JPS62171929A - 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 - Google Patents
屈折率分布を有するガラス体の製造方法Info
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- JPS62171929A JPS62171929A JP61012190A JP1219086A JPS62171929A JP S62171929 A JPS62171929 A JP S62171929A JP 61012190 A JP61012190 A JP 61012190A JP 1219086 A JP1219086 A JP 1219086A JP S62171929 A JPS62171929 A JP S62171929A
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は屈折率分布を41づるガラス体の製造方法に係
り、特に光ファイバ母料、ロッドレンズ、その他の光学
部品などに適用されるガラス体の製造方法に閏づる。
り、特に光ファイバ母料、ロッドレンズ、その他の光学
部品などに適用されるガラス体の製造方法に閏づる。
〔従来の技術]
従来、ガラス体に、その厚みh向に屈折率分布を設G−
Jる方法として、イオン交換法、CV[)法などが知ら
れている。イオン交換法では、例えば、文献[Appl
ied physics: 1,10f、 19゜N
o、7.1113(1980)]に見られるように、イ
オン交換可能なT、R+やNa+を含有づ−るホウ硅酸
ガラスロッドを530〜550℃のに1403溶融塩中
で50〜100時間処理し、さらに、切断、研磨加工す
る。この方法では、ガラスロッドを溶融塩中に長時間保
持するという極めて作業環境の悪い■程が必要である。
Jる方法として、イオン交換法、CV[)法などが知ら
れている。イオン交換法では、例えば、文献[Appl
ied physics: 1,10f、 19゜N
o、7.1113(1980)]に見られるように、イ
オン交換可能なT、R+やNa+を含有づ−るホウ硅酸
ガラスロッドを530〜550℃のに1403溶融塩中
で50〜100時間処理し、さらに、切断、研磨加工す
る。この方法では、ガラスロッドを溶融塩中に長時間保
持するという極めて作業環境の悪い■程が必要である。
また、用いる材料がアルカリを含有しているものなので
、耐候性の点からみても信頼性に乏しいものであった。
、耐候性の点からみても信頼性に乏しいものであった。
一方CVD法では、高シリカ系の材料が使われるので信
頼性は高くなるが、添加できる金属元素がGeなので、
大きな屈折率分布を付与するには多量に添加する必要が
ある。しかし、Geを多量に添加すると熱膨張係数の差
により、焼結時にクラックが発生してしまう。従って、
CVD法はガラス体に小さな屈折率差を付与する場合に
は適するが、大きな屈折率差を付与することは困難であ
った。
頼性は高くなるが、添加できる金属元素がGeなので、
大きな屈折率分布を付与するには多量に添加する必要が
ある。しかし、Geを多量に添加すると熱膨張係数の差
により、焼結時にクラックが発生してしまう。従って、
CVD法はガラス体に小さな屈折率差を付与する場合に
は適するが、大きな屈折率差を付与することは困難であ
った。
さらに、製造速度が遅く製造コストが高くなるという問
題もあった。
題もあった。
そこで本発明者らは、上記のイオン交換法及びCVD法
における問題点を解決する新規な方法として、少なくと
も1種以上の金属成分を添加したシリカゲルを溶出液中
に浸漬して金属成分の一部を溶出し、その後乾燥、焼結
するガラス体の製造方法を考案した。この方法によれば
、簡単且つ安価に所望の屈折率分布を有するガラス体を
製造することができる。しかしながら、焼結時にしばし
ば気泡が発生してガラス体の特性及び品質が影響を受け
ることがあった。
における問題点を解決する新規な方法として、少なくと
も1種以上の金属成分を添加したシリカゲルを溶出液中
に浸漬して金属成分の一部を溶出し、その後乾燥、焼結
するガラス体の製造方法を考案した。この方法によれば
、簡単且つ安価に所望の屈折率分布を有するガラス体を
製造することができる。しかしながら、焼結時にしばし
ば気泡が発生してガラス体の特性及び品質が影響を受け
ることがあった。
[発明が解決しようとする問題点1
以上のように従来の方法では、
■ 作業環境が悪い、耐候性に対Jる信頼性が低い、
■ 大きな屈折率差を付与することが困難である。
製造コストが高い、
あるいは■気泡が発生する
等の問題点を有していた。
かくして本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消
し、比較的緩やかな条件で屈折率分布を有する高品質の
ガラス体を安価に製造することができる製造方法を提供
することにある。
し、比較的緩やかな条件で屈折率分布を有する高品質の
ガラス体を安価に製造することができる製造方法を提供
することにある。
r問題点を解決するための手段]
本発明の屈折率分布を有するガラス体の製造方法は上記
目的を達成するために、少なくとも1種以上の金属成分
を含有するシリカゲルを、その温度が沸点以下であると
共に上記金属成分の一部を溶出させるための溶出液中に
浸漬し、さらに前記シリカゲルをアルカリ性水溶液中に
浸漬した後、これを乾燥し焼結ガラス化するものである
。
目的を達成するために、少なくとも1種以上の金属成分
を含有するシリカゲルを、その温度が沸点以下であると
共に上記金属成分の一部を溶出させるための溶出液中に
浸漬し、さらに前記シリカゲルをアルカリ性水溶液中に
浸漬した後、これを乾燥し焼結ガラス化するものである
。
[作 用]
このような製造方法、特に溶出液中に浸漬させて含有金
属成分の一部を溶出させたシリカゲルをアルカリ性水溶
液中に浸漬させることにより、焼結後のガラス中に含ま
れる気泡を大幅に低減できることがわかった。
属成分の一部を溶出させたシリカゲルをアルカリ性水溶
液中に浸漬させることにより、焼結後のガラス中に含ま
れる気泡を大幅に低減できることがわかった。
このアルカリ性水溶液としては、884011水溶液。
に氷水溶液、 NaOH水溶液のいずれの水溶液を用い
ても同様の効果を得ることができる。ただし、その濃度
がlX10−4規定以下では気泡低減化の効果が見られ
ず、一方lX10−1規定以上ではシリカゲルの表面が
荒れてしまうので、lX10−4ないしlXl0−1規
定のアルカリ性水溶液を用いることが好ましい。また、
アルカリ性水溶液中に浸漬させる処理時間は水溶液の濃
度に関係し、濃度が高い程短時間で効果が現われる。
ても同様の効果を得ることができる。ただし、その濃度
がlX10−4規定以下では気泡低減化の効果が見られ
ず、一方lX10−1規定以上ではシリカゲルの表面が
荒れてしまうので、lX10−4ないしlXl0−1規
定のアルカリ性水溶液を用いることが好ましい。また、
アルカリ性水溶液中に浸漬させる処理時間は水溶液の濃
度に関係し、濃度が高い程短時間で効果が現われる。
また、ガラスの屈折率を制御するために添加される金属
成分としては、Ge、 P、 B、 Ta、 Ti
、 2r。
成分としては、Ge、 P、 B、 Ta、 Ti
、 2r。
Sb、 Al、 Nb、 Sn、 Pb、 Zn等を用
いることができる。
いることができる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を添付図面に従って説明する。
実施例1
第1図(a)〜(f)は実施例1の1程図である。
まず、30モル%のGe (0C113) 4を含有す
るSi (OCH3) < 1モルに、4,5モルの
アルコール及び4モルの1/100規定のHCI水溶液
を加えて加水分解し、内径8#のガラス容器1内でシリ
カゲル化しゲル2を作成した(第1図a)。
るSi (OCH3) < 1モルに、4,5モルの
アルコール及び4モルの1/100規定のHCI水溶液
を加えて加水分解し、内径8#のガラス容器1内でシリ
カゲル化しゲル2を作成した(第1図a)。
このゲル2の一部分を溶出液である20o+13の水3
に室温で約90分間浸漬しく第1図b)、さらに、lX
11規定、 100c、3のNtbOIl水溶液4中
に室温で約4時間浸漬する(第1図C)。次いで、ゲル
2をメタノールと水との1対1の混合液5中に室温で約
30分間浸漬した後(第1図d)、最後にメタノール6
中に約1時間浸漬して洗浄した(第1図0)。この後、
室温から 120℃まぐ1時間に1℃の速mr昇渇し−
C徐々に乾燥し、電気炉7を用いて1150℃で焼結処
理を行ないガラス化して、直径3閾、長さ約10mで気
泡のイ家いガラス[−1ツドを得た(第1図f)。
に室温で約90分間浸漬しく第1図b)、さらに、lX
11規定、 100c、3のNtbOIl水溶液4中
に室温で約4時間浸漬する(第1図C)。次いで、ゲル
2をメタノールと水との1対1の混合液5中に室温で約
30分間浸漬した後(第1図d)、最後にメタノール6
中に約1時間浸漬して洗浄した(第1図0)。この後、
室温から 120℃まぐ1時間に1℃の速mr昇渇し−
C徐々に乾燥し、電気炉7を用いて1150℃で焼結処
理を行ないガラス化して、直径3閾、長さ約10mで気
泡のイ家いガラス[−1ツドを得た(第1図f)。
このガラス[1ツドを、その軸に両角に切断して直径方
向の屈折率分布を測定したところ、第2図の曲線8に示
Jように、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率分布
を右することがわかった1、さ1うに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとするど、
半径「゛の位置にお(〕る屈折率n (r)は、aを定
数どしたどきn(r) −no (1−ar2) に近い屈折率分布を右することがわかった。
向の屈折率分布を測定したところ、第2図の曲線8に示
Jように、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率分布
を右することがわかった1、さ1うに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとするど、
半径「゛の位置にお(〕る屈折率n (r)は、aを定
数どしたどきn(r) −no (1−ar2) に近い屈折率分布を右することがわかった。
実施例2
15モル%のT I (OC411914を含有するS
i (OC113) 4 1モJし1こ、6モルのアル
−1−ル及び4モルの1/100規定−NIb0fl水
溶液を加え−C加水分解し、内径8■のガラス容器内で
ゲル化し、ウニ[ットゲルを作成した。このゲルの一部
分を20cm3の05規定+12804水溶液に室温−
C約1時間浸漬l)2さらに、lXl0−3規定の1(
滴水溶液100cm3中に室温で約24詩間浸漬−りる
11次い(パ、メタノールと水どの1対1の混合液に室
温−C約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約月14
間浸漬し−C洗浄した。この後、室温から洗浄液の沸点
を越えないJ、う 120℃ま(・1時間に1℃の速m
でν1渇り。
i (OC113) 4 1モJし1こ、6モルのアル
−1−ル及び4モルの1/100規定−NIb0fl水
溶液を加え−C加水分解し、内径8■のガラス容器内で
ゲル化し、ウニ[ットゲルを作成した。このゲルの一部
分を20cm3の05規定+12804水溶液に室温−
C約1時間浸漬l)2さらに、lXl0−3規定の1(
滴水溶液100cm3中に室温で約24詩間浸漬−りる
11次い(パ、メタノールと水どの1対1の混合液に室
温−C約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約月14
間浸漬し−C洗浄した。この後、室温から洗浄液の沸点
を越えないJ、う 120℃ま(・1時間に1℃の速m
でν1渇り。
て徐々に乾燥し、電気炉を用い−(1200℃(パ焼結
ガラス化しIごどころ、自任2.7rrun、長さ約1
(l mmで・気泡のないガラス11ツドが得られl
Joこのガラス1]ツドを軸に垂直な方向に切断し、径
り向の屈折率分布を測定したどころ、中心部分で高く、
周)!!部分で低い屈折率分布を右Jることがわかった
。さらに、この屈折率分布を詳細に調べ!、:どころ、
中心のff(l折率をri Oどづるど、半径[゛の位
置におりる屈折率n(r)は、aを定数どじkどきn
(r) −n[] (1−ar” )に近い屈折率弁
孔を右することがわかっi、: 、。
ガラス化しIごどころ、自任2.7rrun、長さ約1
(l mmで・気泡のないガラス11ツドが得られl
Joこのガラス1]ツドを軸に垂直な方向に切断し、径
り向の屈折率分布を測定したどころ、中心部分で高く、
周)!!部分で低い屈折率分布を右Jることがわかった
。さらに、この屈折率分布を詳細に調べ!、:どころ、
中心のff(l折率をri Oどづるど、半径[゛の位
置におりる屈折率n(r)は、aを定数どじkどきn
(r) −n[] (1−ar” )に近い屈折率弁
孔を右することがわかっi、: 、。
実施例3
101Eル%のTa (0C2115)5を含有リ−る
Si (OC113) 4 1モルに、8モルのアルコ
ール及び2モルの1/100規定−N]14叶水溶滴水
溶液て加水分解し、内径8NRのガラス容器内でゲル化
し、ウェットゲルを作成した。このゲルの一部分を20
rffi3の0.1重量%フッ化水素酸水溶液に室温で
約4時間浸漬し、さらに、5xlO−3規定のN a
Otl水溶液100cm’中に室温で約8時間浸漬する
。次いで、メタノールと水との1対 1の混合液に室温
で約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約1時間浸漬
して洗浄した。この侵、室温から洗浄液の沸点を越えな
いよう 120℃まで1時間に 1℃の速度で昇温しで
徐々に乾燥し、電気炉を用いて1200℃で焼結ガラス
化したところ、直径2.6111111.長さ約10、
で気泡のないガラスロッドが得られた。このガラスロッ
ドを軸に垂直な方向に切断し、径方向の屈折率分布を測
定したところ、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率
分布を有することがわかった。さらに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとすると、
半径rの位置における屈折率n (r)は、aを定数と
したときn(r) 、−no (1−a r2)に
近い屈折率分布を有することがわか−)/j。
Si (OC113) 4 1モルに、8モルのアルコ
ール及び2モルの1/100規定−N]14叶水溶滴水
溶液て加水分解し、内径8NRのガラス容器内でゲル化
し、ウェットゲルを作成した。このゲルの一部分を20
rffi3の0.1重量%フッ化水素酸水溶液に室温で
約4時間浸漬し、さらに、5xlO−3規定のN a
Otl水溶液100cm’中に室温で約8時間浸漬する
。次いで、メタノールと水との1対 1の混合液に室温
で約1時間浸漬し、最後にメタノール中に約1時間浸漬
して洗浄した。この侵、室温から洗浄液の沸点を越えな
いよう 120℃まで1時間に 1℃の速度で昇温しで
徐々に乾燥し、電気炉を用いて1200℃で焼結ガラス
化したところ、直径2.6111111.長さ約10、
で気泡のないガラスロッドが得られた。このガラスロッ
ドを軸に垂直な方向に切断し、径方向の屈折率分布を測
定したところ、中心部分で高く、周辺部分で低い屈折率
分布を有することがわかった。さらに、この屈折率分布
を詳細に調べたところ、中心の屈折率をnoとすると、
半径rの位置における屈折率n (r)は、aを定数と
したときn(r) 、−no (1−a r2)に
近い屈折率分布を有することがわか−)/j。
なお、以上の実施例1,2.3では、[1ツド状ガラス
に関するものであるが、板状のゲルを用いれば、板の厚
み方向に屈折重分イj)を右4る板ガラスを作成するこ
とができる。
に関するものであるが、板状のゲルを用いれば、板の厚
み方向に屈折重分イj)を右4る板ガラスを作成するこ
とができる。
[発明の効果1
以上説明したように本発明によれば、次のごどぎ優れた
効果を発揮する。
効果を発揮する。
(1) 溶出液中に浸漬させて含イ]金属成分の一部
を溶出したシリカゲルをアルカリ性水溶液中に浸漬させ
ることにより、気泡を含まない高品質のガラス体を製造
することかできる。
を溶出したシリカゲルをアルカリ性水溶液中に浸漬させ
ることにより、気泡を含まない高品質のガラス体を製造
することかできる。
(2) 溶出液によるシリカゲルの処理温度は比較的
低温で良く、かつ短時間の処理操作で所望の屈折率分布
を有するガラス体を作成(−ることかできる。また、屈
折率の大きいシリカ系の材料を使用することができるの
で耐候性が1ぐれたものとすることができる。
低温で良く、かつ短時間の処理操作で所望の屈折率分布
を有するガラス体を作成(−ることかできる。また、屈
折率の大きいシリカ系の材料を使用することができるの
で耐候性が1ぐれたものとすることができる。
さらに、量産化が容易なために低価格で生産できるなど
の工業的効果を奏することができる。
の工業的効果を奏することができる。
第1図(a)〜(f)は本発明の一実施例に係る屈折率
分布を有するガラス体の製造方法を示す工程図、第2図
は実施例により得られたガラスロンドの屈折率分布を示
すグラフである。 図中、2はゲル、3は水、4は旧140H水溶液、5は
メタノールと水との混合液、6はメタノール、7は電気
炉である。
分布を有するガラス体の製造方法を示す工程図、第2図
は実施例により得られたガラスロンドの屈折率分布を示
すグラフである。 図中、2はゲル、3は水、4は旧140H水溶液、5は
メタノールと水との混合液、6はメタノール、7は電気
炉である。
Claims (4)
- (1)少なくとも1種以上の金属成分を含有するシリカ
ゲルを、その温度が沸点以下であると共に上記金属成分
の一部を溶出させるための溶出液中に浸漬し、さらに前
記シリカゲルをアルカリ性水溶液中に浸漬した後、これ
を乾燥し焼結ガラス化することを特徴とする屈折率分布
を有するガラス体の製造方法。 - (2)上記金属成分が、Ge、P、B、Ta、Ti、Z
r、Sb、Al、Nb、Sn、Pb、Znのうちいずれ
かであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
製造方法。 - (3)上記アルカリ性水溶液が1×10^−^4ないし
1×10^−^1規定の濃度を有することを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項記載の製造方法。 - (4)上記アルカリ性水溶液液が、NH_4OH水溶液
、KOH水溶液、NaOH水溶液のうちいずれかである
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61012190A JPS62171929A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61012190A JPS62171929A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62171929A true JPS62171929A (ja) | 1987-07-28 |
Family
ID=11798481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61012190A Pending JPS62171929A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 屈折率分布を有するガラス体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62171929A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01129318A (ja) * | 1987-11-14 | 1989-05-22 | Sharp Corp | 情報処理装置 |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61012190A patent/JPS62171929A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01129318A (ja) * | 1987-11-14 | 1989-05-22 | Sharp Corp | 情報処理装置 |
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