度は0゜25dl/g(30
’C,0,5g/dl: DMF>。
実施例1と同様にして重合体の感度を測定したところ、
不溶化段数は15段であった。
不溶化段数は15段であった。
また、この生成物重合体の分析値は次のとおりであった
。
。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1730cm 、 1660cm−1,1600cm
、 1510cm 、 1260cmジ1180cm
”での吸収。
、 1510cm 、 1260cmジ1180cm
”での吸収。
N〜IR(CDCfl、):
δ=1.4 (C−CH,>、2.0 (C−CH2−
C)、4.2 (C−CI−12−0)。
C)、4.2 (C−CI−12−0)。
5.6 (0−CH−C)、6.9〜8. 0(−CH
=CH−、芳香族性水素)。
=CH−、芳香族性水素)。
実施例 7
ポリ(2−ベンゾイルオキシ−3−(4−ベンゾイルビ
ニルフェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
ニルフェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,16y。
3mmol)をジグライム(20mi>中で、TEAB
(0,1610,8mmol)の存在下に、4−(4−
ベンゾイルオキシ)カルコン: )co O+0H=OH−00−@◎ (2,639,8mmol)と、100℃の温度で24
時間反応させた。
(0,1610,8mmol)の存在下に、4−(4−
ベンゾイルオキシ)カルコン: )co O+0H=OH−00−@◎ (2,639,8mmol)と、100℃の温度で24
時間反応させた。
付加反応生成物の重合体の収量は2.84gであった。
付加反応率は55.5mo1%であった(H−NMRよ
り)。また、DMF中での重合体の還元粘度は0.33
dl/(+であった(30℃、0゜5g/旧の濃度で測
定)。
り)。また、DMF中での重合体の還元粘度は0.33
dl/(+であった(30℃、0゜5g/旧の濃度で測
定)。
実施例1と同様にして重合体の感度を測定した。
不溶化段数は14段であった。
また、この生成物重合体の分析値は次のとおりであった
。
。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1720cm、 1660cmジ1600cm 、お
よび1240cm−1での吸収。
よび1240cm−1での吸収。
NMR(CDC,Q 3):
δ =1. 1 (C−Cト13 >、 1
. 9 (C−CH2−C)、3.9および4.1
(C−CH2−0) 、 5. 6
(0−CH−C) 。
. 9 (C−CH2−C)、3.9および4.1
(C−CH2−0) 、 5. 6
(0−CH−C) 。
および7.0〜8.0(芳香族性水素)。
実施例 8
ポリ(2−(4−メチルベンゾイルオキシ) −3−(
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
4−ベンゾイルビニルフェノキシ)プロピルメタクリレ
ート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,169゜8mmo
l)をジグライム(20a2)中で、TEAB(0,1
6!?、0.8mmol)の存在下に、4−(4−メチ
ルベンゾイルオキシ (2.739,8mmol)と、100’Cの温度で2
4時間反応させた。
l)をジグライム(20a2)中で、TEAB(0,1
6!?、0.8mmol)の存在下に、4−(4−メチ
ルベンゾイルオキシ (2.739,8mmol)と、100’Cの温度で2
4時間反応させた。
付加反応生成物の重合体の収lは2.8(lであった。
付加反応率は55.(3mo1%で必った(ト1−N〜
IRより)。また、還元粘度は、0. 29dl/gで
あった(30’C,0.5g/di: DMF)。
IRより)。また、還元粘度は、0. 29dl/gで
あった(30’C,0.5g/di: DMF)。
実施例1と同様にして、重合体の感度を測定したところ
、不溶化段数は16段であった。
、不溶化段数は16段であった。
また、この生成物重合体の分析値は、次のとおりであっ
た。
た。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1720ra 、1660cm−’、および1600
cm”1での吸収。
cm”1での吸収。
NMR(CD(j! 3):
δ=1 、0 (C−CI−13> 、 2.0 (C
−CI−12−C) 、 2.2 (◎−C1−13>
。
−CI−12−C) 、 2.2 (◎−C1−13>
。
3.7および4.2 (C−CI−12−0)。
5.6 (0−C1−1−C)、6.8〜7.9(−C
H1= CI−1−、芳香族性水素)。
H1= CI−1−、芳香族性水素)。
実施例 9
2−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・メチ
ルメタクリレート共重合体の製造。
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・メチ
ルメタクリレート共重合体の製造。
グリシジルメタクリレート(1,0q、7.03mm0
1)とメチルメタクリレート(0,709゜7、03m
mol)およびAl8N (0,0210゜22mmo
+)をジオキサンに溶解し、窒素気流下で、60″Gの
温度で5時間、さらに80℃の温度で2時間、共重合さ
せた。
1)とメチルメタクリレート(0,709゜7、03m
mol)およびAl8N (0,0210゜22mmo
+)をジオキサンに溶解し、窒素気流下で、60″Gの
温度で5時間、さらに80℃の温度で2時間、共重合さ
せた。
次に、4’−(4−ニトロベンゾイルオキシ)カルコン
(2,61g、 7.03mmol)とT[:AB(0
,159,0,703mmol)およびジオキサン(3
0d)を加え、100’Cの温度で24時間反応さぜた
。反応混合物をエタノール中に注入し、T I−I F
=エタノールで2回再沈殿させ、50°Cの温度で減圧
乾燥した。
(2,61g、 7.03mmol)とT[:AB(0
,159,0,703mmol)およびジオキサン(3
0d)を加え、100’Cの温度で24時間反応さぜた
。反応混合物をエタノール中に注入し、T I−I F
=エタノールで2回再沈殿させ、50°Cの温度で減圧
乾燥した。
付加反応生成物の重合体の収量は4.05yであった。
重合体の還元粘度は、0.23dl/gであった(30
’C,0,59/dl:DMF>。
’C,0,59/dl:DMF>。
実施例1と同様にして、露光時間2分で、重合体の感度
を測定した。不溶化段数は11段であった。
を測定した。不溶化段数は11段であった。
また、この生成物重合体の分析値は、次のとありであっ
た。
た。
赤外線吸収スペクトル(フィルム〉:
1720cm 、1660cm−1,1600cm
、1520cm−1および1340cm−1での吸収。
、1520cm−1および1340cm−1での吸収。
NMR(DMSO−D6):
δ =0. 90 (C−Cトi 3 >、1.
90(C−CI−i2−C)、3.50 (0−CH3
)、4.40 (C−C112−0)。
90(C−CI−i2−C)、3.50 (0−CH3
)、4.40 (C−C112−0)。
5.60 (0−CH−C)、7.00〜8゜20(−
CH=CH1−1芳香族性水素)。
CH=CH1−1芳香族性水素)。
生成物重合体は、2−(4−ニトロベンゾイルオキシ)
−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタク
リレート・メチルメタクリレート共重合体であった。
−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタク
リレート・メチルメタクリレート共重合体であった。
実施例 10
2−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・スチ
レン共重合体の製造。
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・スチ
レン共重合体の製造。
グリシジルメタクリレート(1,0g、7.03mmo
l)とスチレン(0,73g、7.03mmol)およ
びAIBN (0,02g、0.22mm01)をジオ
キサン(12d)に溶解し、窒素気流下で、60’Cの
温度で5時間、ざらにao’cの温度で3時間共重合を
行った。
l)とスチレン(0,73g、7.03mmol)およ
びAIBN (0,02g、0.22mm01)をジオ
キサン(12d)に溶解し、窒素気流下で、60’Cの
温度で5時間、ざらにao’cの温度で3時間共重合を
行った。
次に、4’−(4−ニトロベンゾイルオキシ)カルコン
(2,61g、 7.03mmol)とTEAB(0,
15y、o、703mmol)およびジオキサン(30
d)を加え、反応混合物を100’Cの温度で24時間
反応ざゼた。
(2,61g、 7.03mmol)とTEAB(0,
15y、o、703mmol)およびジオキサン(30
d)を加え、反応混合物を100’Cの温度で24時間
反応ざゼた。
付加反応生成物の重合体の収量は3.8’!?であった
。重合体の還元粘度は、0.12dl/gであった(3
0℃、0.5a/dl:DMF)。
。重合体の還元粘度は、0.12dl/gであった(3
0℃、0.5a/dl:DMF)。
実施例1と同様にして、露光時間2分で、感度を測定し
た。不溶化段数は10段であった。
た。不溶化段数は10段であった。
また、この生成物重合体の分析値は、次のとおりであっ
た。
た。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1730cm 、 1660cm−’、 1600c
m 、1530cm 1340cm−1での吸収。
m 、1530cm 1340cm−1での吸収。
NMR(DMSO):
δ =0. 75 (C−C)l 3 )、
1. 70(C−CI−12−C)、4.20
(0−CH2C) 、 5.60 (OCHC) 。
1. 70(C−CI−12−C)、4.20
(0−CH2C) 、 5.60 (OCHC) 。
7.0〜8.4.0 (−CH=C11−、芳香族性水
素)。
素)。
生成物重合体は、2−(4−ニトロベンゾイルオキシ)
−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタク
リレート・スヂレン共重合体の製造。
−3−(4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタク
リレート・スヂレン共重合体の製造。
実施例 11
2−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −3−(4−シ
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・エチ
ルアクリレート共重合体の製造。
ンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート・エチ
ルアクリレート共重合体の製造。
グリシジルメタクリレート(1,0g、7.03mm0
I)とエチルアクリレート(0,7”l、7゜03mm
0+)およびAIBN (0,02g、0.22mmo
l)をジオキサン(12d)に溶解し、窒素気流下で、
60’Cの温度で5時間、ざらに80℃の温度で2時間
、共重合を行った。
I)とエチルアクリレート(0,7”l、7゜03mm
0+)およびAIBN (0,02g、0.22mmo
l)をジオキサン(12d)に溶解し、窒素気流下で、
60’Cの温度で5時間、ざらに80℃の温度で2時間
、共重合を行った。
次に、4’−(4−ニトロベンゾイルオキシ)カルコン
(2,61g、7.03mmol)とTEAB(0,1
5g、0.703mmol>およびジオキサン(3C)
d)を加え、100℃の温度で、24時間反応させた。
(2,61g、7.03mmol)とTEAB(0,1
5g、0.703mmol>およびジオキサン(3C)
d)を加え、100℃の温度で、24時間反応させた。
反応混合物をエタノール中に注入し、ざらにT I−I
F−エタノールで2回再沈殿させ、50’Cで減圧乾
燥した。
F−エタノールで2回再沈殿させ、50’Cで減圧乾
燥した。
付加反応生成物の重合体の収量は3.76gであった。
重合体の還元粘度は、0.27dl/gであった(30
’C,0,5g/dl:DMF)。
’C,0,5g/dl:DMF)。
実施例1と同様にして、露光時間2分で測定したところ
、不溶化段数は11段であった。
、不溶化段数は11段であった。
実施例 12
ポリ(2−(4−ニトロベンゾイルオキシ) −3−(
4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート
〕の製造。
4−シンナモイルフェノキシ)プロピルメタクリレート
〕の製造。
グリシジルメタクリレート(2,0g、14゜Q5mm
ol)およびAIBN (0,02y、0.22mmo
l)をジオキサン(12IIdl)ニ溶解シ、窒素気流
中で、60℃の温度で5時間、80℃の温度で2時間重
合を行った。
ol)およびAIBN (0,02y、0.22mmo
l)をジオキサン(12IIdl)ニ溶解シ、窒素気流
中で、60℃の温度で5時間、80℃の温度で2時間重
合を行った。
ざらに、4’ −(4−ニトロベンゾイルオキシ)カル
コン(5,21g、14.06mmol)とT E A
B (0,29g、1.4mmol)およヒシオキサン
(30IIdl)を加え、100℃の温度で24時間反
応させた。“ 付加反応生成物の重合体の収量は5.70gであった。
コン(5,21g、14.06mmol)とT E A
B (0,29g、1.4mmol)およヒシオキサン
(30IIdl)を加え、100℃の温度で24時間反
応させた。“ 付加反応生成物の重合体の収量は5.70gであった。
付加反応率は76.1mo1%であった。
重合体の還元粘度は、0.32d110であった(30
℃、0.5a/dl: DMF>。
℃、0.5a/dl: DMF>。
実施例1と同様にして、露光時間2分で、感度を測定し
たところ不溶化段数は11段であった。
たところ不溶化段数は11段であった。
生成物重合体の分析値は、次のとおりであった。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1730cm 、 1660cm−’、 1600c
tn 、1530cm 、および1340cm−’で
の吸収。
tn 、1530cm 、および1340cm−’で
の吸収。
NMR(CDC,l! 3):
δ =0. 95 (C−CH3>、 2.
0 (C−CI−12−C) 、 4.4 (C−
CI−12−0) 、 5.70 (0−CI−12−
C) 、 7゜0〜8.4 (−CH=CH−、芳香族
性水素)。
0 (C−CI−12−C) 、 4.4 (C−
CI−12−0) 、 5.70 (0−CI−12−
C) 、 7゜0〜8.4 (−CH=CH−、芳香族
性水素)。
実施例 13
ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−シンナモイル
フェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
フェノキシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
ポリグリシジルメタクリレート(1,169゜8mmo
l)をジグライム(20m>中で、TEAB(0,16
g、0.8mmol) (7)存在下ニ、4′−ベンゾ
イルオキシカルコン(0,409,1,2mmol :
エポキシ基に対して15mo1%)と100°Cの温
度で24時間反応させた。
l)をジグライム(20m>中で、TEAB(0,16
g、0.8mmol) (7)存在下ニ、4′−ベンゾ
イルオキシカルコン(0,409,1,2mmol :
エポキシ基に対して15mo1%)と100°Cの温
度で24時間反応させた。
付加反応生成物の重合体の収量は1.44gであった。
付加反応率はト1’ −NMRのスペクトルの強度比よ
り求めたところ、12mol/%であった。
り求めたところ、12mol/%であった。
重合体の還元粘度は0.30dl/gであった。
実施例1と同様にして感度を測定したところ、不溶化段
数は9段(露光時間2分)であった。
数は9段(露光時間2分)であった。
また、生成物重合体の分析値は、次のとおりであった。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1720cm 、1660cm−’、および160C
)cm−1,での吸収。
)cm−1,での吸収。
NMR(CDC,Q 3):
δ=1. 1 (C−C1−19>、”+、9(C〜
C目2−C)、3.9および4,2 (C−Cl12−0) 、 5.6 (0−C)l−〇
)、および7.0〜8.0(−CH= CH−、芳香族
性水素)。
C目2−C)、3.9および4,2 (C−Cl12−0) 、 5.6 (0−C)l−〇
)、および7.0〜8.0(−CH= CH−、芳香族
性水素)。
実施例 14
2−ベンゾイルオキシ−3−(4−シンナモイルフェノ
キシ〉プロピルメタクリレート・エチルアクリレート共
重合体。
キシ〉プロピルメタクリレート・エチルアクリレート共
重合体。
グリシジルメタクリレート・エチルアクリレート共重合
体(MW 68800)(組成比ニー(GMA←丁■
−→EA)−丁罰−)1.003(エポキシ基として2
.71mmol>と、4′−(ベンゾイルオキシ)カル
コン0.89g(2,71mmol)およびTEA8
0.056g(0,271mmol)を、ジグライム(
12d)に溶解し、100’Cの温度で24時間反応さ
せた。次いで、反応混合物をエタノールに注ぎ、THF
−メタノールで2回再沈殿させ、50℃で減圧乾燥した
。
体(MW 68800)(組成比ニー(GMA←丁■
−→EA)−丁罰−)1.003(エポキシ基として2
.71mmol>と、4′−(ベンゾイルオキシ)カル
コン0.89g(2,71mmol)およびTEA8
0.056g(0,271mmol)を、ジグライム(
12d)に溶解し、100’Cの温度で24時間反応さ
せた。次いで、反応混合物をエタノールに注ぎ、THF
−メタノールで2回再沈殿させ、50℃で減圧乾燥した
。
付加反応生成物の手合体の収量は1.119で、重合体
側鎖のエポキシ基の反応率は26.○Omot/%で必
った(1・l’ −NMRより計算)。重合体の還元粘
度は1.18dl#+であった30’C,0゜5(1/
dl:DMF>。
側鎖のエポキシ基の反応率は26.○Omot/%で必
った(1・l’ −NMRより計算)。重合体の還元粘
度は1.18dl#+であった30’C,0゜5(1/
dl:DMF>。
実施例1と同様にして露光時間30秒で手合体の感度を
測定したところ、不溶化段数は10段であった。
測定したところ、不溶化段数は10段であった。
生成物重合体の分析値は、次のとd3ってあった。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1730 cm−1,1660cm−1,1600c
m 、 1430cm−’、および1380cm−1
゜での吸収。
m 、 1430cm−’、および1380cm−1
゜での吸収。
NMR(CDC,Q 3):
δ=1.0(C−CI、)、1.2 (0−c−c+−
+3 ) 、 1 、 90 (C−C1−
12−C)、 4.20 (C−CH2−0) 、 5
.70(0−CH−C) 、 7. 50〜8
. 00(−CI−1= C)l −、芳香族性水素
)。
+3 ) 、 1 、 90 (C−C1−
12−C)、 4.20 (C−CH2−0) 、 5
.70(0−CH−C) 、 7. 50〜8
. 00(−CI−1= C)l −、芳香族性水素
)。
生成物重合体の構成は次に示すとおりのものであった。
実施例 15
ポリ(2−アセトキシ−3−(4−シンナモイルフェノ
キシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
キシ)プロピルメタクリレート〕の製造。
実施例1と同様にして、ポリグリシジルメタクリレート
(1,16Q、8mmol)をジグライム(20m)に
溶解し、次いで4°−アセトキシカルコン(2,12C
I、 8mmol)およびTBAB (0゜16Q、
0.8mmol)を混合溶液中に加エタ。
(1,16Q、8mmol)をジグライム(20m)に
溶解し、次いで4°−アセトキシカルコン(2,12C
I、 8mmol)およびTBAB (0゜16Q、
0.8mmol)を混合溶液中に加エタ。
100’Cの温度で24時間撹拌して反応させた。
混合物をエタノール中に注入し、次いで、THE−エタ
ノールで2回再沈澱し、50℃で真空乾燥した。
ノールで2回再沈澱し、50℃で真空乾燥した。
付加反応生成物の重合体の収量は2.030であった。
付加反応率は50.5mo1%であった(1−1”−N
MRの結果)。DMF中での重合体の粘度は0.45d
l/C1であった(30℃。
MRの結果)。DMF中での重合体の粘度は0.45d
l/C1であった(30℃。
0.5g/d lで測定)。
実施例1と同様に測定したところ、不溶化段数は12段
であった。
であった。
実施例 16
2−ベンゾイルオキシ−3−(4−シンナモイルフェノ
キシ)プロピルメタクリレート・スチレン共重合体の製
造。
キシ)プロピルメタクリレート・スチレン共重合体の製
造。
グリシジルメタクリレート・スチレン共重合体(MW=
48000>(組成比: fGMAヒ丁π−1S T i工8o )1.0O9(
エポキシ基として1.6mmo+>と、4′−(ベンゾ
イルオキシ)カルコン0.58g(1,8mmol)お
よびTEA8 0.037g(0,18mmol)を、
ジグライム(12mff)に溶解し、100′Cの温度
で24時間反応させた。実施例14と同様にして精製し
た。
48000>(組成比: fGMAヒ丁π−1S T i工8o )1.0O9(
エポキシ基として1.6mmo+>と、4′−(ベンゾ
イルオキシ)カルコン0.58g(1,8mmol)お
よびTEA8 0.037g(0,18mmol)を、
ジグライム(12mff)に溶解し、100′Cの温度
で24時間反応させた。実施例14と同様にして精製し
た。
付加反応生成物の重合体の収量は1.04gで、重合体
側鎖のエポキシ基の反応率は12.6mol/%であっ
た。重合体の還元粘度は0.40dl/(J(30℃、
0.5(+/旧:DMF)。
側鎖のエポキシ基の反応率は12.6mol/%であっ
た。重合体の還元粘度は0.40dl/(J(30℃、
0.5(+/旧:DMF)。
生成物重合体の分析値は次に示すとおりであった。
赤外線吸収スペクトル(フィルム):
1720 an 、1660cm−’、1600c
m −1,での吸収。
m −1,での吸収。
NMR(CD(j!3 ):δ=0.50 (C−CH
3)、1.50 (C−CH2−C)、3゜6(CCH
20)、 5.10(OC )−1−C)、6.90〜7.90 (−CI−1=C
H−、芳香族性水素)。
3)、1.50 (C−CH2−C)、3゜6(CCH
20)、 5.10(OC )−1−C)、6.90〜7.90 (−CI−1=C
H−、芳香族性水素)。
生成物重合体の構成は、次に示すとおりのものであった
。
。
また実施例1と同様にして、重合体の感度を測定したと
ころ、露光時間30秒で、不溶化段数は11段であった
。
ころ、露光時間30秒で、不溶化段数は11段であった
。
実施例 17
実施例4でi昇られた重合体0.1gを、1dのシクロ
ヘキサノンに溶解し、これに光カチオン重合触媒の次式 で示される4−モルホツリー2,5ジブトキシーベンゼ
〉・ジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート0゜0
03CJを加えて感光液を調整した。
ヘキサノンに溶解し、これに光カチオン重合触媒の次式 で示される4−モルホツリー2,5ジブトキシーベンゼ
〉・ジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート0゜0
03CJを加えて感光液を調整した。
この感光液を銅版に塗布し、コダックステップタブレッ
トNα2を重ねて、ケミカルランプを用いて3 (:’
+71の距離から3秒間露光した。THFで2分間現象
したところ、その不溶化段数は14段であった。
トNα2を重ねて、ケミカルランプを用いて3 (:’
+71の距離から3秒間露光した。THFで2分間現象
したところ、その不溶化段数は14段であった。
実施例 18
実施例5で得られた重合体の10%シクロヘキサノン溶
液に、重合体に対して3重量%の光カチオン重合触媒の
4−モルホリノ−2,5−ジブトギシーベンゼンジアゾ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートを加えた。
液に、重合体に対して3重量%の光カチオン重合触媒の
4−モルホリノ−2,5−ジブトギシーベンゼンジアゾ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートを加えた。
実施例17と同様にして露光および現像を行ったところ
、不溶化段数は6段であった。
、不溶化段数は6段であった。
実施例 19
実施例9で得られた重合体の10%シクロヘキサノン溶
液に、重合体に対して1重石%の光カチオン重合触媒の
N、N−ジメチル−4−アミノ−ベンゼンジアゾニウム
・ヘキサフルオロホスホフェートを加え、実施例9と同
様に2分間露光し、2分間現像したところ、不溶化段数
は17段であった。
液に、重合体に対して1重石%の光カチオン重合触媒の
N、N−ジメチル−4−アミノ−ベンゼンジアゾニウム
・ヘキサフルオロホスホフェートを加え、実施例9と同
様に2分間露光し、2分間現像したところ、不溶化段数
は17段であった。
Claims (4)
- (1)側鎖にエポキシ基を有する重合体と分子内にカル
コン基を有するカルボン酸エステルとの付加反応生成物
で、重合体側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂。 - (2)カルコン基とともにエポキシ基を重合体側鎖に有
する特許請求の範囲第(1)項記載の感光性樹脂。 - (3)側鎖にエポキシ基を有する重合体に分子内にカル
コン基を有するカルボン酸エステルを付加反応させるこ
とによる重合体の側鎖にカルコン基を有する感光性樹脂
の製造方法。 - (4)重合体の側鎖にカルコン基とともにエポキシ基を
有する特許請求の範囲第(3)項記載の感光性樹脂の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3415286A JPH0745533B2 (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 感光性樹脂とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3415286A JPH0745533B2 (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 感光性樹脂とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192404A true JPS62192404A (ja) | 1987-08-24 |
JPH0745533B2 JPH0745533B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=12406226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3415286A Expired - Lifetime JPH0745533B2 (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 感光性樹脂とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0745533B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003082063A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | 電子材料用エポキシ樹脂組成物および低誘電性電子材料 |
KR100481014B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2005-04-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토폴리머를 이용한 감광성 수지 조성물 |
JP2010132849A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-06-17 | Nagoya Institute Of Technology | エポキシ樹脂組成物および硬化物の製造方法 |
CN109535348A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-03-29 | 天津理工大学 | 一种由二苯基碘鎓盐和自由基光引发剂共同引发丙烯酸酯类单体和光反应活性环氧化物 |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP3415286A patent/JPH0745533B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003082063A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | 電子材料用エポキシ樹脂組成物および低誘電性電子材料 |
KR100481014B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2005-04-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토폴리머를 이용한 감광성 수지 조성물 |
JP2010132849A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-06-17 | Nagoya Institute Of Technology | エポキシ樹脂組成物および硬化物の製造方法 |
CN109535348A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-03-29 | 天津理工大学 | 一种由二苯基碘鎓盐和自由基光引发剂共同引发丙烯酸酯类单体和光反应活性环氧化物 |
CN109535348B (zh) * | 2018-11-26 | 2021-05-18 | 天津理工大学 | 一种由二苯基碘鎓盐和自由基光引发剂共同引发丙烯酸酯类单体和光反应活性环氧化物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0745533B2 (ja) | 1995-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20140144809A (ko) | 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물 | |
Temel et al. | Polymeric side chain thioxanthone photoinitiator for free radical polymerization | |
JP2000500168A (ja) | 光重合開始剤 | |
JP2001049231A (ja) | 有機反射防止重合体およびその製造方法 | |
Lee et al. | Photocopolymerizations of electron-rich olefins with electron-poor olefins by irradiation of their EDA complexes | |
Nishikubo et al. | Study of photopolymer. XVII. Synthesis of novel photosensitive polymers with pendant photosensitive group and photosensitizer groups | |
KR940001555B1 (ko) | 가시방사선 감광성 조성물 | |
JPS62192404A (ja) | 感光性樹脂とその製造方法 | |
JP2002265468A (ja) | イソオキサゾール基で置換された光変色性ジアリールエテン系化合物 | |
Balaji et al. | Studies on photosensitive homopolymer and copolymers having a pendant photocrosslinkable functional group | |
JPH0354961B2 (ja) | ||
Nishikubo et al. | Synthesis of polymers bearing pendant norbornadiene moieties by addition reaction of poly (glycidyl methacrylate‐co‐methyl methacrylate) s with 2, 5‐norbornadiene‐2‐carboxylic acids | |
Nakashima et al. | Synthesis of polystyrene and poly (alkyl methacrylate) s having photochromic dithienylethene pendant groups | |
CA1038537A (en) | Polymers comprising 2-pyridone substituents and compositions thereof | |
JPS62260806A (ja) | 含フツ素共重合体 | |
NO167583B (no) | Straalingsfoelsomt materiale, samt fremstilling derav. | |
JP3602075B2 (ja) | 有機反射防止膜の組成物及びその製造方法 | |
Dauth et al. | Water‐soluble photoresins based on azosulfonates | |
JP2002003559A (ja) | 架橋性樹脂組成物 | |
US4247660A (en) | Photo-crosslinkable polymers having azidophthalimidyl side groups | |
KR100216449B1 (ko) | 로진유도체, 그의 중합물, 그의 공중합물 및 그의 제조방법 | |
US4159202A (en) | Photopolymer having 2-pyridone side group | |
JP2753605B2 (ja) | マレイン酸誘導体−イソブチレン共重合体およびその製造法 | |
JPH0392860A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3333303B2 (ja) | 樹脂組成物およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |