JPS62180946A - 電子ビ−ム・パルスゲ−ト - Google Patents
電子ビ−ム・パルスゲ−トInfo
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- JPS62180946A JPS62180946A JP61020586A JP2058686A JPS62180946A JP S62180946 A JPS62180946 A JP S62180946A JP 61020586 A JP61020586 A JP 61020586A JP 2058686 A JP2058686 A JP 2058686A JP S62180946 A JPS62180946 A JP S62180946A
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 102000005840 alpha-Galactosidase Human genes 0.000 description 1
- 108010030291 alpha-Galactosidase Proteins 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229940033685 beano Drugs 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔1既 要〕
本発明は、電子ビームを偏向してプランキングアバーチ
、1・孔F IA切らU・るごとによって所定周期T、
。の電子ビーム・パルスを発生する電子ビーム・パルス
ゲ−1〜であり、電子ビーム・パルスの発生り・イミン
グ以外の期間においては前記周期T6.より短い周期T
で、電子ビームがブランキング・アパーチャ孔を中心に
してブランキング・アパーチャ上を方形状に対称に回転
走査するように偏向器に対して偏向電圧を供給する手段
を有することにより、電子ビームの照射によるブランキ
ング・アパーチャ上の汚れがブランキング・アパーチャ
孔に対して非対称に付着することを防ぎ、該汚れ部う)
がチャージ・アップして、電子ビームが不安定になるこ
とを避けることができる電子ビーム・パルスゲルトであ
る。
、1・孔F IA切らU・るごとによって所定周期T、
。の電子ビーム・パルスを発生する電子ビーム・パルス
ゲ−1〜であり、電子ビーム・パルスの発生り・イミン
グ以外の期間においては前記周期T6.より短い周期T
で、電子ビームがブランキング・アパーチャ孔を中心に
してブランキング・アパーチャ上を方形状に対称に回転
走査するように偏向器に対して偏向電圧を供給する手段
を有することにより、電子ビームの照射によるブランキ
ング・アパーチャ上の汚れがブランキング・アパーチャ
孔に対して非対称に付着することを防ぎ、該汚れ部う)
がチャージ・アップして、電子ビームが不安定になるこ
とを避けることができる電子ビーム・パルスゲルトであ
る。
本発明は、ブランキング・アパーチャを用いて電子ビー
ム・パルスを発生する電子ビーム・パルスゲート鏡に1
系り、特に電子ビーム・パルスの発生時以外の期間は、
電子ビームがブランキングアパーチャ孔の周囲に対称に
照射されるようにすることにより安定な電子ビームを得
ることのできる電子ビーム・パルスゲートに関する。
ム・パルスを発生する電子ビーム・パルスゲート鏡に1
系り、特に電子ビーム・パルスの発生時以外の期間は、
電子ビームがブランキングアパーチャ孔の周囲に対称に
照射されるようにすることにより安定な電子ビームを得
ることのできる電子ビーム・パルスゲートに関する。
ストロボ電子ビーム装置などの電子ビーム・プローハに
おいて、高速電圧波形の観測のために、ICの周期動作
に同期して電子ビーム・パルスを発生する電子ビーム・
パルスゲートが用いられている。
おいて、高速電圧波形の観測のために、ICの周期動作
に同期して電子ビーム・パルスを発生する電子ビーム・
パルスゲートが用いられている。
従来の電子ビーム・パルスゲ−1・は、第4図に示すよ
うに主偏向器と副偏向器の2つの直交する静電偏向器を
用いて、電子ビームがブランキング・アパーチャ上で同
図に示すように方形状に走査されるように偏向し、電子
ビームがブランキング・アパーチャ孔を横切る瞬間に電
子ビーム・パルスを発生するものである。即ち、主、副
番偏向器に各々第5図に示すような主、副台偏向電圧を
供給することにより、各時間L1〒taにおいてブラン
キング・アパーチャ上の電子ビームviIt跡が第4図
のようになり、時刻t2oにおいて電子ビーム・パルス
を発生ずるものである。上記各偏向電圧の周期及び位相
を、被測定rCの周期動作に同期するように制御するこ
とによって、最適な電子ビーム・パルスを得ることがで
きる。
うに主偏向器と副偏向器の2つの直交する静電偏向器を
用いて、電子ビームがブランキング・アパーチャ上で同
図に示すように方形状に走査されるように偏向し、電子
ビームがブランキング・アパーチャ孔を横切る瞬間に電
子ビーム・パルスを発生するものである。即ち、主、副
番偏向器に各々第5図に示すような主、副台偏向電圧を
供給することにより、各時間L1〒taにおいてブラン
キング・アパーチャ上の電子ビームviIt跡が第4図
のようになり、時刻t2oにおいて電子ビーム・パルス
を発生ずるものである。上記各偏向電圧の周期及び位相
を、被測定rCの周期動作に同期するように制御するこ
とによって、最適な電子ビーム・パルスを得ることがで
きる。
〔発明が1%!!決しようとする問題点〕上2 従来の
電子ビーム・パルスゲ−1へにおいては、ブランキング
・アパーチャ上の電子ビームが照射される部分には、第
・[図に示すように電子ビーム1lilc跡上にコンタ
ミと呼ばれる炭化水素の汚れが付着する。そしてこの汚
れは、同図よりわかるようにブランキング・アパーチャ
孔に対して非対称に付着する。そのため、その部分がチ
ャージ。
電子ビーム・パルスゲ−1へにおいては、ブランキング
・アパーチャ上の電子ビームが照射される部分には、第
・[図に示すように電子ビーム1lilc跡上にコンタ
ミと呼ばれる炭化水素の汚れが付着する。そしてこの汚
れは、同図よりわかるようにブランキング・アパーチャ
孔に対して非対称に付着する。そのため、その部分がチ
ャージ。
アップすることによってその静電力で電子ビームが不安
定になりやすいという問題点を有していた。
定になりやすいという問題点を有していた。
本発明は上記問題点を除くために、電子ビーム・パルス
の発生時以外の期間は、電子ビームがブランキング・ア
パーチャ孔に対して方形状に対称に照射されるようにす
ることにより、汚れを対称に付着させ、安定な電子ビー
ムを得ることのてきる電子ビーJ・・パルスゲートを提
供することを目的とする。
の発生時以外の期間は、電子ビームがブランキング・ア
パーチャ孔に対して方形状に対称に照射されるようにす
ることにより、汚れを対称に付着させ、安定な電子ビー
ムを得ることのてきる電子ビーJ・・パルスゲートを提
供することを目的とする。
本発明は上記問題点を解決すbノこ、7完3二、偏向手
段(1,2,3)の他に、り17ノタ爾冨(l l l
)の1/(整数)倍の周1υ](T)・訃酊−J−るク
ロック(81)を発生するていイき器(8)と、該クロ
ック(81)に従って電子ビーム(14)が前記周期(
T)で前記ブランキング・アパーチャ孔(11)を中心
にして前記ブランキー二・グ・アノぐ一チャ(4)−]
二を方形法に;<4 flFに走査ず乙ように前記各偏
向1段<1.2)に′、!、1って(偏向電圧(51゜
61)を供給すZ) I偏向電圧発生手段(5、6、9
)と、 前記ディレ・イl〜・クロック(l L 1)↓こ従−
1て前記電子ビーム(14)かl)行記周期(T、、1
1)で前記ブランキング・アパーチャ孔(41)を横切
L1:うに前記偏向手段(3)にり1して偏向電圧(7
1)を供給す・b偏向電工発」二丁段+7.+0)と二
によって構成さ4′Lる。
段(1,2,3)の他に、り17ノタ爾冨(l l l
)の1/(整数)倍の周1υ](T)・訃酊−J−るク
ロック(81)を発生するていイき器(8)と、該クロ
ック(81)に従って電子ビーム(14)が前記周期(
T)で前記ブランキング・アパーチャ孔(11)を中心
にして前記ブランキー二・グ・アノぐ一チャ(4)−]
二を方形法に;<4 flFに走査ず乙ように前記各偏
向1段<1.2)に′、!、1って(偏向電圧(51゜
61)を供給すZ) I偏向電圧発生手段(5、6、9
)と、 前記ディレ・イl〜・クロック(l L 1)↓こ従−
1て前記電子ビーム(14)かl)行記周期(T、、1
1)で前記ブランキング・アパーチャ孔(41)を横切
L1:うに前記偏向手段(3)にり1して偏向電圧(7
1)を供給す・b偏向電工発」二丁段+7.+0)と二
によって構成さ4′Lる。
[作 用]
」−5己下段において、てい倍器(8)からのり1コツ
ク(81)に従って動作する偏向電圧発生手段(5、6
、9)乙こより、偏向手段(1,2)が’f、J+作し
、それにより電子ビーム(14)は、電子ビーム・パル
ス(15)の発生周期(TEB)より短い周期(T)毎
に、ブランキング・アパーチャ孔(41)を中心にして
ブランキング・アパーチャ (1)上!方形状に対称に
走査される。こ;′)7によりツ、コンタミの汚れも上
記すし跡に沿って対称ごこ側管するため、その/ちa部
分のチ5ヤ・−ジ・アノ1“。
ク(81)に従って動作する偏向電圧発生手段(5、6
、9)乙こより、偏向手段(1,2)が’f、J+作し
、それにより電子ビーム(14)は、電子ビーム・パル
ス(15)の発生周期(TEB)より短い周期(T)毎
に、ブランキング・アパーチャ孔(41)を中心にして
ブランキング・アパーチャ (1)上!方形状に対称に
走査される。こ;′)7によりツ、コンタミの汚れも上
記すし跡に沿って対称ごこ側管するため、その/ちa部
分のチ5ヤ・−ジ・アノ1“。
乙こよ乙電子ビーム(14)への7口;よ最小I】[シ
こIrl+えろことができ乙。
こIrl+えろことができ乙。
また、上記v)作中において、ディレーイトり〒゛で、
・り(111)に従−って動作する偏向電圧発生手段(
7,10)により、周期(”c、)’fびに偏向手段(
3)が・動作し、その時の・2ノ電子ビーム(14)が
ブランキング・アパー−エーヤ孔(、il)を1貴切り
、電子ビーム・パルス(15)が発生する。
・り(111)に従−って動作する偏向電圧発生手段(
7,10)により、周期(”c、)’fびに偏向手段(
3)が・動作し、その時の・2ノ電子ビーム(14)が
ブランキング・アパー−エーヤ孔(、il)を1貴切り
、電子ビーム・パルス(15)が発生する。
(発明の実施レリ〕
以下、本発明の実施例につき詳細に説明をi〒ろ。
(電子ビーム・パルスゲ−1−の構成(第111m)
)第1図は、本発明による電子ビーム・パルスゲートの
構成図である。電子ビーム14の光軸16に沿って第3
偏向器3、第2偏向器2、第1偏向器1、及び光軸位置
にブランキング・アパーチャ孔41を有す・Sブランキ
ング・アバ−チー1−4が配置され、その下方に彼〆則
定1c13が置かれる。
)第1図は、本発明による電子ビーム・パルスゲートの
構成図である。電子ビーム14の光軸16に沿って第3
偏向器3、第2偏向器2、第1偏向器1、及び光軸位置
にブランキング・アパーチャ孔41を有す・Sブランキ
ング・アバ−チー1−4が配置され、その下方に彼〆則
定1c13が置かれる。
第1偏向器1と第2偏向器2ば、光軸16に直交する平
面内で互いにその偏向方向が直交するように配置され、
第2偏向器2と第3偏向器3は聞方1句に自装置される
。
面内で互いにその偏向方向が直交するように配置され、
第2偏向器2と第3偏向器3は聞方1句に自装置される
。
一方、被測定ICl3はLSIドライノ\12からのク
ロックによって駆動され、間しくその出力であるクロッ
ク121はディレィ・ユニット11に入力し、ディレィ
・ユニット11の出力のディレ、イF・クロック111
ばてい倍器8に入力す乙とど共に、固定ディレィ10を
介して第3偏向器1ラーイバ7に入力する。てい(im
器8の出力のてし)脩器出力81は第1偏向:1ビ1−
ラ・1′ノ\5に入力すると共に、固定y2イレ・イ9
0を介して第2偏向器1−ラ、イハGに人力する。第1
、第2、及び第3偏向皿1う・イハ5,6.及び7の出
力の第1、第2、及び第3偏向電工51.61.及び7
1シよ、各々第1、第2、及び第3偏向器1,2、及び
3 (各々j″+’ U川は了−ソ、に1妄を火され−
こい)ン を駆りJする。
ロックによって駆動され、間しくその出力であるクロッ
ク121はディレィ・ユニット11に入力し、ディレィ
・ユニット11の出力のディレ、イF・クロック111
ばてい倍器8に入力す乙とど共に、固定ディレィ10を
介して第3偏向器1ラーイバ7に入力する。てい(im
器8の出力のてし)脩器出力81は第1偏向:1ビ1−
ラ・1′ノ\5に入力すると共に、固定y2イレ・イ9
0を介して第2偏向器1−ラ、イハGに人力する。第1
、第2、及び第3偏向皿1う・イハ5,6.及び7の出
力の第1、第2、及び第3偏向電工51.61.及び7
1シよ、各々第1、第2、及び第3偏向器1,2、及び
3 (各々j″+’ U川は了−ソ、に1妄を火され−
こい)ン を駆りJする。
(電子ビーノ、・パルスゲ−1・の動作(第1図〜第3
図)) 次に、上記構成の電子ビーム・パルスゲ−1−のシJ作
につき、第2図の動作り・イミングチヤード、及び第3
図の説明図を用いて説明を行う。まず、L S I )
う・イハ12は被測定ICl3を駆動し、その周期動作
に同期して第2図に示すように周期T t: 11のク
ロック121が出力される。次に、クロック121はデ
ィレィ・ユニ/1−11において所定位相だ!3 ’1
1れを持たされ、同じ周期T1□を有するディレイド
クロ、り111を発生ずる。
図)) 次に、上記構成の電子ビーム・パルスゲ−1−のシJ作
につき、第2図の動作り・イミングチヤード、及び第3
図の説明図を用いて説明を行う。まず、L S I )
う・イハ12は被測定ICl3を駆動し、その周期動作
に同期して第2図に示すように周期T t: 11のク
ロック121が出力される。次に、クロック121はデ
ィレィ・ユニ/1−11において所定位相だ!3 ’1
1れを持たされ、同じ周期T1□を有するディレイド
クロ、り111を発生ずる。
この時の位(■遅れ皿は、被測定ICl3上の被測定点
の被観測位1目に合せて設定される。次に、ディレィl
゛・りl:J 、り111はてい倍器8に入力し、第2
図に示すように該ディレ・イド・クロック111の周3
1J]T、lIの1/4の周期Tを有するタロツクがて
い倍器出力81として出力される。
の被観測位1目に合せて設定される。次に、ディレィl
゛・りl:J 、り111はてい倍器8に入力し、第2
図に示すように該ディレ・イド・クロック111の周3
1J]T、lIの1/4の周期Tを有するタロツクがて
い倍器出力81として出力される。
以上のディレイド・り1コツク111又はてい15:[
÷出力81を括・′(ξにして、以下に示す第1・−・
第3偏向電圧3i 61.71が発生される。まず、
第1偏向器ドライバ5において、第2図に示すようにて
い倍器出力81にV?71期した第1偏向電圧51が発
生され、第1偏向皿1に供給される。次□に、てい倍器
出力81は固定ディレィ9においてT/・1だけ位相が
遅らされた後、第2偏向器ドライハロに入力する。この
結果、第2偏向器ドライ八Gにおいては第2図に示すよ
うに第1偏向電圧に対してT/4だり、J位相が遅れた
第2偏向電圧61が発生され、第2偏向器2に供給され
る。一方、ディレイド・クロック111は固定ディレィ
10においてT/4だけ位相が遅らされた後、第3偏向
器ドライバ7に入力する。この結果、第3偏向器ドライ
バ7においては第2図に示すように周期TIf、で第2
偏向電圧61が負になるタイミングに同期して、該第2
偏向電圧61による電子ビームの偏向を打ち消す正の第
3偏向電圧71が発生され、第3偏向器3に供給される
。なお、第1偏向電圧51と第2偏向電圧61の振幅V
51とV61は、それぞれによるブランキング・アパー
チャ4上の電子ビームの偏向量が等しくなる様に選び、
また第3偏向電圧71の振幅■・、1ば、ブランキング
・アパーチャ4上の電子ビームの偏向爪が第2偏向電圧
の振幅■、1によるそれと等しくなる劃に設定する。
÷出力81を括・′(ξにして、以下に示す第1・−・
第3偏向電圧3i 61.71が発生される。まず、
第1偏向器ドライバ5において、第2図に示すようにて
い倍器出力81にV?71期した第1偏向電圧51が発
生され、第1偏向皿1に供給される。次□に、てい倍器
出力81は固定ディレィ9においてT/・1だけ位相が
遅らされた後、第2偏向器ドライハロに入力する。この
結果、第2偏向器ドライ八Gにおいては第2図に示すよ
うに第1偏向電圧に対してT/4だり、J位相が遅れた
第2偏向電圧61が発生され、第2偏向器2に供給され
る。一方、ディレイド・クロック111は固定ディレィ
10においてT/4だけ位相が遅らされた後、第3偏向
器ドライバ7に入力する。この結果、第3偏向器ドライ
バ7においては第2図に示すように周期TIf、で第2
偏向電圧61が負になるタイミングに同期して、該第2
偏向電圧61による電子ビームの偏向を打ち消す正の第
3偏向電圧71が発生され、第3偏向器3に供給される
。なお、第1偏向電圧51と第2偏向電圧61の振幅V
51とV61は、それぞれによるブランキング・アパー
チャ4上の電子ビームの偏向量が等しくなる様に選び、
また第3偏向電圧71の振幅■・、1ば、ブランキング
・アパーチャ4上の電子ビームの偏向爪が第2偏向電圧
の振幅■、1によるそれと等しくなる劃に設定する。
上記第1〜第3偏向電圧51.61.71により、電子
ビーム14は第1.2.3の各偏向器1゜2.3により
ブランキング・アパーチャ4上で以下に示すように走査
される。即し、まず第2図のディレイド・クロック11
1がアクティブとなった直後の時刻taにおいては、第
2偏向電圧C1は正の一定電圧、第3偏向電圧7エはO
ボルトであり、第1偏向電圧51が正から負に変(ヒす
る。
ビーム14は第1.2.3の各偏向器1゜2.3により
ブランキング・アパーチャ4上で以下に示すように走査
される。即し、まず第2図のディレイド・クロック11
1がアクティブとなった直後の時刻taにおいては、第
2偏向電圧C1は正の一定電圧、第3偏向電圧7エはO
ボルトであり、第1偏向電圧51が正から負に変(ヒす
る。
これにより、電子ビーム14は第3図に示すようにブラ
ンキング・アパーチャ4上で、A点からB点に走査され
る。次に、第2図の時刻tbにおいては、第1偏向電圧
51は負の一定電圧であるが、第2偏向電圧61と第3
偏向電圧71による偏向とが打ち消しあうため、電子ビ
ーム14は第3図に示すようにブランキング・アパーチ
ャ4上で、B点から0点に走査される。続いて、第2図
の時刻tcにおいて、第1偏向電圧51が負から正にも
どるため、電子ビーム14は第3図の0点からD点に走
査される。これにより、電子ビーム14はブランキング
・アパーチャ孔41上を通過するためζこの瞬間に第2
図に示すように電子ビームパルス15 (第1図)が発
生され、被測定ICl3に照射される。次に、第2図の
時刻tdにおいて、第2偏向電圧61が負から正にもど
り、同時に第3偏向電圧71から正から負にもどるため
、電子ビーム14ば第3図のD点からA点に走査される
。
ンキング・アパーチャ4上で、A点からB点に走査され
る。次に、第2図の時刻tbにおいては、第1偏向電圧
51は負の一定電圧であるが、第2偏向電圧61と第3
偏向電圧71による偏向とが打ち消しあうため、電子ビ
ーム14は第3図に示すようにブランキング・アパーチ
ャ4上で、B点から0点に走査される。続いて、第2図
の時刻tcにおいて、第1偏向電圧51が負から正にも
どるため、電子ビーム14は第3図の0点からD点に走
査される。これにより、電子ビーム14はブランキング
・アパーチャ孔41上を通過するためζこの瞬間に第2
図に示すように電子ビームパルス15 (第1図)が発
生され、被測定ICl3に照射される。次に、第2図の
時刻tdにおいて、第2偏向電圧61が負から正にもど
り、同時に第3偏向電圧71から正から負にもどるため
、電子ビーム14ば第3図のD点からA点に走査される
。
以上のように、ディレイド・クロック111がアクティ
ブとなった直後のていイ3器出力81の最初の周期Tに
おいて、電子ビーム14は第3図に示すようにブランキ
ング・アパーチャ4上を、A−・r:、 L c−D−
Aと走査され、電子ビーム・パルス15が発生される。
ブとなった直後のていイ3器出力81の最初の周期Tに
おいて、電子ビーム14は第3図に示すようにブランキ
ング・アパーチャ4上を、A−・r:、 L c−D−
Aと走査され、電子ビーム・パルス15が発生される。
一方、上記周期Tに続(次のディレイド・クロック11
・lまでの3Tの各周期Tにおいては、第3偏向電圧は
印加されない。その結果、例えば第2図の時刻teにお
いて、電子ビーム14は第3図のA点からB点に走査さ
れた後、時刻rf(第2図)においては第3図の0点で
止らずB点からE点まで走査される。そして、時刻tg
、thにおいては、各々E点−・F点、F点−A点と走
査される。他の2周期においても同様である。
・lまでの3Tの各周期Tにおいては、第3偏向電圧は
印加されない。その結果、例えば第2図の時刻teにお
いて、電子ビーム14は第3図のA点からB点に走査さ
れた後、時刻rf(第2図)においては第3図の0点で
止らずB点からE点まで走査される。そして、時刻tg
、thにおいては、各々E点−・F点、F点−A点と走
査される。他の2周期においても同様である。
即ぢ、ディレ・イド・りIコック111がアクティブと
なった直後のていIIvJ器出力87の最初の周期T以
外の他の各回11JITにおいては、電子ビーム14は
第3図に示すように、ブランキング・アパーチャ4上に
A−B −E→F−Aと走査される。
なった直後のていIIvJ器出力87の最初の周期T以
外の他の各回11JITにおいては、電子ビーム14は
第3図に示すように、ブランキング・アパーチャ4上に
A−B −E→F−Aと走査される。
以上の動作の結果、電子ビーム・パルス15は周期Ta
8て発生され、その時のみ電子ビーム14はブランキン
グ・アパーチャ孔41上を通過する。そして、上記周期
T、I1間の大部分(3Tの期間)は、電子ビーム14
はブランキング・アパーチャ、壇上において、ブランキ
ング・アパーチャ孔・11に対して対称な方形の電子ビ
ームリを跡へ−B−・巳−□ F −” /\を11■
く。これにより、電子ビーム軌跡上の汚れ(コンクミ)
はほとんど上記Flt跡八−B−・E −F=Δ上に1
・1着する。このlT′iれ部分はチャージ・アップし
、その静電力が電子ビームI・1に↓コを及ぼずが、光
・1・dI15が通過すコブランキング・アパーエーヤ
孔[1にズlして:11称にlT′iれが細石している
ため、電子ビート、1 =iが一方向のみにΣ習を受′
wJることか少なく、結果的にビームが安定する。電子
ビームC−・D(第3図)は、4T周期のうちIT同周
期みにおいて短時間に通過する部分なので汚れが付着し
にくく、この部分のチャージ・アップが電子ビームト1
に及ぼす形響は少ない。
8て発生され、その時のみ電子ビーム14はブランキン
グ・アパーチャ孔41上を通過する。そして、上記周期
T、I1間の大部分(3Tの期間)は、電子ビーム14
はブランキング・アパーチャ、壇上において、ブランキ
ング・アパーチャ孔・11に対して対称な方形の電子ビ
ームリを跡へ−B−・巳−□ F −” /\を11■
く。これにより、電子ビーム軌跡上の汚れ(コンクミ)
はほとんど上記Flt跡八−B−・E −F=Δ上に1
・1着する。このlT′iれ部分はチャージ・アップし
、その静電力が電子ビームI・1に↓コを及ぼずが、光
・1・dI15が通過すコブランキング・アパーエーヤ
孔[1にズlして:11称にlT′iれが細石している
ため、電子ビート、1 =iが一方向のみにΣ習を受′
wJることか少なく、結果的にビームが安定する。電子
ビームC−・D(第3図)は、4T周期のうちIT同周
期みにおいて短時間に通過する部分なので汚れが付着し
にくく、この部分のチャージ・アップが電子ビームト1
に及ぼす形響は少ない。
以上のようにして電子ビーム14のドリフトと不安定性
を低減できる。なお、第3偏向器を使用せずに、第3G
向電圧71 (第2図)を第2偏向);■2の一方の偏
向阪に印加して打ち消すようにしてもよい。
を低減できる。なお、第3偏向器を使用せずに、第3G
向電圧71 (第2図)を第2偏向);■2の一方の偏
向阪に印加して打ち消すようにしてもよい。
本発明によれば、ブランキング・アバーチャ上の電子ビ
ームの走査による汚れをブランキング・アバーチ、l・
孔にり1して方形にり1称に付着、′:、d、−二とが
でき、そのブ・ヤーン・アップの:i?電力にょで〕電
子ビームの1:ノフj等の不安定1生を低1戒ざυ二・
ことができる。
ームの走査による汚れをブランキング・アバーチ、l・
孔にり1して方形にり1称に付着、′:、d、−二とが
でき、そのブ・ヤーン・アップの:i?電力にょで〕電
子ビームの1:ノフj等の不安定1生を低1戒ざυ二・
ことができる。
第1図は、本発明による電子ビート・パルスr゛−1−
の構成図、 72図は、本発明による電子−ビーム・パルス1ノー゛
−hの動作タイミングチャート1 、 第3図は、ブランキング・アパーチャ」二の電子
ビーム執肋;の説明図、 第4図は、従来の電子ビーム・パルスゲ−1・の説明図
、 第5図は、従来の電子ビーム・パルスゲートの偏向電圧
波形図である。 1・・・第1偏向器、 2・・・第2偏向器、 3・・・第3偏向器、 4・・・フ゛ランキング・アバ−手中、5・・・第1偏
向z3ドライバ゛、 6・・・第2偏向器ドライバ、 7・・・第3偏向器ドライバ、 8・・・てい倍器、 9.10・・・固定ディレィ、 11 ・・ディレィ・ユニット、 12・・・LSIドライバ、 41・・・ブランキング・アパーチャ孔、51・・・第
1偏向電圧、 61・・・第2偏向電圧、 71・・・第31晶向電圧、 81・・・てい倍器出力、 111・・・ディレイド・クロック、 121・・・り1−Jツク。 ・1′F許出願人 富士通E:式会社フ゛つソキン
ク゛ヱパーチャ上の電子ヒ゛−ム帆跡のani第3図 ヒ14電ろじ−ム ′イ 第4図 二儒向電圧 従来の電4子と゛−ムリVルス’T″−トの4同電ゾ五
波形図第5図
の構成図、 72図は、本発明による電子−ビーム・パルス1ノー゛
−hの動作タイミングチャート1 、 第3図は、ブランキング・アパーチャ」二の電子
ビーム執肋;の説明図、 第4図は、従来の電子ビーム・パルスゲ−1・の説明図
、 第5図は、従来の電子ビーム・パルスゲートの偏向電圧
波形図である。 1・・・第1偏向器、 2・・・第2偏向器、 3・・・第3偏向器、 4・・・フ゛ランキング・アバ−手中、5・・・第1偏
向z3ドライバ゛、 6・・・第2偏向器ドライバ、 7・・・第3偏向器ドライバ、 8・・・てい倍器、 9.10・・・固定ディレィ、 11 ・・ディレィ・ユニット、 12・・・LSIドライバ、 41・・・ブランキング・アパーチャ孔、51・・・第
1偏向電圧、 61・・・第2偏向電圧、 71・・・第31晶向電圧、 81・・・てい倍器出力、 111・・・ディレイド・クロック、 121・・・り1−Jツク。 ・1′F許出願人 富士通E:式会社フ゛つソキン
ク゛ヱパーチャ上の電子ヒ゛−ム帆跡のani第3図 ヒ14電ろじ−ム ′イ 第4図 二儒向電圧 従来の電4子と゛−ムリVルス’T″−トの4同電ゾ五
波形図第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電子ビーム(14)の光軸(16)に沿って配置さ
れ該電子ビーム(14)を該光軸(16)に直交する平
面内の互いに直交する2方向に偏向を行う偏向手段(1
、2、3)と、 該偏向手段(1、2、3)の下方に配置されるブランキ
ング・アパーチャ孔(41)を有するブランキング・ア
パーチャ(4)と、 前記電子ビーム(14)が所定周期(T_E_B)の所
定位相で前記ブランキング・アパーチャ(4)上のブラ
ンキング・アパーチャ孔(41)を横切ることにより前
記所定周期(T_E_B)、所定位相で電子ビーム・パ
ルス(15)が発生し、かつ該電子ビーム・パルス(1
5)の発生タイミング以外の期間において前記周期(T
_E_B)より短い周期(T)で前記電子ビーム(14
)が前記ブランキング・アパーチャ孔(41)を中心に
して前記ブランキング・アパーチャ(4)上を方形状に
対称に回転走査されるように前記各偏向手段(1、2、
3)に対して偏向電圧(51、61、71)を供給する
偏向電圧発生手段(5〜12)を有することを特徴とす
る電子ビーム・パルスゲート。 2)前記偏向電圧発生手段(5〜12)は、クロック信
号(111)の1/(整数)倍の周期(T)を有するク
ロック(81)を発生するてい倍器(8)と、 該クロック(81)に従って前記電子ビーム(14)が
前記周期(T)で前記ブランキング・アパーチャ孔(4
1)を中心にして前記ブランキング・アパーチャ(4)
上を方形状に対称に走査するように前記偏向手段(1、
2)に対して偏向電圧(51、61)を供給する偏向電
圧発生手段(5、6、9)と、 前記ディレイド・クロック(111)に従って前記電子
ビーム(14)が前記周期(T_E_B)で前記ブラン
キング・アパーチャ孔(41)を横切るように前記偏向
手段(3)に対して偏向電圧(71)を供給する偏向電
圧発生手段(7、10)とによって構成されることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の電子ビーム・パル
スゲート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61020586A JPS62180946A (ja) | 1986-02-01 | 1986-02-01 | 電子ビ−ム・パルスゲ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61020586A JPS62180946A (ja) | 1986-02-01 | 1986-02-01 | 電子ビ−ム・パルスゲ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62180946A true JPS62180946A (ja) | 1987-08-08 |
Family
ID=12031333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61020586A Pending JPS62180946A (ja) | 1986-02-01 | 1986-02-01 | 電子ビ−ム・パルスゲ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62180946A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6483117B1 (en) | 1999-06-16 | 2002-11-19 | Nikon Corporation | Symmetric blanking for high stability in electron beam exposure systems |
EP1271502A2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electron beam recorder and method thereof |
EP3400608A4 (en) * | 2016-01-09 | 2019-08-21 | Kla-Tencor Corporation | THERMALLY DISTRIBUTED OCCULTATION SYSTEM FOR HIGH SPEED ELECTRON BEAM APPARATUS |
-
1986
- 1986-02-01 JP JP61020586A patent/JPS62180946A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6483117B1 (en) | 1999-06-16 | 2002-11-19 | Nikon Corporation | Symmetric blanking for high stability in electron beam exposure systems |
EP1271502A2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electron beam recorder and method thereof |
EP1271502A3 (en) * | 2001-06-22 | 2006-06-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electron beam recorder and method thereof |
EP3400608A4 (en) * | 2016-01-09 | 2019-08-21 | Kla-Tencor Corporation | THERMALLY DISTRIBUTED OCCULTATION SYSTEM FOR HIGH SPEED ELECTRON BEAM APPARATUS |
CN113990728A (zh) * | 2016-01-09 | 2022-01-28 | 科磊股份有限公司 | 用于高通量电子束设备的散热消隐系统 |
CN113990728B (zh) * | 2016-01-09 | 2024-03-26 | 科磊股份有限公司 | 用于高通量电子束设备的散热消隐系统 |
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