JPS62175365A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
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- JPS62175365A JPS62175365A JP61017250A JP1725086A JPS62175365A JP S62175365 A JPS62175365 A JP S62175365A JP 61017250 A JP61017250 A JP 61017250A JP 1725086 A JP1725086 A JP 1725086A JP S62175365 A JPS62175365 A JP S62175365A
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- light beam
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
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- Y10S414/137—Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔発明の技術分野〕
本発明は、半導体基板を保持容器から取り出して搬送し
たり、処理ずみの半導体基板を搬送して保持容器内に収
容する半導体基板搬送装置に関する。 〔発明の背景〕 半導体素子製造に用いられる半導体基板(以下単に「ウ
ェハ」と略称する。)は通常ウェハキャリアと称する保
持容器に複数牧人れて工程毎に搬送されて処理されるこ
とが多い。例えば、フォトリソグラフィ工程では、露光
装置の所定の位置までウェハキャリア内に収容されて運
ばれた複数のウェハは、そのウェハキャリアから一枚ず
つ取り出されて、露光装置光軸上へ搬送される。この場
合、その取出し方法の一つとして、搬送アームと呼ばれ
る板状の腕を用いてウェハキャリアからウェハを抜き取
る方法が知られている。この方法によれば、ウェハキャ
リア中の任意のウェハを取り出したり戻したりできるの
で、ウェハを頻繁に交換する必要のある半導体素子の製
造工程においては非常に都合が良い。 この場合、ウェハキャリアの両側壁に形成された複数の
棚(またはりに収納されたウェハとウェハとの間にその
搬送アームは挿入されるが、ウェハ間の間隙が通常3m
l11乃至9mm程度で狭いために、搬送アームがウェ
ハに接触する恐れが有る。 従って、搬送アームをウェハに接触すること無く挿入す
るためには、ウェハキャリアの棚間隔、ウェハ自身の厚
さ、搬送アームの挿入位置等に高い精度が要求されてい
た。さらに、ウェハがウェハキャリアの棚(または溝)
に正しく置かれていない場合や、搬送アームの挿入位置
がずれていたり、搬送アームが曲がっているような場合
には、その搬送アームの挿入途中で、ウェハの上面また
は下面に搬送アームが接触し、ゴミを発生させる原因と
なり、甚だしい場合にはウェハを破損させる恐れが有っ
た。 〔発明の目的〕 本発明は、上記従来装置における欠点を解決し、ウェハ
をウェハキャリアから安全に、しかも迅速且つ確実に取
り出したり戻したりできる半導体基板搬送装置を提供す
ることを目的とする。 C発明の概要〕 上記の目的を達成するために、本発明は、一方の表面と
他方の裏面とが所定の間隙をもって互いに重なるように
保持容器内に収容された複数の半導体基板を一枚ずつ取
り出して搬送する搬送アームは、その搬送アームの半導
体基板載置面に沿っせる光ビーム検出手段とを設け、前
記の保持器内の半導体基板間の間隙を貫通した光ビーム
をその光ビーム検出手段が検出するように構成して搬送
アームを保持容器に挿入すべき搬送アームと保持器との
相対位置を確認できるようにすることを技術的要点とす
るものである。 〔実施例〕 以下、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。 第1図は本発明の第1実施例の構成を示す説明図で、複
数のウェハ(第1図では5枚のウェハ1a〜1eを示す
。)を1枚ずつ収容する複数の棚2a、2b、2c、2
d、2e−を有するウェハキャリア2は、上下に移動可
能な昇降台3上の所定の位置に交換可能に載置されてい
る。その昇降台3は支柱6によって支持され、減速装置
を有するモータ8によって駆動されるギヤ4と噛み合う
歯形を内面に有するベルト5を介してガイド7に沿って
上下(矢印Zの方向)に移動するように構成されている
。 一方、ウェハ1a−1eを取り出すための搬送アーム1
1は、装置本体10に固定されたガイド12上を、昇降
台3の移動方向(Z方向)と直交する矢印Xの方向に摺
動するように設けられている。その搬送アーム11は、
昇降台3と同様なギヤとベルト(図示せず)によって駆
動され、第1図中で右方へ突設された板状の腕部11A
がウェハキャリア2内に挿入されるように構成されてい
る。また装置本体(10)の固定部(10A)には、上
下に位置を異にする2個の半導体レーザユニット13.
14が設けられ、そのレーザ光束13a、14aは、搬
送アーム11の摺動方向(X方向)とほぼ平行に直進す
るように構成されている。また、ウェハキャリア2に対
して、半導体レーザユニット13.14とは反対側の装
置本体10の固定部10Bには、4個の光電変換素子(
以下車に「受光素子」と略称する。)15A〜15Dが
、上下圧いに位置を異にして設けられ、2個の受光素子
15A、15Bは一方の半導体レーザユニット13のレ
ーザ光束13aを受光し、他の2個の受光素子15C,
15Dは他方の半導体レーザユニット14のレーザ光束
14aを受光するように構成されている。 なお、ウェハキャリア2の第1図中で左右両側面には蓋
が無く開放状態に置かれ、レーザ光束13a、14aが
ウェハキャリア2内を通過できるように構成されている
。また、第1図中で紙面に垂直な方向でウェハキャリア
2の右側の内面間隔はウェハ1a〜1eの直径より狭く
形成され、これにより、ウェハ1a−1eはウェハキャ
リア2の右側へは抜は落ちないように構成されている。 第2図は、レーザ光束によりウェハ間隙を検出する原理
を2)?、明するための説明図で、上下に位置する半導
体 ザユニット13.14は、それぞれ、半導体レー
ク’!3b、14bとコリメータレンズ13C114C
とから成り、コリメータレンズ13C,14Cによって
それぞれほぼ平行にされたレーザ光束13a、14aが
共に、例えばウェハIC11dの間隙を通るときは、第
2図
たり、処理ずみの半導体基板を搬送して保持容器内に収
容する半導体基板搬送装置に関する。 〔発明の背景〕 半導体素子製造に用いられる半導体基板(以下単に「ウ
ェハ」と略称する。)は通常ウェハキャリアと称する保
持容器に複数牧人れて工程毎に搬送されて処理されるこ
とが多い。例えば、フォトリソグラフィ工程では、露光
装置の所定の位置までウェハキャリア内に収容されて運
ばれた複数のウェハは、そのウェハキャリアから一枚ず
つ取り出されて、露光装置光軸上へ搬送される。この場
合、その取出し方法の一つとして、搬送アームと呼ばれ
る板状の腕を用いてウェハキャリアからウェハを抜き取
る方法が知られている。この方法によれば、ウェハキャ
リア中の任意のウェハを取り出したり戻したりできるの
で、ウェハを頻繁に交換する必要のある半導体素子の製
造工程においては非常に都合が良い。 この場合、ウェハキャリアの両側壁に形成された複数の
棚(またはりに収納されたウェハとウェハとの間にその
搬送アームは挿入されるが、ウェハ間の間隙が通常3m
l11乃至9mm程度で狭いために、搬送アームがウェ
ハに接触する恐れが有る。 従って、搬送アームをウェハに接触すること無く挿入す
るためには、ウェハキャリアの棚間隔、ウェハ自身の厚
さ、搬送アームの挿入位置等に高い精度が要求されてい
た。さらに、ウェハがウェハキャリアの棚(または溝)
に正しく置かれていない場合や、搬送アームの挿入位置
がずれていたり、搬送アームが曲がっているような場合
には、その搬送アームの挿入途中で、ウェハの上面また
は下面に搬送アームが接触し、ゴミを発生させる原因と
なり、甚だしい場合にはウェハを破損させる恐れが有っ
た。 〔発明の目的〕 本発明は、上記従来装置における欠点を解決し、ウェハ
をウェハキャリアから安全に、しかも迅速且つ確実に取
り出したり戻したりできる半導体基板搬送装置を提供す
ることを目的とする。 C発明の概要〕 上記の目的を達成するために、本発明は、一方の表面と
他方の裏面とが所定の間隙をもって互いに重なるように
保持容器内に収容された複数の半導体基板を一枚ずつ取
り出して搬送する搬送アームは、その搬送アームの半導
体基板載置面に沿っせる光ビーム検出手段とを設け、前
記の保持器内の半導体基板間の間隙を貫通した光ビーム
をその光ビーム検出手段が検出するように構成して搬送
アームを保持容器に挿入すべき搬送アームと保持器との
相対位置を確認できるようにすることを技術的要点とす
るものである。 〔実施例〕 以下、本発明の実施例を添付の図面に基づいて詳しく説
明する。 第1図は本発明の第1実施例の構成を示す説明図で、複
数のウェハ(第1図では5枚のウェハ1a〜1eを示す
。)を1枚ずつ収容する複数の棚2a、2b、2c、2
d、2e−を有するウェハキャリア2は、上下に移動可
能な昇降台3上の所定の位置に交換可能に載置されてい
る。その昇降台3は支柱6によって支持され、減速装置
を有するモータ8によって駆動されるギヤ4と噛み合う
歯形を内面に有するベルト5を介してガイド7に沿って
上下(矢印Zの方向)に移動するように構成されている
。 一方、ウェハ1a−1eを取り出すための搬送アーム1
1は、装置本体10に固定されたガイド12上を、昇降
台3の移動方向(Z方向)と直交する矢印Xの方向に摺
動するように設けられている。その搬送アーム11は、
昇降台3と同様なギヤとベルト(図示せず)によって駆
動され、第1図中で右方へ突設された板状の腕部11A
がウェハキャリア2内に挿入されるように構成されてい
る。また装置本体(10)の固定部(10A)には、上
下に位置を異にする2個の半導体レーザユニット13.
14が設けられ、そのレーザ光束13a、14aは、搬
送アーム11の摺動方向(X方向)とほぼ平行に直進す
るように構成されている。また、ウェハキャリア2に対
して、半導体レーザユニット13.14とは反対側の装
置本体10の固定部10Bには、4個の光電変換素子(
以下車に「受光素子」と略称する。)15A〜15Dが
、上下圧いに位置を異にして設けられ、2個の受光素子
15A、15Bは一方の半導体レーザユニット13のレ
ーザ光束13aを受光し、他の2個の受光素子15C,
15Dは他方の半導体レーザユニット14のレーザ光束
14aを受光するように構成されている。 なお、ウェハキャリア2の第1図中で左右両側面には蓋
が無く開放状態に置かれ、レーザ光束13a、14aが
ウェハキャリア2内を通過できるように構成されている
。また、第1図中で紙面に垂直な方向でウェハキャリア
2の右側の内面間隔はウェハ1a〜1eの直径より狭く
形成され、これにより、ウェハ1a−1eはウェハキャ
リア2の右側へは抜は落ちないように構成されている。 第2図は、レーザ光束によりウェハ間隙を検出する原理
を2)?、明するための説明図で、上下に位置する半導
体 ザユニット13.14は、それぞれ、半導体レー
ク’!3b、14bとコリメータレンズ13C114C
とから成り、コリメータレンズ13C,14Cによって
それぞれほぼ平行にされたレーザ光束13a、14aが
共に、例えばウェハIC11dの間隙を通るときは、第
2図
以上の如く、本発明によれば、搬送アームのウェハを載
置する腕部のウェハ載置面に沿って平行な光ビームを通
し、その光ビームを受光素子で検出するようにしたから
、その光ビームを触手として、ウェハ間隙および搬送ア
ームの異常のチェックを非接触で迅速且つ確実に行うこ
とができる利点が有る。
置する腕部のウェハ載置面に沿って平行な光ビームを通
し、その光ビームを受光素子で検出するようにしたから
、その光ビームを触手として、ウェハ間隙および搬送ア
ームの異常のチェックを非接触で迅速且つ確実に行うこ
とができる利点が有る。
第1図は本発明の第1の実施例を示す概略構成図で、第
2図は、第1図の要部をなす投光系と受光系の作用を説
明するための動作説明図、第3図は第2図の受光系の出
力信号を処理する電気回路図、第4図は第2図に示す動
作に基づいて前3図の電気回路によって得られる電気信
号図、第5図は、第1図における搬送アーム先端部と、
投光系および受光系との位置関係を示す拡大説明図、第
6図は第5図のA−A断面図、第7図はウェハの取り出
し動作を説明するためのフローチャート、第8図はウェ
ハをウェハキャリアへ収納する際の動作を説明するため
のフローチャート、第9図は本発明の第2の実施例を示
す構成図である。 〔主要部分の符号の説明〕 la〜1e−・−・−・ウェハ(半24 体M 板)2
・−・−ウェハキャリア(保持容器)3−・・・−・
−昇降台 11.51 −−−−−−−一搬送アーム11 A、
51 A −−−−−−−一腕部13、14、5 2
−−−−−−− 半導体レーザユニット(投光手段) 13a、14a、52 a 、 52 b −−−−−
−レーザ光束(光ビーム) 15A〜15D、54A、54B −・−・・−・受光
素子(光ビーム検出手段)
2図は、第1図の要部をなす投光系と受光系の作用を説
明するための動作説明図、第3図は第2図の受光系の出
力信号を処理する電気回路図、第4図は第2図に示す動
作に基づいて前3図の電気回路によって得られる電気信
号図、第5図は、第1図における搬送アーム先端部と、
投光系および受光系との位置関係を示す拡大説明図、第
6図は第5図のA−A断面図、第7図はウェハの取り出
し動作を説明するためのフローチャート、第8図はウェ
ハをウェハキャリアへ収納する際の動作を説明するため
のフローチャート、第9図は本発明の第2の実施例を示
す構成図である。 〔主要部分の符号の説明〕 la〜1e−・−・−・ウェハ(半24 体M 板)2
・−・−ウェハキャリア(保持容器)3−・・・−・
−昇降台 11.51 −−−−−−−一搬送アーム11 A、
51 A −−−−−−−一腕部13、14、5 2
−−−−−−− 半導体レーザユニット(投光手段) 13a、14a、52 a 、 52 b −−−−−
−レーザ光束(光ビーム) 15A〜15D、54A、54B −・−・・−・受光
素子(光ビーム検出手段)
Claims (3)
- (1)一方の表面と他方の裏面とが所定の間隙をもって
互いに重なるように保持容器内に収容された複数の半導
体基板を任意に一枚ずつ取り出して搬送する搬送アーム
と、該搬送アームの半導体基板載置面に沿って平行な光
ビームを前記保持器内に投射する投光手段と、前記光ビ
ームを受光して光電変換させる光ビーム検出手段とを設
け、前記保持器内の半導体基板間の前記間隙を貫通した
前記光ビームを前記光ビーム検出手段が検出するように
構成したことを特徴とする半導体基板用搬送アーム装置
。 - (2)前記光ビーム検出手段は、前記光ビーム(13a
、14a、52a、52b)を前記ウェハが互いに重ね
合わされる方向に2つに分割して受光するように2個1
対の受光素子(15A、15B、15C、15D、54
A、54B)から成ることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体基板用搬送アーム装置。 - (3)前記投光手段は、前記装置本体(10)の固定部
(10A)上に設けられ、前記光ビーム検出手段は、前
記ウェハ保持容器(2)に対して前記搬送アーム(11
)とは反対側に固設されるかまたは、該反対側に設けら
れた反射部材(53)にて反射された反射ビーム(52
b)を受光するように前記投光手段(52)とは前記腕
部(51A)に関して反対側の前記装置本体(10)の
固定部(10A)上に設けられていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体基板用
搬送アーム装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61017250A JPH07115773B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 基板搬送装置 |
US07/007,190 US4803373A (en) | 1986-01-29 | 1987-01-27 | Conveyor arm apparatus with gap detection |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61017250A JPH07115773B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62175365A true JPS62175365A (ja) | 1987-08-01 |
JPH07115773B2 JPH07115773B2 (ja) | 1995-12-13 |
Family
ID=11938703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61017250A Expired - Lifetime JPH07115773B2 (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 基板搬送装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4803373A (ja) |
JP (1) | JPH07115773B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01144647A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウエハ計数装置 |
JPH02198926A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-07 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カセット内のウェハ取出し制御方式 |
US6474925B1 (en) * | 1998-02-16 | 2002-11-05 | Gilles Leroux S.A. | Linear personalization machine |
CN114988006A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-09-02 | 歌尔科技有限公司 | 物料自动存取设备 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2539447B2 (ja) * | 1987-08-12 | 1996-10-02 | 株式会社日立製作所 | 枚葉キャリアによる生産方法 |
JPH062348Y2 (ja) * | 1988-02-15 | 1994-01-19 | オムロン株式会社 | 反射型光電スイッチ |
US4954721A (en) * | 1988-03-30 | 1990-09-04 | Tel Sagami Limited | Apparatus for detecting an array of wafers |
US5277539A (en) * | 1988-09-30 | 1994-01-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate conveying apparatus |
US5003188A (en) * | 1988-11-18 | 1991-03-26 | Tokyo Aircraft Instrument Co., Ltd. | Semiconductor waxer detection system |
US4978845A (en) * | 1989-09-28 | 1990-12-18 | Dynetics Engineering Corporation | Card counter with self-adjusting card loading assembly and method |
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