JPS62170628A - 人体局部洗浄装置の温水温度制御機構 - Google Patents

人体局部洗浄装置の温水温度制御機構

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JPS62170628A
JPS62170628A JP61007182A JP718286A JPS62170628A JP S62170628 A JPS62170628 A JP S62170628A JP 61007182 A JP61007182 A JP 61007182A JP 718286 A JP718286 A JP 718286A JP S62170628 A JPS62170628 A JP S62170628A
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JP
Japan
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temperature
hot water
heater
turned
cleaning
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JP61007182A
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JPH0583690B2 (ja
Inventor
光弘 大原
健一 金子
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Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
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Publication date
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  • Bidet-Like Cleaning Device And Other Flush Toilet Accessories (AREA)
  • Heat-Pump Type And Storage Water Heaters (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、トイレ用の人体局部洗浄装置における温水の
温度制御機構に関する。
[従来の技術及び問題点] 従来のトイレ用の人体局部洗浄装置における温水の温度
制御機構は、第4図に示すように温水タンク1内の水の
温度をセンサ(サーミスタ)2で検知し、制御回路3を
介してリレースイッチ4のオン・オフを行い、ヒータ5
で温水タンク1内の水を温めていた。なお第4図中6は
、給水用の導管、7はこの導管6に取り付けられたバル
ブ、8は洗浄用のノズルである。
この従来の温水温度制御機構では、温水温度制御がリレ
ー4による有接点制御であるため、オン・オフ回数に一
定の限界がある。このためリレー4のオン点温度とオフ
点温度にある程度の温度差(ヒステリシス)を設けて、
オン・オフ回数を少なくするようにしている。例えば洗
浄水の不使用時には、リレー4のオン・オフのインター
バルが通常10〜15分程度となっている。
しかしこの従来の制御機構では、第5図に示すように、
温度T1 (B点)においてリレー4がオンしてヒータ
5に通電が行われ、温度T2 (A点)においてリレー
4がオフされるが、リレー4がオフした直後に洗浄が始
まった場合に2例えば第5図のC(tl)点において洗
浄が始まっても温度がT1まで下がらないとヒータ5に
通電が行われないため、導管6から導入される冷水によ
って温水タンク1内の温水温度が急激に下がり、噴出水
が快適使用温度になっている時間が短いという欠点があ
った。
[発明の目的] この発明は、上記従来の人体局部洗浄装置の温水温度制
御における欠点を解消することを目的とする。
より具体的には本発明は、洗浄スイッチがオンしてから
短時間のうちにヒータへの通電が開始され、洗浄水の快
適温度を長時間持続することの出来る人体局部洗浄装置
の簡単かつ耐久性のある温水温度制御機構を提供するこ
とを課題とするものである。
[発明の構成] この発明は、上記目的を達成するために、温水タンク内
の温水の温度を検出するセンサと、温水タンク内に取り
付けられたヒータと、このヒータへの通電のオン・オフ
を行うリレーと、前記センサからの温度検出信号に基づ
き、リレーをオン・オフさせる下限・上限温度を各々設
定する制御回路とからなる人体局部洗浄装置の温水温度
制御機構において、前記制御回路に接続され、洗浄スイ
、ツチがオンしている間は、前記下限設定温度を洗浄ス
イッチがオフしているときの下限設定温度よりも高い温
度に変更し、洗浄スイッチがオフになるとこの設定温度
を元の下限設定温度に復帰するヒータの下限設定温度変
更手段とを具えていることを特徴としているものである
[作用] 上記発明は、センサによって温水タンク内の温度を検出
し、このセンサからの温度検出信号に基づいて、温水タ
ンク内の温度が、制御回路においてあらかじめ設定され
たヒータのオン温度即ち下限温度になると、リレーをオ
ンしてヒータに通電′を開始し、ヒータのオフ温度(上
限温度)に達するとリレーをオフしてヒータへの通電を
遮断する。
そして洗浄スイッチがオンした場合には、制御回路に接
続されたヒータの下限設定温度変更手段によって、制御
回路に設定されたヒータの下限設定温度が、洗浄スイッ
チがオフしている場合の温度よりも高い温度に変更され
、洗浄スイッチがオフした場合には、ヒータの下限設定
温度が再び元の低い設定温度に復帰する。
このような技術的手段を用いたことによって。
ヒータがオフした直後に洗浄スイッチがオンされたよう
な場合であっても、短い時間でヒータへの通電が開始さ
れ、洗浄水の快適温度を長時間持続することが可能にな
るものである。
[実施例] 以下この発明を1図面に示す実施例に基づいて、さらに
詳細に説明を行う。なお、以下の説明において、従来と
同一のものについては同一の符号を付して説明を行う。
第1図において、温水タンク1内にセンサ2が取り付け
られていて、温水タンク1内の温水温度を検出して、検
出信号を制御回路3に出力するようになっている。この
センサ2は温水温度の変化によって抵抗値が変わること
を利用したサーミスタを内蔵している。
制御回路3は、センサ2からの温度検出信号に基づいて
、温水タンク1内に配置されたヒータ5のオン/オフ電
気信号を出力し、リレー4によりヒータ5への通電のオ
ン・オフを行う。
以上は従来のものと同様であるが2本発明では制御回路
3にCPUIIが接続され、このCPU11が洗浄スイ
ッチ12がオンされると、ヒータ5への通電開始温度(
下限設定温度)Tを通常のTlよりも高いT3に設定す
るようになっているものである。
このCPUI 1によるヒータ5のオン/オフの制御を
、第2図に示すフローチャートを参照しながら説明する
と、洗浄スイッチ゛12がオフの状態では、制御回路3
により、ヒータ5の下限設定温度がT 、上限設定温度
がT2に設定(a)されており、このT とT2のヒス
テリシス値ΔTによって洗浄スイッチ12がオフの間、
ヒータ5のオン・オフが繰り返される(b)。
そして洗浄スイッチ12がオン(C)されると、CPU
IIは制御回路3におけるヒータ5の下限設定温度Tl
をT 3  (T t < T a < 72 )に変
更(d)L、  このT とT2のヒステリシス値ΔT
′によって洗浄スイッチ12がオンしている間、ヒータ
5のオン・オフが行われる(e)。
そして次に洗浄スイッチ12がオフされると。
CPUIIは、制御回路3におけるヒータ5の下限設定
温度を再びT1に変更(f)L、次に、洗浄スイッチ1
2がオンされるまでT とT2のヒステリシス値ΔTに
よってヒータ5のオン・オフを行う(a、b)。
このように、洗浄スイッチ12がオンするのに伴ってC
PUI 1がヒータ5の下限設定温度をT からT (
T くT3)に変更することによって2例えば第3図の
C(tl)点において洗浄スイッチ12がオンされ、噴
出水が出始めるとヒータ5は、洗浄スイッチ12がオフ
のときのヒステリシス値ΔTよりも小さいΔT′によっ
てオンされ、温水の温度変化が第3図の実線αで示すよ
うに、従来の温度変化(破線β)に比べて緩やかとなる
。これによって、ヒータ5が、従来は第3図のB′点で
オンされていたものが、これよりも早い0点においてオ
ンすることとなり、洗浄水の快適使用温度が保持される
時間tAが、従来の場合の時間t8よりも長くなり、長
時間の快適な洗浄が可能になるものである。
従って通例の使用条件において、TIとT2の間で温水
温度が維持できるよう、貯水量、ヒータ能力を最小限に
設定しておいても、洗浄の間、洗浄水の温度をT アT
2の間に十分維持することが出来るものである。
[発明の効果] 以上のようにこの発明は、洗浄スイ・ソチがオンした際
に、ヒータのオン温度を洗浄スイッチがオフ時のオン温
度よりも高い温度に変更するヒータの下限設定温度変更
手段を具えていることにより、洗浄時の間のみ平常の場
合よりも小さいヒステリシス値によってヒータのオン・
オフが行われるため、たとえヒータがオフした直後に洗
浄スイッチがオンされたような場合であっても、短時間
のうちにヒータへの通電が開始され、洗浄水の快適温度
を従来のものよりも長時間持続することが出来る。
その結果、リレーのオン拳オフ点のヒステリシス値を小
さくして、常時小さな温度変化に対してもすぐにリレー
が作動するようにした場合のようにリレーのオン・オフ
回数が増加し、耐久年数が減るという虞れがない。また
ヒータの制御部にトライアック等の無接点オン・オフ方
式を取り入れ、ヒステリシス値を小さくした場合のよう
に。
トライアックが高温となるために放熱装置を取り付ける
必要や、リレーのオン・オフが頻繁に繰り返されること
によって電波ノイズの発生の原因となり、その対策のた
めに製品コストがアップするといった虞れもない。
そして、洗浄水の不使用時の保温に必要な程度のヒータ
を用い、ヒータの能力(発熱ff1)を増大することな
く、従来と同様規格のリレーを用いても、耐久性を損う
ことなく、使用に際して十分な快適温度保持時間を確保
することが出来る。またさらに、温水タンクの貯水量を
増大すれば温度安定性は増大するが1本発明では、温水
タンクを大型化する必要もない。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第2図
は同実施例における温水温度の制御方法を示すフローチ
ャート、第3図は同実施例における温水温度の変化を示
すグラフ、第4図は従来の温水温度の制御機構を示す構
成図、第5図は第4図の制御機構による温水温度の変化
を示すグラフである。 1・・・温水タンク    2・・・センサ3・・・制
御回路     4・・・リレー5・・・ヒータ   
   11・・・CPU12・・・洗浄スイッチ 特許出願人  アイシン精機株式会社 代  理  人   弁理士  加  藤  朝  道
(他1名) M4図 第5図 Cけ、)□ 時間(↑)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 温水タンク内の温水の温度を検出するセンサと、温水タ
    ンク内に取り付けられたヒータと、このヒータへの通電
    のオン・オフを行うリレーと、前記センサからの温度検
    出信号に基づき、リレーをオン・オフさせる下限・上限
    温度を各々設定する制御回路とからなる人体局部洗浄装
    置の温水温度制御機構において、前記制御回路に接続さ
    れ、洗浄スイッチがオンしている間は、前記下限設定温
    度を洗浄スイッチがオフしているときの下限設定温度よ
    りも高い温度に変更し、洗浄スイッチがオフになるとこ
    の設定温度を元の下限設定温度に復帰するヒータの下限
    設定温度変更手段とを具えていることを特徴とする温水
    温度制御機構。
JP61007182A 1986-01-18 1986-01-18 人体局部洗浄装置の温水温度制御機構 Granted JPS62170628A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61007182A JPS62170628A (ja) 1986-01-18 1986-01-18 人体局部洗浄装置の温水温度制御機構

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JP61007182A JPS62170628A (ja) 1986-01-18 1986-01-18 人体局部洗浄装置の温水温度制御機構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62170628A true JPS62170628A (ja) 1987-07-27
JPH0583690B2 JPH0583690B2 (ja) 1993-11-29

Family

ID=11658920

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03295937A (ja) * 1990-04-13 1991-12-26 Koito Ind Ltd 衛生洗浄装置における温水ヒータの制御方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59233039A (ja) * 1983-06-15 1984-12-27 松下電器産業株式会社 衛生洗浄装置
JPS6013143A (ja) * 1983-07-04 1985-01-23 松下電器産業株式会社 衛生洗浄装置

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JPH03295937A (ja) * 1990-04-13 1991-12-26 Koito Ind Ltd 衛生洗浄装置における温水ヒータの制御方法

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JPH0583690B2 (ja) 1993-11-29

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