JPS6218610A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体に磁気的な記録再生及びトンネ
ル消去を行なうために用いられる磁気ヘッドの製造方法
に関するものである。

従来の技術 従来のこの種の磁気ヘッドの一例を第１７図に基づいて
説明する。すなわち、Ｌ形コア１と工形コア２とを接着
用ガラス３とバックコア４とにより結合し、巻線５を取
り付けているものであるが、Ｌ形コア１と工形コア２と
の両者に溝６を形成し。

この溝６により形成される突部７，８を対向させて一定
の隙間によるギャップ９を形成している。

このギャップ９の幅Ｂは記録媒体におけるトラック幅に
一致するものであり、高密度記録再生をするためにはこ
の幅Ｂを狭くしなければならないものである。

発明が解決しようとする問題点 このようにＬ形コア１と工形コア２との突部７゜８を対
向させてギャップ９を形成する従来の製造方法において
は、接着用ガラス３で両者を接着した時に、ギャップ９
の間隔方向および幅方向の位置が一定にならず、ギャッ
プ９の寸法にバラツキが生じる。しかも、このギャップ
９は前述のようにその幅Ｂが狭いことを要求されている
現状においては、一層その誤差が大きくなり、製造時に
おける歩留まりが低下し、製造原価が上昇してしまうも
のである。

また、工形コア２はかなりの厚さを有し、ギャップ９の
位置から工形コア２の外面までの寸法は大きい。そのた
め、記録再生用の磁気ヘッドとトンネル消去用磁気ヘッ
ドとを組み合わせた２ギヤツプ磁気ヘツドを形成する場
合、両者の工形コア２の外面を接合させて形成するが、
その工形コア２の厚さが大きいために記録再生用ギャッ
プと消去用ギャップとの間隔が大きくなり、記録媒体の
表面の記録に関与しない領域が大きいと云う問題がある
。

本発明は、作動ギャップの片側の寸法をきわめて小さく
することができる磁気ヘッドを簡単に製造することがで
きる磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする
。

問題点を解決するための手段 第一のフェライトとなるコア母材にトラック幅に一致し
た幅め突部を形成し、このコア母材の前記突部の面より
そのコア母材側に位置させて第二のフェライトとなる他
のコア母材を接着用ガラスで接着し、この接着されたコ
ア母材を研削して前記突部の面とこのコア母材の外面と
を同一平面内に位置させる研削加工をし、前記突部の面
に非磁性材による薄膜を薄膜技術により形成し、この薄
膜と前記コア母材の外面に密着させて高透磁率薄膜を薄
膜技術により形成し、前記突部に対向する部分の高透磁
率薄膜をトラック幅に一致させてその突部との間に作動
ギャップを形成する。

作用 作動ギャップは加工精度の高い薄膜技術により製作され
、これにより作動ギャップのバラツキはなく、製造上の
歩留まりが向上し、しかも、高透磁率薄膜が片側の最外
側に位置させることが容易であり、記録再生用の磁気ヘ
ッドとトンネル消去用の磁気ヘッドとを組合せて２ギヤ
ツプ磁気ヘツドを形成した時に、記録再生用ギャップと
消去用ギャップとは近接し、記録媒体を有効に使用する
ことができる磁気ヘッドを簡単に製造することができる
ものである。

実施例 本発明の第一の実施例を第１図ないし第１３図に基づい
て説明する。まず、Ｌ形をなす第一のフェライト１ｏに
は、接着用ガラス１１とバックコア１２とにより工形を
なす第二のフェライト１３が固定されている。前記第一
のフェライト１０には溝１４によりトラック幅に一致す
る幅Ｂの突部１５が形成され、この突部１５の面と前記
第二のフェライト１３の外面１６とは同一平面内に位置
するように設定されている。そして、前記突部１５の表
面には非磁性材による薄膜１７が薄膜技術により形成さ
れ、この薄膜１７および前記フェライト１３の外面１６
とには高透磁率薄膜１８が形成されている。この高透磁
率薄膜１８は前記フェライト１３に密着するとともに前
記突部１５との間には作動ギャップ１９が形成されてい
る。また、前記フェライト１０には巻線２０が巻回され
て挿着されている。

このような形状の磁気ヘッドの製造過程を第２図ないし
第９図に基づいて説明する。まず、両端と中央とに突条
２１，２２を有するフェライトによるコア母材２３が形
成されている。このコア母材２３の中央の突条２２は所
定の間隔をおいて二条平行に形成され、これらの突条２
２には、第３図に示す溝切り砥石２４により溝１４が一
定のピッチで形成され、これらの溝１４によりトラック
幅に一致した突部１５が形成される。

つぎに、第４図に示すように両端および中央部に凹条２
５，２６が形成されたフェライトによるコア母材２７が
形成される。このコア母材２７の上には第２図に示すコ
ア母材２３を裏返して第５図に示すように前記凹条２５
，２６に前記突条２１．２２を接合させて両者により形
成される溝間に接着用ガラス捧２８ａを入れて接着する
。

ついで、第５図において一点鎖線で示した切削面２９よ
り下方を切削加工により除去する。この除去加工をした
あと裏返したのが第６図に示すものであり、コア母材２
７の外面１６が露出し、そのコア母材２７は他のコア母
材２３とは接着用ガラス１１により保持されて両者が接
触していない状態になっている。そして、その外面１６
と前記突部１５の面とは同一平面内に位置する。

つぎに、第７図に示すように前記突部１５の表面に前記
コア母材２７に干渉しない状態で非磁性材によりギャッ
プ形成用の薄膜１７が形成されている。この薄膜１７の
材質は、５ｉｎ２やＡ１□Ｏ１である。

さらに、第７図のように形成した表面にパーマロイやセ
ンダスト等の高透磁率材料を着膜し、高透磁率薄膜１８
を形成する。この時、隣接する突部１５の中間部には窓
２８を開けて残された高透磁率薄膜１８の幅をトラック
幅Ｂに一致したものとする。このように形成してから、
切断線Ｘで幅方向に分離し、切断線Ｙで長さ方向に分離
すると第９図に示すものが製作される。この第９図に示
すものに、バックコア１２と巻４１２０とを装着すれば
、第１図に示す製品になる。

なお、第１図に示す状態においても未だ半製品であり、
正面側のＦ面を切削して作動ギャップ１９の深さを一定
にし、高透磁率薄膜１８の表面にスパッタリング等によ
り保護膜を形成することにより完成する。

しかして、第１０図に示すものは、トンネル消去用磁気
ヘッド２９であり、内面間隔をトラック幅Ｂに合せた二
本の突部１５を形成し、高透磁率薄膜１８もその突部１
５に対応させて形成したものである。そのため、作動ギ
ャップ１９が二個である他は第１図に示すものと同一で
ある。

そして、第１１図に示すものは、このようにして形成し
た消去用の磁気ヘッドと前述の記録再生用の磁気ヘッド
とを非磁性体またはシールド板等の介在物３０を介在さ
せて一体化し、これにより形成された２ギヤツプ磁気ヘ
ツド３１である。この２ギヤツプ磁気ヘツド３１の二つ
の作動ギャップ１９の間隔はきわめて小さい０例えば、
第１７図に示す従来のものにおいてその間隔が０．６ｍ
ｍであるとすると、第１１図のものは０．１ｎｎ＋であ
る。

このような２ギヤツプ磁気ヘツド３１を用いれば、記録
媒体を有効に利用できる。すなわち、第１２図に示す長
さＱなる領域は、記録媒体３２の一部であり、その記録
媒体３２が右から左に移動するとすれば、記録再生用の
作動ギャップ１９とトンネル消去用の作動ギャップ１９
との間隔Ｈは２ギヤツプ磁気ヘツド３１の作動ギャップ
１９の間隔に一致する。そして、記録媒体３２の面につ
いて見れば、斜線部が記録領域３３であり、間隔Ｈの部
分が記録に関与しない部分である。したがって、この間
隔Ｈが小いさければ記録媒体３２の領域を有効に利用で
きることになる。

この状態をさらに第１３図に基づいて説明する。

−例として３．５′のフロッピーディスクについて説明
する。このフロッピーディスクにおいては、ＩＢＭフォ
ーマットと呼ばれる方式が世界の標準となっており、１
トラツクが１６分割（１６セクター）されている。そし
て、最内周トラックは半径２３．１８７５ｍｍの場所に
位置しているので。

その最内周トラック長は、２×πｘ２３．１８７５＝１
４５．６９１４ｎｎとなる。したがって、二つの作動ギ
ャップ１９の間隔Ｈが、従来のものと比較して０．６ｍ
＋からＯ，ｌａｏになると、１セクター当たりで０．５
１１Ｉ＋＋のデータフィールドの増加が可能になる。１
トラツク当たりでは、０．５ＩＸ　１６＝８ｍｍとなる
。したがって、最内周トラックにおけるデータ領域は、
単純計算で８ｍｍ÷１４５．６１９４ｍｍ＝０．０５４
９　（５，５％）になる。但し、外周に向かうにつれて
トラック長さは大きくなるが、フロッピーディスクの回
転数は同じであるので、この５．５％の増加は、各トラ
ックにおいて同様である。

さらに、実際にはフロッピーディスクはフォーマット化
されており、フォーマット後に記録できる領域（データ
フィールド）が存し、前述の５゜５％の増加は当然その
データフィールドの増加であるので、実質的な記憶容量
の増加はより一層大きい。

つぎに、第１４図に示すものは本発明の第二の実施例を
示すもので、高透磁率薄膜１８を形成した時に、作動ギ
ャップ１９とは関係のない位置に三角形のギャップ深さ
測定用マーク３４を形成したものである。このマーク３
４は、ギャップ深さを定める研削作業時に同時に研削さ
れるマーク３４の長さを測定して深さを求めるために使
用されるものである。すなわち、第１５図において、研
削途中でマーク３４の長さＥが規定値に達したらＤなる
面までの研削でギャップ深さが求められたことになり、
きわめてその加工が容易になる。なお、このマーク３４
が二個存することは、研削加工時の傾斜のチェックをも
行なうことができるものである。

また、第１６図に示すものは、トンネル消去用磁気ヘッ
ド３０にギャップ深さ測定用マーク３４を形成したもの
である。

発明の効果 本発明は、上述のように作動ギャップは第一のフェライ
トの突部に対して薄膜技術を利用して非磁性材による薄
膜を形成するとともにさらにその上に薄膜技術により高
透磁率薄膜を形成すれば良ｊいので、その作動ギャップ
の幅寸法および間隔寸法をきわめて正確に形成すること
ができ、また、第二のフェライトは高透磁率薄膜を最外
側に位置させて第一のフェライト側に位置させることが
きわめて簡単であり、これにより、記録再生用磁気ヘッ
ドとトンネル消去用磁気ヘッドとを組合せた２ギヤツプ
磁気ヘツドを形成した時に作動ギャップの間隔はきわめ
て小さいものを簡単に製造することができるものである
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一の実施例を示す磁気ヘッドの斜視
図、第２図は第一のフェライトを構成するコア母材の斜
視図、第３図はその溝加工時の側面図、第４図は第二の
フェライトを構成するコア母材との関係を示す分解斜視
図、第５図は両者を接着した状態の斜視図、第６図は切
削加工を終了した状態の斜視図、第７図は非磁性材によ
る薄膜を形成した状態の斜視図、第８図は高透磁率薄膜
を形成した状態の斜視図、第９図は分割した状態の斜視
図、第１０図はトンネル消去用磁気ヘッドの斜視図、第
１１図は２ギヤツプ磁性ヘツドの概略を示す側面図、第
１２図は記録媒体の一部の領域を示す平面図、第１３図
はフロッピーディスクへの記録状態を示す平面図、第１
４図は本発明の第二の実施例を示す斜視図、第１５図は
ギャップ深さ加工時の平面図、第１６図は変形例を示す
斜視図、第１７図は従来の一例を示す斜視図である。 １０・・・第一のフェライト、１１・・・接着用ガラス
、１３・・・第二のフェライト、１５・・・突部、１６
・・・外面、１７・・・薄膜、１８・・・高透磁率薄膜
、１９・・・作動ギャップ、２３・・・コア母材、２７
・・・コア母材出　願　人　　　東京電気株式会社 Ｊ５９　図 、％　ＪＯ図 ：名Ｊ、Ｉ　１３ ｔ１ ３．１７口 ｊ　ｊｔ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 第一のフェライトとなるコア母材にトラック幅に一致し
   た幅の突部を形成し、このコア母材の前記突部の面より
   そのコア母材側に位置させて第二のフェライトとなる他
   のコア母材を接着用ガラスで接着し、この接着されたコ
   ア母材を研削して前記突部の面とこのコア母材の外面と
   を同一平面内に位置させる研削加工をし、前記突部の面
   に非磁性材による薄膜を薄膜技術により形成し、この薄
   膜と前記コア母材の外面に密着させて高透磁率薄膜を薄
   膜技術により形成し、前記突部に対向する部分の高透磁
   率薄膜をトラック幅に一致させてその突部との間に作動
   ギャップを形成したことを特徴とする磁気ヘッドの製造
   方法。