JPS62181439A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS62181439A JPS62181439A JP2195786A JP2195786A JPS62181439A JP S62181439 A JPS62181439 A JP S62181439A JP 2195786 A JP2195786 A JP 2195786A JP 2195786 A JP2195786 A JP 2195786A JP S62181439 A JPS62181439 A JP S62181439A
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空処理装置に係り、特に半導体素子基板（
以下、基板と略）を真空下でエツチング処理、成膜処理
、加熱処理等所定処理するの着こ好鳩な真空処理装置に
関するものである。
以下、基板と略）を真空下でエツチング処理、成膜処理
、加熱処理等所定処理するの着こ好鳩な真空処理装置に
関するものである。
基板を真空下でエツチング処理等所定処理する２Ｚ Ｉ
−（））ＪＭ ’ＪＪ ＪＪル Ｂｉｔ ｕ Ｋ＆
ｉｔ −４Ｈ１４ぼ −ａｌｌロ １Ｗ５７−９
５６３０号公報に記載のよう暑こ、基板を保持する保持
具を有する搬送手段と、保持具の移動軌跡上に配置され
該保持具との間で基板の受け渡しを行う受渡し手段を有
する搬入ステージ叢ン、処理ステージ曹ン、ｔびに搬出
ステージ璽ンとを具備するものとなっていた。しかし、
未処理の基板の搬入ステージ璽ンと処理ステーシロンと
の間での搬送、処理済みの基板の処理ステージ璽ンと搬
出ステージ璽ンとの間での搬送とを一度の搬送行程で実
施しようとする点については配慮されていなかった。
−（））ＪＭ ’ＪＪ ＪＪル Ｂｉｔ ｕ Ｋ＆
ｉｔ −４Ｈ１４ぼ −ａｌｌロ １Ｗ５７−９
５６３０号公報に記載のよう暑こ、基板を保持する保持
具を有する搬送手段と、保持具の移動軌跡上に配置され
該保持具との間で基板の受け渡しを行う受渡し手段を有
する搬入ステージ叢ン、処理ステージ曹ン、ｔびに搬出
ステージ璽ンとを具備するものとなっていた。しかし、
未処理の基板の搬入ステージ璽ンと処理ステーシロンと
の間での搬送、処理済みの基板の処理ステージ璽ンと搬
出ステージ璽ンとの間での搬送とを一度の搬送行程で実
施しようとする点については配慮されていなかった。
上記従来技術では、従って、処理ステーシーンと搬出ス
テージ冒ンとの間で処理済みの試料の搬送を行った後に
、搬入ステージ四ンと処理ステーションとの間で未処理
の試料な搬送しなければならないため、試料搬送に無駄
な時間が生じて試料搬送（こ要する時間が増大しスルー
プットが低中するといった問題がある。
テージ冒ンとの間で処理済みの試料の搬送を行った後に
、搬入ステージ四ンと処理ステーションとの間で未処理
の試料な搬送しなければならないため、試料搬送に無駄
な時間が生じて試料搬送（こ要する時間が増大しスルー
プットが低中するといった問題がある。
本発明の目的は、未処理の試料の搬入ステーションと処
理ステージ冒ンとの間での搬送と、処理済みの試料の処
理ステーシランと搬出ステーシランとの間での搬送とを
一度の搬送行程で実施可能とすることで、試料搬送にお
ける無駄な時間を排除して試料搬送に要する時間を短縮
しスルーブツトを向上できる真空処理装置を提供するこ
とにある。
理ステージ冒ンとの間での搬送と、処理済みの試料の処
理ステーシランと搬出ステーシランとの間での搬送とを
一度の搬送行程で実施可能とすることで、試料搬送にお
ける無駄な時間を排除して試料搬送に要する時間を短縮
しスルーブツトを向上できる真空処理装置を提供するこ
とにある。
上記目的は、真空処理装置を、試料を少なくとも２段に
分けて保持可能な試料保持具を有する試料搬送手段と、
前記試料保持具の移動軌跡上に配置され該保持具との間
で前記試料の受け渡しを行う試料受渡し手段を有する試
料搬入ステーション。
分けて保持可能な試料保持具を有する試料搬送手段と、
前記試料保持具の移動軌跡上に配置され該保持具との間
で前記試料の受け渡しを行う試料受渡し手段を有する試
料搬入ステーション。
試料処理ステージ冒ン蚊びに試料搬出ステージ。
ンとを具備したものとすることにより、達成される。
試料搬入ステージ言ンにある未処理の試料を試料保持具
の上段に保持させ、この状態で、試料保持具を試料搬入
ステージ曹ンから試料処理ステーションに対応する位置
まで移動させる。その後。
の上段に保持させ、この状態で、試料保持具を試料搬入
ステージ曹ンから試料処理ステーションに対応する位置
まで移動させる。その後。
試料処理ステーションにある処理済みの試料を試料保持
具の下段に保持させ、この状態で、試料保持具を試料処
理ステーシランから試料搬出ステーションに対応する位
置まで移動させ、試料保持具の下段に保持されている処
理済みの試料を試料搬出ステージ璽ンに渡す。その後、
試料保持具な上記方向と逆方向に移動させ、この間に、
試料保持具の上段優こ保持されている未処理の試料を試
料処理ステージ璽ンに渡す。このようにして、未処理の
試料の試料搬入ステーションと試料処理ステージ、ンと
の間での搬送と、処理済みの試料の試料処理ステーシラ
ンと試料搬出ステーシロンとの間での搬送とが一度の搬
送行程で実施される。
具の下段に保持させ、この状態で、試料保持具を試料処
理ステーシランから試料搬出ステーションに対応する位
置まで移動させ、試料保持具の下段に保持されている処
理済みの試料を試料搬出ステージ璽ンに渡す。その後、
試料保持具な上記方向と逆方向に移動させ、この間に、
試料保持具の上段優こ保持されている未処理の試料を試
料処理ステージ璽ンに渡す。このようにして、未処理の
試料の試料搬入ステーションと試料処理ステージ、ンと
の間での搬送と、処理済みの試料の試料処理ステーシラ
ンと試料搬出ステーシロンとの間での搬送とが一度の搬
送行程で実施される。
以下、本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。
る。
第１図で、試料搬送手段は、この場合、回動して試料１
０を搬送するアーム搬送装置四である。アーム搬送装！
！美は、駆動装Ｗ１２１と軸ｎとアーム田と試料ｌＯを
２段に分けてそれぞれの周辺部を裏面からす（って保持
可能な試料保持具スとで構成されている。駆動装ＷＩＩ
２１には、袖ｎが連接されている。軸２２＋こは、アー
ム田の一端が設けられている。
０を搬送するアーム搬送装置四である。アーム搬送装！
！美は、駆動装Ｗ１２１と軸ｎとアーム田と試料ｌＯを
２段に分けてそれぞれの周辺部を裏面からす（って保持
可能な試料保持具スとで構成されている。駆動装ＷＩＩ
２１には、袖ｎが連接されている。軸２２＋こは、アー
ム田の一端が設けられている。
アームるの他端には、試料保持具Ｕが、この場合、試料
１０を略水平に保持可能に設けられている。
１０を略水平に保持可能に設けられている。
第１図、第２図で、試料搬入ステーシランＩ。
試料処理ステーション和並びに試料搬出ステーション５
０が試料保持具為の回動軌跡上に順次配置されている。
０が試料保持具為の回動軌跡上に順次配置されている。
試料搬入ステージ冒ン美は、試料保持具冴との間で試料
１０の受け渡しを行う試料受け渡し手段３１を有してい
る。試料受け渡し手段３１は、昇降駆動装置炬と軸郭と
テーブルあとで構成されている。昇降駆動装置ｆｆ ３
２には、軸郭が連接されている。軸おには、テーブル調
が略水平に設けられている。テーブルあの大きさは、試
料保持具スとの間での試料１０の受け渡しを阻害しない
大きさとなっている。試料処理ステージ、ン荀は、試料
１０を、例えば、プラズマを利用してエツチング処理す
るものであり、試料保持具スとの間で試料ｌＯの受け渡
しを行う試料受け渡し手段４１を有している。
１０の受け渡しを行う試料受け渡し手段３１を有してい
る。試料受け渡し手段３１は、昇降駆動装置炬と軸郭と
テーブルあとで構成されている。昇降駆動装置ｆｆ ３
２には、軸郭が連接されている。軸おには、テーブル調
が略水平に設けられている。テーブルあの大きさは、試
料保持具スとの間での試料１０の受け渡しを阻害しない
大きさとなっている。試料処理ステージ、ン荀は、試料
１０を、例えば、プラズマを利用してエツチング処理す
るものであり、試料保持具スとの間で試料ｌＯの受け渡
しを行う試料受け渡し手段４１を有している。
試料受け渡し手段４１は、昇降駆動装置４２と軸招とテ
ーブル材とで構成されている。昇降駆動装置４２には、
軸心が連接されている。軸ぐには、テーブル材が略水平
に設けられている。テーブル材の大きさは、試料保持具
冴との間での試料１０の受け渡しを阻害しない大きさと
なっている。また、この場合、軸心は、試料台柘内を昇
降動可能に設けられ、テーブル材は、試料台６内に収容
可能になりでいる。試料台６は、プラズマを利用してエ
ツチング処理される試料１０が被処理面上向姿勢で略水
平に設置可能なものとなっている。試料搬出ステージ冒
ン関は、試料保持具Ｕとの間で試料１０の受け渡しを行
う試料受け渡し手段５１を有している。
ーブル材とで構成されている。昇降駆動装置４２には、
軸心が連接されている。軸ぐには、テーブル材が略水平
に設けられている。テーブル材の大きさは、試料保持具
冴との間での試料１０の受け渡しを阻害しない大きさと
なっている。また、この場合、軸心は、試料台柘内を昇
降動可能に設けられ、テーブル材は、試料台６内に収容
可能になりでいる。試料台６は、プラズマを利用してエ
ツチング処理される試料１０が被処理面上向姿勢で略水
平に設置可能なものとなっている。試料搬出ステージ冒
ン関は、試料保持具Ｕとの間で試料１０の受け渡しを行
う試料受け渡し手段５１を有している。
試料受け渡し手段５１は、昇降駆動装置５２と軸郭とテ
ーブル９とで構成されている。昇降駆動装ｆｉｔ ５２
には、軸郭が連接されている。軸郭には、テーブルヌが
略水平に設けられている。テーブルヌの大きさは、試料
保持具スとの間での試料１０の受け渡しを阻害しない大
きさとなっている。
ーブル９とで構成されている。昇降駆動装ｆｉｔ ５２
には、軸郭が連接されている。軸郭には、テーブルヌが
略水平に設けられている。テーブルヌの大きさは、試料
保持具スとの間での試料１０の受け渡しを阻害しない大
きさとなっている。
第１ｒｇＪ、第２図で、テーブルあには、未処理の試料
ｌＯが渡されて載置される。この状態で、テーブルあは
、試料保持具為との間で試料１０を受け渡し可能な位置
、この場合、試料保持具あの上段に試料１０を渡し可能
な位置まで昇降駆動装置３１により上昇させられる。そ
の後、試料保持具列は、テーブル又と対応する位置まで
駆動装置２１により移動させられる。その後、テーブル
λを昇降部＃装置３１１こより下降させることで、実処
理の試料１０はテーブル具から試料保持具スに渡されて
、その上段に保持される。一方、試料処理ステージ璽ン
菊で処理済みの試料１０は、テーブル材を昇降駆動袋５
！４２により上昇させることで、試料台６からテーブル
材に渡され、この状態で、テーブル材は、試料保持具ス
との間で処理済みの試料１０を受け渡し可能な装置、こ
の場合、試料保持具列の下段に試料１０を渡し可能な位
置まで昇降駆動装置１ｉ４２により更に上昇させられる
。上段に未処理の試料ｌＯを保持した試料保持具Ｕは、
テーブル材と対応する位置まで駆動装置！２１により移
動させられる。その後。
ｌＯが渡されて載置される。この状態で、テーブルあは
、試料保持具為との間で試料１０を受け渡し可能な位置
、この場合、試料保持具あの上段に試料１０を渡し可能
な位置まで昇降駆動装置３１により上昇させられる。そ
の後、試料保持具列は、テーブル又と対応する位置まで
駆動装置２１により移動させられる。その後、テーブル
λを昇降部＃装置３１１こより下降させることで、実処
理の試料１０はテーブル具から試料保持具スに渡されて
、その上段に保持される。一方、試料処理ステージ璽ン
菊で処理済みの試料１０は、テーブル材を昇降駆動袋５
！４２により上昇させることで、試料台６からテーブル
材に渡され、この状態で、テーブル材は、試料保持具ス
との間で処理済みの試料１０を受け渡し可能な装置、こ
の場合、試料保持具列の下段に試料１０を渡し可能な位
置まで昇降駆動装置１ｉ４２により更に上昇させられる
。上段に未処理の試料ｌＯを保持した試料保持具Ｕは、
テーブル材と対応する位置まで駆動装置！２１により移
動させられる。その後。
テーブルＩを昇降駆動装置４２１こより下降させること
で、処理済みの試料１０は、テーブル材から試料保持具
列に渡されて、その下段に保持される。その後、この状
態で、試料保持具列は、試料搬出ステージ叢ン父のテー
ブル９と対応する位置まで駆動装置２１により更に移動
させられる。その後、テーブルＩを昇降駆動袋ＷＬ５２
により上昇させることで、この間に、試料保持具列の下
段に保持された処理済みの試料１０は、テーブル図に渡
される。このテーブル具の上昇は、試料保持具スの上段
での未処理の試料１０の保持な阻害しない位置で停止さ
れる。テーブル８に処理済みの試料１０を渡した試料保
持具スは、今度は、逆に、試料処理ステージ冒ン旬のテ
ーブル材と対応する位置に向って移動させられる。一方
、テーブル具に渡された処理済みの試料１０は、この状
態若しくは下降させられて、例えば、公知の搬送手段に
渡されて搬出される。
で、処理済みの試料１０は、テーブル材から試料保持具
列に渡されて、その下段に保持される。その後、この状
態で、試料保持具列は、試料搬出ステージ叢ン父のテー
ブル９と対応する位置まで駆動装置２１により更に移動
させられる。その後、テーブルＩを昇降駆動袋ＷＬ５２
により上昇させることで、この間に、試料保持具列の下
段に保持された処理済みの試料１０は、テーブル図に渡
される。このテーブル具の上昇は、試料保持具スの上段
での未処理の試料１０の保持な阻害しない位置で停止さ
れる。テーブル８に処理済みの試料１０を渡した試料保
持具スは、今度は、逆に、試料処理ステージ冒ン旬のテ
ーブル材と対応する位置に向って移動させられる。一方
、テーブル具に渡された処理済みの試料１０は、この状
態若しくは下降させられて、例えば、公知の搬送手段に
渡されて搬出される。
また、試料保持具スは、試料ステージ冒ン荀のテーブル
材と対応する位置に達した時点で、その移動を停止され
る。この状態で、テーブル４４は昇降駆動装置４２によ
り上昇させられ、この間に、試料保持具スの上段に保持
された未処理の試料１０は、テーブル材に渡される。テ
ーブル材に試料１０を渡した試料保持具スは、試料搬入
ステージ豐ンＩに向って移動させられ、試料搬入ステー
ジ璽ン菊でのテーブル調への未処理の試料１０の載置を
阻害しない位置で待機させられる。一方、テーブル材に
渡された未処理の試料１０は、テーブル材を昇降駆動袋
＠４２によりテーブル材が試料台６に収容されるまで下
降させることで、テーブル材から試料台柘に渡される。
材と対応する位置に達した時点で、その移動を停止され
る。この状態で、テーブル４４は昇降駆動装置４２によ
り上昇させられ、この間に、試料保持具スの上段に保持
された未処理の試料１０は、テーブル材に渡される。テ
ーブル材に試料１０を渡した試料保持具スは、試料搬入
ステージ豐ンＩに向って移動させられ、試料搬入ステー
ジ璽ン菊でのテーブル調への未処理の試料１０の載置を
阻害しない位置で待機させられる。一方、テーブル材に
渡された未処理の試料１０は、テーブル材を昇降駆動袋
＠４２によりテーブル材が試料台６に収容されるまで下
降させることで、テーブル材から試料台柘に渡される。
本実施例では、未処理の試料の試料搬入ステージ冒ンと
試料処理ステージ璽ンとの間での搬送と、試料処理ステ
ージ覆ンと試料搬出ステーシロンとの間での処理済の試
料の搬送とを一度の搬送行程で実施できるため、試料搬
送における無駄な時間を排除でき試料搬送に要する時間
を短縮してスループットを向上させることができる。
試料処理ステージ璽ンとの間での搬送と、試料処理ステ
ージ覆ンと試料搬出ステーシロンとの間での処理済の試
料の搬送とを一度の搬送行程で実施できるため、試料搬
送における無駄な時間を排除でき試料搬送に要する時間
を短縮してスループットを向上させることができる。
なお、本実施例では、試料搬送手段を回動して試料を搬
送する手段としているが、例えば、直線的に往復動じて
試料を搬送するようなものであっても問題なく適用でき
る。また、試料保持具としては、この他に、試料の周辺
部を把握して保持するようなものであっても良く、試料
の周辺部を吸着して保持するようなものであっても良い
。
送する手段としているが、例えば、直線的に往復動じて
試料を搬送するようなものであっても問題なく適用でき
る。また、試料保持具としては、この他に、試料の周辺
部を把握して保持するようなものであっても良く、試料
の周辺部を吸着して保持するようなものであっても良い
。
本発明によれば、試料搬入ステージ首ンと試料処理ステ
ージ璽ンとの間での試料の搬送と、試料処理ステージ曹
ンと試料搬出ステージ曹ンとの間での試料の搬送とを一
度の搬送行程で実施できるので、試料搬送における無駄
な時間を排除でき試料搬送に要する時間を短縮してスル
ープットな向上できるという効果がある。
ージ璽ンとの間での試料の搬送と、試料処理ステージ曹
ンと試料搬出ステージ曹ンとの間での試料の搬送とを一
度の搬送行程で実施できるので、試料搬送における無駄
な時間を排除でき試料搬送に要する時間を短縮してスル
ープットな向上できるという効果がある。
第１図は、本発明の一実施例の真空処理装置の要部正面
図、第２図は、同じく平面図である。
図、第２図は、同じく平面図である。
Claims (1)
- １、試料を少なくとも２段に分けて保持可能な試料保持
具を有する試料搬送手段と、前記試料保持具の移動軌跡
上に配置され該保持具との間で前記試料の受け渡しを行
う試料受渡し手段を有する試料搬入ステーション、試料
処理ステーション並びに試料搬出ステーションとを具備
したことを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195786A JPS62181439A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195786A JPS62181439A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62181439A true JPS62181439A (ja) | 1987-08-08 |
| JPH03784B2 JPH03784B2 (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=12069543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2195786A Granted JPS62181439A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62181439A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59182932U (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-06 | 不二越機械工業株式会社 | ウエハ−搬送装置 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP2195786A patent/JPS62181439A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59182932U (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-06 | 不二越機械工業株式会社 | ウエハ−搬送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03784B2 (ja) | 1991-01-08 |
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