JPS62170471A - 蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はガラス基板等にＮ膜を形成する蒸着装置に関す
る。

［従来の技術］ 蒸着装置は真空室内に蒸発源と被蒸着基板を対向位置せ
しめ、上記蒸着源より膜形成物質としての蒸着材を蒸発
せしめて上記基板に精度良く薄膜を形成するものである
。

ところで、車両のウィンドガラスの如き大形基板に光の
選択透過膜等を形成する場合には、上記基板を蒸発源と
直交する方向に移動せしめて、これに順次膜を形成する
方法が採られている。この場合、基板がわん曲している
と、蒸発源とこれの直上を通過する基板部との対向距離
が次第に変化するため、基板に形成される膜厚等が一定
にならない。

そこで、例えば特開昭５９−’１８２７３８号には、上
記対向距離の変化に応じて蒸着材の蒸発速度を変更して
、均一な膜厚を得る薄膜形成装置が提案されている。

し発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、上記従来装置では膜厚は均一なものが得
られるが、蒸着材の飛来距離が異なることによって膜質
は相変わらず均一にならないという問題がある。

本発明はかかる従来装置の問題点を解決するもので、わ
ん曲した大形基板に均一な膜厚で均質の薄膜を形成する
ことが可能な蒸着装置を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 本発明の構成を第１図により説明すると、わん曲した被
蒸着基板１は真空室２内を一方より他方（図中矢印）へ
搬送される。上記真空室２内には上記搬送経路に直交し
て筒状架台３が設けてあり、該架台３は先端３１が上記
搬送経路に対向せしめられるとともに、真空室壁を貫通
してこれに気密的かつ軸方向移動自在に支持されている
。

上記架台３の先端３１には、蒸着材５を基板１の搬送経
路に向けて蒸発供給する蒸発８！４が設けである。上記
架台３内には、上記蒸発源４に接続される固定の給電線
７１、および前記蒸発源を冷却する冷媒を供給する冷媒
供給管例えば冷却水供給管８１が気密的に挿通せしめて
あって、これらは架台３の室外端部３２でそれぞれ可と
う給電線７２および可とう給水管８２に接続しである。

また、駆動手段６は、蒸発源４とこれに直交して移動す
る上記基板１０対向部との距離が常に一定となるように
、上記架台３を対向方向へ正逆移動せしめる。

［効果］ 軸方向へ移動自在に設けた架台３を駆動手段６により正
逆移動せしめて、上記架台３上の蒸発源４とこれに直交
して移動する基板１の対向部の距離を常に一定に保つよ
うにしたから、均一な膜厚および均質の薄膜を基板１上
に形成することができる。

また、本発明においては、蒸発源４を支持する上記架台
３を筒状となして、筒内に上記蒸発源４に至る固定の給
電線７１および給水管８１を気密的に挿通し、これらを
架台３の室外端でそれぞれ可どう給電線７２および可と
う給水管８２と接続する構成としたから、真空室２内の
蒸発源４に直接上記聞どう給電線７２ヤ可どう給水管８
２を接続した場合に生じ易い短絡や冷媒の漏れ等の事故
は完全に防止できる。

［実施例］ 第１図において、真空室２は上半部が左右に長く形成さ
れ、該上半部を左右方向（図中矢印）へ、囲路の搬送装
置によって被蒸着基板１が搬送される。基板１は搬送方
向にわん曲しており、わん曲形状はその上面に接して設
けたリニアポテンショ９１により塞板１の移動につれて
検出される。上記真空室２の中央部底壁にはこれを貫通
して筒状架台３が設けてあり、該架台３は貫通部外周の
Ｏリング３３を介して、上記底壁に気密的かつ上下動自
在に支持されている。

上記架台３の先端３］は閉ざされ、その上面には電子銃
４１を付設した蒸発源４が載置しておる。

蒸発源４のるつぼ内には蒸着材５が入れてあり、電子銃
４１より照射される電子により上方の基板搬送経路に向
けて蒸発せしめられる。架台３の室外端３２は密閉され
た箱状に形成してあり、該室外端３２には下面にラック
６１が突設しである。

ラック６１はギヤボックス６２を介して駆動用モータ６
に連結してあり、モータ６を正逆転せしめるとこれに応
じて上記架台３が上下動する。

架台３の移動位置はりニヤポテンショ３８により検出さ
れる。

上記モータ６は囲路の制御装置により作動せしめられる
。すなわち、制御装置は上記リニヤポテンショ３８．９
１の検出信号をそれぞれ入力し、これに応じて上記モー
タ６により架台３を上下動せしめて、蒸発源４とその上
方を通過する基板１の対向部との距離を一定に保つ。

筒状の上記架台３内には、上記蒸発源４への冷却水を供
給する給水管８１および上記電子銃４１への給電線７１
が挿通しである。給電線７１には裸線を使用し、上記給
水管８１とともに筒内の適所に設りた絶縁スペーサ３４
に固定されている。

これら給電線７１および給水管８１は架台３の先端に近
い側面に設Ｃノだ扱き穴３５を経てそれぞれ電子銃４１
および蒸発源４に至っている。

一方、架台３の室外端３２の側壁には気密性を有する導
入端子３６．３７が設けて必って、上記給電線７１およ
び給水管８１の他端がそれぞれこれらに至っている。そ
して、給電線７１は導入端子３６にて外部電源９２より
至る通常の絶縁被覆を有する可とう給電線７２に接続さ
れ、給水管８１は導入端子３７にて外部の給水源９３よ
り至る可どう給水管８２に接続されている。

なお、真空室２内は排気口２１より排気され、また、蒸
発源４と基板搬送経路間には膜厚センサ９４が配設され
て、該センサ９４からの膜厚信号に応じて蒸着材５の蒸
発速度が制御される。

かかる構造の蒸着装置において、わん曲する基板１を移
動せしめると、移動中の上記基板１の対向部に対して蒸
発源４は常に等距離を保つべく上下動せしめられ、これ
により上記基板１には均一の膜厚かつ均質の薄膜が順次
良好に形成される。

そして、この場合の架台３の上下動は可どう電線間７２
および可どう給水管８２により保証されるとともに、架
台３および真空室２内の真空雰囲気中の配線および配管
は固定されているから、短絡や漏水等の不具合が生じな
い。

なお、反応性蒸着を行なう場合には、蒸発源４の近くに
反応性ガスの給気管を開口せしめる必要があるが、該ガ
ース給気管は上記給水管８１．８２と同一構造で布設す
ることができる。

これを第２図に示す。図において、架台３内には固定給
気管１８１が設けてあり、その先端は蒸発源４の外縁近
傍に開口している。そして、上記給気管１８１は架台３
の室外端３２に設けた気密性を有する導入端子３９を介
して、外部の反応性ガス供給源１９３より至る可どう給
気管１８２に接続されている。なお、上記実施例にあけ
る給水管８１．８２は図示を省略した。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す蒸着装置の概略断面図
、第２図は本発明の他の実施例を示す蒸着装置の概略断
面図でおる。 １・・・・・・被蒸着基板　　　　　２・・・・・・真
空室３・・・・・・筒状架台　　　　　　３１・・・・
・・先端３２・・・・・・室外端　　　　　　３３・・
・・・・Ｏリング３４・・・・・・スペーサ　　　　　
３５・・・・・・恢き穴３６．３７・・・・・・導入端
子 ３８．９１・・・・・・リニヤポテンショ４・・・・・
・蒸発源　　　　　４１・・・・・・電子銃５・・・・
・・蒸着材 ６・・・・・・駆動用モータ（駆動手段）６１・・・・
・・ラック　　　　　７１・・・・・・固定給電線７２
・・・・・・可どう給電線 ８１・・・・・・固定給水管（固定冷媒管）８２・・・
・・・可どう給水管（可どう冷媒管）９１・・・・・・
リニヤポテンショ　９２・・・・・・外部電源９３・・
・・・・給水源　　　　　　９４・・・・・・膜厚セン
サ第１図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空室内を搬送されるわん曲した被蒸着基板と、
   上記被蒸着基板の搬送経路に直交して設けられ、その先
   端を上記搬送経路に対向せしめるとともに真空室壁を貫
   通してこれに気密的かつ軸方向移動自在に支持された筒
   状架台と、筒状架台の上記先端に設けて上記搬送経路に
   向けて蒸着材を蒸発供給する蒸発源と、上記筒状架台を
   、蒸発源とこれに直交して移動する上記被蒸着基板の対
   向部との距離が常に一定となるように対向方向へ正逆移
   動せしめる駆動手段とを具備し、かつ上記蒸発源に接続
   される固定給電線および上記蒸発源を冷却する冷媒を供
   給する固定冷媒管を上記筒状架台内に気密的に挿通せし
   めて、これらを筒状架台の室外端部でそれぞれ可とう給
   電線および可とう冷媒管に接続したことを特徴とする蒸
   着装置。
2. （２）上記被蒸着基板は車両のわん曲したウインドガラ
   スである特許請求の範囲第１項記載の蒸着装置。