JPS62171929A - 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 - Google Patents

屈折率分布を有するガラス体の製造方法

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JPS62171929A
JPS62171929A JP61012190A JP1219086A JPS62171929A JP S62171929 A JPS62171929 A JP S62171929A JP 61012190 A JP61012190 A JP 61012190A JP 1219086 A JP1219086 A JP 1219086A JP S62171929 A JPS62171929 A JP S62171929A
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glass
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silica gel
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Kazuo Shingyouchi
新行内 和夫
Shiro Konishi
小西 史郎
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Hitachi Cable Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は屈折率分布を41づるガラス体の製造方法に係
り、特に光ファイバ母料、ロッドレンズ、その他の光学
部品などに適用されるガラス体の製造方法に閏づる。
〔従来の技術] 従来、ガラス体に、その厚みh向に屈折率分布を設G−
Jる方法として、イオン交換法、CV[)法などが知ら
れている。イオン交換法では、例えば、文献[Appl
ied  physics: 1,10f、 19゜N
o、7.1113(1980)]に見られるように、イ
オン交換可能なT、R+やNa+を含有づ−るホウ硅酸
ガラスロッドを530〜550℃のに1403溶融塩中
で50〜100時間処理し、さらに、切断、研磨加工す
る。この方法では、ガラスロッドを溶融塩中に長時間保
持するという極めて作業環境の悪い■程が必要である。
また、用いる材料がアルカリを含有しているものなので
、耐候性の点からみても信頼性に乏しいものであった。
一方CVD法では、高シリカ系の材料が使われるので信
頼性は高くなるが、添加できる金属元素がGeなので、
大きな屈折率分布を付与するには多量に添加する必要が
ある。しかし、Geを多量に添加すると熱膨張係数の差
により、焼結時にクラックが発生してしまう。従って、
CVD法はガラス体に小さな屈折率差を付与する場合に
は適するが、大きな屈折率差を付与することは困難であ
った。
さらに、製造速度が遅く製造コストが高くなるという問
題もあった。
そこで本発明者らは、上記のイオン交換法及びCVD法
における問題点を解決する新規な方法として、少なくと
も1種以上の金属成分を添加したシリカゲルを溶出液中
に浸漬して金属成分の一部を溶出し、その後乾燥、焼結
するガラス体の製造方法を考案した。この方法によれば
、簡単且つ安価に所望の屈折率分布を有するガラス体を
製造することができる。しかしながら、焼結時にしばし
ば気泡が発生してガラス体の特性及び品質が影響を受け
ることがあった。
[発明が解決しようとする問題点1 以上のように従来の方法では、 ■ 作業環境が悪い、耐候性に対Jる信頼性が低い、 ■ 大きな屈折率差を付与することが困難である。
製造コストが高い、 あるいは■気泡が発生する 等の問題点を有していた。
かくして本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消
し、比較的緩やかな条件で屈折率分布を有する高品質の
ガラス体を安価に製造することができる製造方法を提供
することにある。
r問題点を解決するための手段] 本発明の屈折率分布を有するガラス体の製造方法は上記
目的を達成するために、少なくとも1種以上の金属成分
を含有するシリカゲルを、その温度が沸点以下であると
共に上記金属成分の一部を溶出させるための溶出液中に
浸漬し、さらに前記シリカゲルをアルカリ性水溶液中に
浸漬した後、これを乾燥し焼結ガラス化するものである
[作 用] このような製造方法、特に溶出液中に浸漬させて含有金
属成分の一部を溶出させたシリカゲルをアルカリ性水溶
液中に浸漬させることにより、焼結後のガラス中に含ま
れる気泡を大幅に低減できることがわかった。
このアルカリ性水溶液としては、884011水溶液。
に氷水溶液、 NaOH水溶液のいずれの水溶液を用い
ても同様の効果を得ることができる。ただし、その濃度
がlX10−4規定以下では気泡低減化の効果が見られ
ず、一方lX10−1規定以上ではシリカゲルの表面が
荒れてしまうので、lX10−4ないしlXl0−1規
定のアルカリ性水溶液を用いることが好ましい。また、
アルカリ性水溶液中に浸漬させる処理時間は水溶液の濃
度に関係し、濃度が高い程短時間で効果が現われる。
また、ガラスの屈折率を制御するために添加される金属
成分としては、Ge、  P、  B、 Ta、 Ti
、 2r。
Sb、 Al、 Nb、 Sn、 Pb、 Zn等を用
いることができる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を添付図面に従って説明する。
実施例1 第1図(a)〜(f)は実施例1の1程図である。
まず、30モル%のGe (0C113) 4を含有す
るSi (OCH3) <  1モルに、4,5モルの
アルコール及び4モルの1/100規定のHCI水溶液
を加えて加水分解し、内径8#のガラス容器1内でシリ
カゲル化しゲル2を作成した(第1図a)。
このゲル2の一部分を溶出液である20o+13の水3
に室温で約90分間浸漬しく第1図b)、さらに、lX
11規定、  100c、3のNtbOIl水溶液4中
に室温で約4時間浸漬する(第1図C)。次いで、ゲル
2をメタノールと水との1対1の混合液5中に室温で約
30分間浸漬した後(第1図d)、最後にメタノール6
中に約1時間浸漬して洗浄した(第1図0)。この後、
室温から 120℃まぐ1時間に1℃の速mr昇渇し−
C徐々に乾燥し、電気炉7を用いて1150℃で焼結処
理を行ないガラス化して、直径3閾、長さ約10mで気
泡のイ家いガラス[−1ツドを得た(第1図f)。
このガラス[1ツドを、その軸に両角に切断して直径方
向の屈折率分布を測定したところ、第2図の曲線8に示
Jように、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率分布
を右することがわかった1、さ1うに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとするど、
半径「゛の位置にお(〕る屈折率n (r)は、aを定
数どしたどきn(r) −no  (1−ar2) に近い屈折率分布を右することがわかった。
実施例2 15モル%のT I (OC411914を含有するS
i (OC113) 4 1モJし1こ、6モルのアル
−1−ル及び4モルの1/100規定−NIb0fl水
溶液を加え−C加水分解し、内径8■のガラス容器内で
ゲル化し、ウニ[ットゲルを作成した。このゲルの一部
分を20cm3の05規定+12804水溶液に室温−
C約1時間浸漬l)2さらに、lXl0−3規定の1(
滴水溶液100cm3中に室温で約24詩間浸漬−りる
11次い(パ、メタノールと水どの1対1の混合液に室
温−C約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約月14
間浸漬し−C洗浄した。この後、室温から洗浄液の沸点
を越えないJ、う 120℃ま(・1時間に1℃の速m
でν1渇り。
て徐々に乾燥し、電気炉を用い−(1200℃(パ焼結
ガラス化しIごどころ、自任2.7rrun、長さ約1
 (l mmで・気泡のないガラス11ツドが得られl
Joこのガラス1]ツドを軸に垂直な方向に切断し、径
り向の屈折率分布を測定したどころ、中心部分で高く、
周)!!部分で低い屈折率分布を右Jることがわかった
。さらに、この屈折率分布を詳細に調べ!、:どころ、
中心のff(l折率をri Oどづるど、半径[゛の位
置におりる屈折率n(r)は、aを定数どじkどきn 
(r) −n[]  (1−ar” )に近い屈折率弁
孔を右することがわかっi、: 、。
実施例3 101Eル%のTa (0C2115)5を含有リ−る
Si (OC113) 4 1モルに、8モルのアルコ
ール及び2モルの1/100規定−N]14叶水溶滴水
溶液て加水分解し、内径8NRのガラス容器内でゲル化
し、ウェットゲルを作成した。このゲルの一部分を20
rffi3の0.1重量%フッ化水素酸水溶液に室温で
約4時間浸漬し、さらに、5xlO−3規定のN a 
Otl水溶液100cm’中に室温で約8時間浸漬する
。次いで、メタノールと水との1対 1の混合液に室温
で約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約1時間浸漬
して洗浄した。この侵、室温から洗浄液の沸点を越えな
いよう 120℃まで1時間に 1℃の速度で昇温しで
徐々に乾燥し、電気炉を用いて1200℃で焼結ガラス
化したところ、直径2.6111111.長さ約10、
で気泡のないガラスロッドが得られた。このガラスロッ
ドを軸に垂直な方向に切断し、径方向の屈折率分布を測
定したところ、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率
分布を有することがわかった。さらに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとすると、
半径rの位置における屈折率n (r)は、aを定数と
したときn(r)  、−no  (1−a r2)に
近い屈折率分布を有することがわか−)/j。
なお、以上の実施例1,2.3では、[1ツド状ガラス
に関するものであるが、板状のゲルを用いれば、板の厚
み方向に屈折重分イj)を右4る板ガラスを作成するこ
とができる。
[発明の効果1 以上説明したように本発明によれば、次のごどぎ優れた
効果を発揮する。
(1)  溶出液中に浸漬させて含イ]金属成分の一部
を溶出したシリカゲルをアルカリ性水溶液中に浸漬させ
ることにより、気泡を含まない高品質のガラス体を製造
することかできる。
(2)  溶出液によるシリカゲルの処理温度は比較的
低温で良く、かつ短時間の処理操作で所望の屈折率分布
を有するガラス体を作成(−ることかできる。また、屈
折率の大きいシリカ系の材料を使用することができるの
で耐候性が1ぐれたものとすることができる。
さらに、量産化が容易なために低価格で生産できるなど
の工業的効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(f)は本発明の一実施例に係る屈折率
分布を有するガラス体の製造方法を示す工程図、第2図
は実施例により得られたガラスロンドの屈折率分布を示
すグラフである。 図中、2はゲル、3は水、4は旧140H水溶液、5は
メタノールと水との混合液、6はメタノール、7は電気
炉である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも1種以上の金属成分を含有するシリカ
    ゲルを、その温度が沸点以下であると共に上記金属成分
    の一部を溶出させるための溶出液中に浸漬し、さらに前
    記シリカゲルをアルカリ性水溶液中に浸漬した後、これ
    を乾燥し焼結ガラス化することを特徴とする屈折率分布
    を有するガラス体の製造方法。
  2. (2)上記金属成分が、Ge、P、B、Ta、Ti、Z
    r、Sb、Al、Nb、Sn、Pb、Znのうちいずれ
    かであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    製造方法。
  3. (3)上記アルカリ性水溶液が1×10^−^4ないし
    1×10^−^1規定の濃度を有することを特徴とする
    特許請求の範囲第1項または第2項記載の製造方法。
  4. (4)上記アルカリ性水溶液液が、NH_4OH水溶液
    、KOH水溶液、NaOH水溶液のうちいずれかである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の製造方法
JP61012190A 1986-01-24 1986-01-24 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 Pending JPS62171929A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01129318A (ja) * 1987-11-14 1989-05-22 Sharp Corp 情報処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01129318A (ja) * 1987-11-14 1989-05-22 Sharp Corp 情報処理装置

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