JPS62172813A - 半導体リレ−回路 - Google Patents

半導体リレ−回路

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JPS62172813A
JPS62172813A JP61014516A JP1451686A JPS62172813A JP S62172813 A JPS62172813 A JP S62172813A JP 61014516 A JP61014516 A JP 61014516A JP 1451686 A JP1451686 A JP 1451686A JP S62172813 A JPS62172813 A JP S62172813A
Authority
JP
Japan
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terminal
voltage
terminals
switching element
current
Prior art date
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Pending
Application number
JP61014516A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Arakawa
雅夫 荒川
Tomizo Terasawa
富三 寺澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP61014516A priority Critical patent/JPS62172813A/ja
Publication of JPS62172813A publication Critical patent/JPS62172813A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/04Modifications for accelerating switching

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術骨II′F) 本発明は、半導体リレー回路に関するものであり、さら
に詳しくは、光結合によるアイソレーションを利用した
半導体リレー回路に関するものである。
(背景技術) 従来、フォトカップラとMOS F ETとを組み合わ
せた半導体リレー回路が提案されている。この従来例に
あっては、例えば、リレーの入力端子にLEDを接続し
、このLEDからの光をフォトダイオードアレイにて受
光し、フォトダイオードアレイの両端に発生した電圧を
、MOSFETのゲート・ソース間に印加すると共に、
MOSFETのソース・ドレイン間をリレーの出力端子
としていたものである。
しかしながら、このような方式の半導体リレー回路にお
いて、高速スイッチング特性を実現するためには、光信
号が出力された時には、この光信号を受けた受光素子に
発生した電気信号にて、スイッチング素子の制御端子電
圧を素早く上昇させると共に、光信号が遮断された時に
は、スイッチング素子の制御端子に蓄績されていた電荷
を、速やかに放電させて制御端子電圧を素早く降下させ
る必要があった。このため、この種の半導体リレー回路
では、上記の動作を実現するために種々の制御回路が付
加されてきたが、回路構成が複雑で高価なものとなった
り、逆に回路構成が簡単すぎて十分な効果を期待できな
いものが多かった。
(発明の目的) 本発明は、上述のような点に鑑みてなされたものであり
、その目的とするところは、スイッチング素子の制御電
圧の充放電を速やかに行なうための制御回路を供え、高
速スイッチングを可能とした半導体リレー回路を簡単な
回路構成で実現することにある。
(発明の開示) 1本1炙 第1図は、本発明の基本構成を示す回路図である0本発
明に係る半導体リレー回路においては、この第1図に示
されるように、一対の入力端子(8)、(9)と、前記
入力端子(8) 、 (9)に接続された発光素子(1
)と、前記発光素子(1)の光信号を受けて、電気信号
を出力する受光素子(2)と、受光素子(2)の両端に
接続された第1の抵抗(5)と、前記受光素子(2)の
陽極に陽極が接続されたダイオード(3)と、PNPト
ランジスタのベース端子及びコレクタ端子を夫々NPN
トランジスタのコレクタ端子及びベース端子に接続して
サイリスタ構造を形成すると共に、PNPトランジスタ
のエミッタ端子とベース端子とが前記ダイオード(3)
と逆並列接続され、NPNトランジスタのエミッタ端子
が前記受光素子(2)の陰極に接続されたトランジスタ
対(4)と、前記NPNトランジスタのベース・エミッ
タ端子間に接続された第2の抵抗(6)と、前記ダイオ
ード(3)の陰極と前記受光素子(2)の陰極との間に
制御端子を接続され、制御端子間に印加される電圧に応
じて通電端子間のインピーダンスが変fヒするスイッチ
ング素子(7〉と、スイッチング素子(7)の通電端子
に接続された一対の出力端子(10) 、 (11)と
を備えるものである。
傷」W 第1図の回路において、入力端子(8)、(9)間に、
外部回路によって電圧が印加されると、発光素子(1)
が光信号を出力する。受光素子(2)はこの光信号を受
けて電気信号を発生し、抵抗(5)の両端に電圧信号を
発生させる。この電圧信号はダイオード(3)の陽極、
陰極を介して、スイッチング素子(7)の制御端子に印
加される。このとき、ダイオード(3)は順方向にバイ
アスされているので、トランジスタ対〈4)におけるP
NPトランジスタのペース・エミッタ間は逆バイアスさ
れており、PNPトランジスタは導通しない。したがっ
て、抵抗(6)の両端電圧はゼロであり、NPNトラン
ジスタも導通しない。このため、スイッチング素子(7
)の制御端子間は高インピーダンスとなっており、スイ
ッチング素子の制御端子の電圧は受光素子(2)からの
出力により急速に上昇する。これによって、スイッチン
グ素子(7)の通電端子間は高インピーダンス、または
、低インピーダンスのうちいずれか一方のインピーダン
ス状態となる。
次に、入力端子(8) 、 (9)間の電圧が除去され
て、発光素子(1)の光信号が遮断されると、受光素子
(2)による電気信号の発生は停止される。このとき、
受光素子(2)の電荷は抵抗(5)を介して放電され、
受光素子(2)の両端電圧は急速に低下する。一方、ス
イッチング素子(7)の制御端子にN積された電荷は、
ダイオード(3)によって逆流を阻止されているので、
ダイオード(3)を介する経路で放電されることはない
。したがって、PNPトランジスタのエミッタ電位はベ
ース電位よりも高くなり、PNPトランジスタのエミッ
タ・コレクタ間インピーダンスが低下する。これによっ
て、抵抗(6)の両端電圧が上昇し、NPNトランジス
タのコレクタ・エミッタ間インピーダンスが低下する。
したがって、PNPトランジスタのベース電流が増加し
、以下、正帰還作用によりPNPトランジスタとNPN
トランジスタとは急速にインピーダンスが低下して、P
NPトランジスタとNPNトランジスタよりなるサイリ
スタが導通状態になる。
このため、スイッチング素子(7)の制御端子に蓄積さ
れた電荷は急速に放電され、スイッチング素子(7)の
通電端子間は高インピーダンス、または、低インピーダ
ンスのうちいずれか他方のインピーダンス状態となる。
夫1鮭上 以下、本発明の好ましい実施例を添付図面と共に説明す
る。第2図は本発明の一実施例の回路図である。本実施
例においては、スイッチング素子(7)として、エンハ
ンスメント型のMOS F ETが使用されている。第
3図に本実施例に使用したMOSFETのドレイン電流
■Dと、ゲート・ソース間電圧VCSとの関係を示す、
実施例回路において、受光素子(2)の陽極はダイオー
ド(3)を介してMOSFETのゲートに接続され、陰
極はMOSFETのソースに接続されている。また、M
OSFETは、オフ状態のときに、ドレイン端子がリレ
ーの出力端子(10)として正電位に、また、ソース端
子がリレーの出力端子(11)として負電位に保たれた
状態で使用され、オン状態のときに、一方の出力端子(
10)から他方の出力端子(11)に向けて電流工を流
すように動作する。さらに、MOSFETの基板はソー
ス端子に接続されている。その他の構成については、第
1図に示す基本構成と同じである。
以下、本実施例の動作に・ついて説明する。入力端子(
8) 、 (9)間に図示された極性の電圧が印加され
ると、LEDよりなる発光素子(1)から光信号が発生
される。フォトダイオードアレイよりなる受光素子(2
)は、前記光信号を受けると電気信号を発生し、その短
絡電流と、第1の抵抗(5)の値との積によってほぼ決
定される電圧VSをフォトダイオードアレイの両端に、
陽極側が正電位、陰極側が負電位となるように発生させ
る。受光素子(2)ノ陽極はダイオード(3)を通して
MOSFETのゲートに接続され、陰極はMOSFET
のソースに接続されているので、MOSFETのゲート
・ソース間は、ゲート端子がソース端子に対して正電位
となり、その電位差が前記電圧VSと等しくなるまでゲ
ート端子が充電される。この電圧■Sが正の方向にM 
OS F E Tのスレショルド電圧VTHを越えると
、MOSFETは第3図の特性に従って導通し、リレー
も導通状態となり、一方の出力端子(10)から、他方
の出力端子(11)へ向う電流が流れる。この時、トラ
ンジスタ対(4)のPNPトランジスタのエミッタ端子
電圧は、ベース端子電圧よりもダイオード(3)の順方
向電圧降下分だけ低く保たれるため、トランジスタ対(
4)の2つのトランジスタは非導通状態であり、MOS
FETのゲート端子の充電動作には全く影響を与えない
、LEDよりなる発光素子(1)への入力信号を零にし
て、光信号が遮断されると、まず、第1の抵抗(5)の
両端に発生していた電圧Vsが零になる。MOSFET
のゲート端子には正の電荷が蓄積されているので、ダイ
オード(3)の陽極・陰極間は逆バイアス状態となる。
このため、MOSFETのゲートに蓄積された正電荷は
、ダイオード(3)にて阻止され、ダイオード(3)を
介しては放電されない。トランジスタ対(4)のPNP
トランジスタのエミッタ・ベース間順方向電圧以上に、
前記電圧Vsを設定しておくと、このPNPトランジス
タは導通状態となる。PNP トランジスタが導通し、
コレクタ電流の一部が、第2の抵抗(6)に流れること
により、NPNトランジスタが導通状態となるように、
第2の抵抗(6)の値を設定しておくと、PNP)ラン
リスク、及び、NPNトランジスタの両方が、光信号の
遮断により導通状態となる。上記トランジスタ対(4)
は、サイリスク構造となるように接続されているので、
2つのトランジスタは互いに正帰還がかかった状態にな
り、MOSFETのゲートに蓄積された正電荷を急速に
放電する。MOSFETのスレショルド電圧VTHの絶
対値をトランジスタ対(4)の導通状態における電圧降
下Ve以上に設定しておけば、MOSFETは、ゲート
端子の電荷の放電とともに急速に非導通状態となり、リ
レーもオフとなる。
本実施例にあっては、このようにMOSFETのゲート
端子を速やかに充電し、かつ蓄積された電荷を急速に放
電できるから、高速なリレーのオン・オフが可能な常開
型(ノーマリ−・オフ型)の半導体リレー回路を実現す
ることができる。
及1鰻え 第4図は本発明の他の実施例の回路図である。
本実施例においては、スイッチング素子(7)として、
デプリーション型のMOSFETが使用されている。第
5図に本実施例に使用したM OS F ETのドレイ
ン電流■oと、ゲート・ソース間電圧VCSとの関係を
示す。実施例回路において、MOSFETは、オフ状態
のときに、ドレイン端子がリレーの出力端子(10)と
して正電位に、また、ソース端子がリレーの出力端子(
11)として負電位に保たれた状態で使用され、オン状
態のときに、一方の出力端子(10)から他方の出力端
子(11)に向けて電流Iを流すように動作する。また
、MOSFETの基板はソース端子に接続されている。
その他の構成については、第1図に示す基本構成と同じ
である。
以下、本実施例の動作について説明する。入力端子(8
)、(9)間に図示された極性の電圧が印加されると、
LEDよりなる発光素子(1)から光信号が発生される
。フォトダイオードアレイよりなる受光素子(2)は、
前記光信号を受けると電気信号を発生し、その短絡電流
と、第1の抵抗(5)の値との積によってほぼ決定され
る電圧Vsをフォトダイオードアレイの両端に、陽極側
が正電位、陰極側が負電位となるように発生させる。受
光素子(2)の陽極はダイオード(3)を通してMOS
FETの゛ノースに接続され、陰極はMOSFETのゲ
ートに接続されているので、MOSFETのゲート・ソ
ース間は、ゲート端子がソース端子に対して負電位とな
り、その電位差が前記電圧Vsと等しくなるまでゲート
端子が充電される。この電圧■Sが負の方向にMOSF
ETのスレショルド電圧VTHを越えると、MOSFE
Tは第5図の特性に&Iiって遮断され、リレーもi!
!断状態となって、一方の出力端子(10)から、他方
の出力端子(11)へ向かって流れていた電流が遮断さ
れる。この時、トランジスタ対(4)のPNP)ランリ
スクのエミッタ端子電圧は、ベース端子電圧よりもダイ
オード(3〉の順方向電圧降下分だけ低く保たれるため
、トランジスタ対(4)の2つのトランジスタは非導通
状態であり、M OS F E Tのゲート端子の充電
動作には全く影響を与えない。LEDよりなる発光素子
(1)への入力信号を零にして、光信号が遮断されると
、まず、第1の抵抗(5)の両端に発生していた電圧V
sが零になる。MOSFETのゲート端子には負の電荷
が蓄積されているので、ダイオード(3)の陽極・陰極
間は逆バイアス状態となる。このため、MOSFETの
ゲートに蓄積された負電荷は、ダイオード(3)にて阻
止され、ダイオード(3)を介しては放電されない。ト
ランジスタ対(4)のPNP)ランリスクのエミッタ・
ベース間順方向電圧以上に、前記電圧Vsを設定してお
くと、このPNP)−ランリスクは導通状態となる。P
NP)ランリスクが導通し、コレクタ電流の一部が、第
2の抵抗(6)に流れることにより、NPNトランジス
タが導通状態となるよう、第2抵抗(6)の値を設定し
ておくと、PNP)ランリスク、及び、NPNトランジ
スタの両方が、光信号の遮断により導通状態となる。上
記トランジスタ対(4)は、サイリスタ構造となるよう
に接続されているので、2つのトランジスタは互いに正
帰還がかかった状態になり、MOSFETのゲートに蓄
積された負電荷を急速に放電する。MOSFETのスレ
ショルド電圧VTRの絶対値をトランジスタ対(4)の
導通状態における電圧降下Vc以上に設定しておけば、
MOSFETは、ゲート端子の電荷の放電とともに急速
に導通状態となり、リレーもオンとなる。本実施例にあ
っては、このようにMOSFETのゲート端子を速やか
に充電し、かつ蓄積された電荷を急速に放電できるから
、高速なリレーのオン・オフが可能な常閉型(ノーマリ
−・オン型)の半導体リレー回路を実現することができ
る。
なお、上記各実施例にあっては、直流リレーを構成する
場合についてのみ説明したが、交流リレーを構成するこ
とも可能であり、例えば、スイッチング素子(7)とし
て一対のMOSFETのゲート・ソース間を共通接続し
て、これをスイッチング素子(7)の制御端子とし、各
MO3FETのドレインを通電端子とすれば、交流をス
イッチングするリレーを実現することができる。
(発明の効果) 本発明は上述のように、pNP)ランリスタとNPN)
ランリスタとをサイリスクfiI造が形成されるように
接続したトランジスタ対を、スイッチング素子の制御端
子間に接続されるようにしたので、トランジスタ対が一
旦オンになると、自己保持作用により、スイッチング素
子の制御端子間の電荷をほぼ完全に放電させることがで
き、したがって、蓄積電荷の急速な放電が可能であり、
また、サイリスタ構造をなすトランジスタ対におけるP
NPトランジスタのベース・エミッタ間にはダイオード
が逆並列接続されているので、発光素子からの光信号に
より受光素子に電気信号が発生したきには、PNPトラ
ンジスタは逆バイアス状態となり、トランジスタ対が導
通することはないから、スイッチング素子の制御端子を
速やかに充電することができ、したがって、簡単な構成
でありながら、極めて高速度のスイッチングを実現する
ことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成を示す回路図、第2図は本発
明の一実施例の回路図、第3図は同上の実施例に用いる
スイッチング素子の特性図、第4図は本発明の他の実施
例の回路図、第5図は同上の実施例に用いるスイッチン
グ素子の特性図である。 (1)は発光素子、(2)は受光素子、(3)はダイオ
ード、(4)はトランジスタ対、(5)は第1の抵抗、
(6)は第2の抵抗、(7)はスイッチング素子、(8
)。 (9)は入力端子、(10)、(11)は出力端子であ
る。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対の入力端子と、前記入力端子に接続された発
    光素子と、前記発光素子の光信号を受けて、電気信号を
    出力する受光素子と、受光素子の両端に接続された第1
    の抵抗と、前記受光素子の陽極に陽極が接続されたダイ
    オードと、PNPトランジスタのベース端子及びコレク
    タ端子を夫々NPNトランジスタのコレクタ端子及びベ
    ース端子に接続してサイリスタ構造を形成すると共に、
    PNPトランジスタのエミッタ端子とベース端子とが前
    記ダイオードと逆並列接続され、NPNトランジスタの
    エミッタ端子が前記受光素子の陰極に接続されたトラン
    ジスタ対と、前記NPNトランジスタのベース・エミッ
    タ端子間に接続された第2の抵抗と、前記ダイオードの
    陰極と前記受光素子の陰極との間に制御端子を接続され
    、制御端子間に印加される電圧に応じて通電端子間のイ
    ンピーダンスが変化するスイッチング素子と、スイッチ
    ング素子の通電端子に接続された一対の出力端子とを備
    えて成ることを特徴とする半導体リレー回路。
  2. (2)特許請求の範囲第1項記載の回路において、前記
    スイッチング素子は、制御端子間に所定値以上の電圧が
    印加されたときに通電端子間が低インピーダンスとなり
    、制御端子間に電圧が印加されていないときに通電端子
    間が高インピーダンスとなる常開型のスイッチング素子
    であることを特徴とする半導体リレー回路。
  3. (3)特許請求の範囲第1項記載の回路において、前記
    スイッチング素子は、制御端子間に所定値以上の電圧が
    印加されたときに通電端子間が高インピーダンスとなり
    、制御端子間に電圧が印加されていないときに通電端子
    間が低インピーダンスとなる常閉型のスイッチング素子
    であることを特徴とする半導体リレー回路。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS632422A (ja) * 1986-06-21 1988-01-07 Nec Corp ソリツドステ−トリレ−
JPS6462015A (en) * 1987-09-02 1989-03-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Drive circuit for mos-fet

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62132423A (ja) * 1985-12-04 1987-06-15 Nec Corp ソリツドステ−トリレ−回路

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