JP2010080230A - 有機elデバイス製造装置及び成膜装置並びに真空内配線・配管機構 - Google Patents
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Abstract
アウトガスや配管の疲労損傷の問題を払拭できる、あるいは、真空排気の必要のない真空内配線・配管機構を有する信頼性の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバ内のうち少なくとも一つの真空チャンバ内に移動部を有し、蒸着材料を基板に蒸着する有機ELデバイス製造装置あるいは成膜装置において、前記中空のリンク内に前記移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設し、一端を大気に開放し、他端を前記移動部に接続した真空内配線・配管機構を有することを特徴とする
【選択図】図4
Description
特許文献2は、配線や配管を柔軟性の高い樹脂性の配管で覆い、被覆配管内を真空排気することを開示している。
また、本発明の第二の目的は、真空排気の必要のない真空内配線・配管機構を提供することである。
さらに、本発明三の目的は、本発明の真空内配線・配管機構を使用することによって、信頼性の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
また、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記リンクは錆び難くアウトガスが少ない金属製であることを第3の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、前記移動体は前記基板を載置した位置から蒸着位置に移動する移動体であり、前記配管は前記基板を冷却する前記移動体上の冷却部に流体を供給・回収する配管であることを第5の特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
また、本発明によれば、真空排気の必要のない真空内駆動装置を提供することである。
さらに、本発明によれば、信頼性の高い有機ELデバイス製造装置または成膜装置を提供することである
2本ハンドにするか1本ハンドにするかは要求される生産能力によって決める。以後の説明では、説明を簡単にするために1本ハンドで説明する。
また、上記本実施形態によれば、図5に示すように真空蒸着チャンバ1buの処理基板1枚の処理サイクルは実質的に蒸着時間+蒸発部71の移動時間となり、生産性を向上させることができる。前述の条件で処理時間を評価すれば、従来の2分に対し、本発明では1分5秒となり、チャンバひとつあたりの生産性を約2倍に向上できる。
2:搬送チャンバ 3:ロードクラスタ
4:受渡室 5:搬送ロボット
6:基板 7:蒸着部
8:アライメント部 9:処理受渡部
10:ゲート弁 11:仕切り板
31:ロード室 40,50:真空内配線・配管機構
60:制御装置 41、42、51,52:リンク
43,44:冷却水配管 54:配線
71:蒸発源 100:有機ELデバイスの製造装置
A〜D:クラスタ。
Claims (12)
- 複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバ内のうち少なくとも一つの真空チャンバ内に移動部を有し、蒸着材料を基板に蒸着する有機ELデバイス製造装置において、
中空のリンクで構成し、前記中空のリンク内に前記移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設し、一端を大気に開放し、他端を前記移動部に接続した真空内配線・配管機構を有することを特徴とする有機ELデバイス製造装置。 - 前記リンクの可動部、移動体への接続部及び大気への接続部を真空シールすることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記リンクは錆び難くアウトガスが少ない金属製であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記金属はステンレスまたはアルミニウムであること特徴とする請求項3に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記移動体は、前記蒸着材料を蒸発する蒸発源を移動させる移動体であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記移動体は前記基板を載置した位置から蒸着位置に移動する移動体であり、前記配管は前記基板を冷却する前記移動体上の冷却部に流体を供給・回収する配管であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記移動体は前記基板への蒸着速度を検出するセンサを移動する移動体であり、前記配管は前記センサを恒温に保つ流体を供給・回収する配管であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 複数の真空チャンバと、前記複数の真空チャンバ内のうち少なくとも一つの真空チャンバ内に移動部を有し、蒸着材料を基板に蒸着する成膜装置において、
中空のリンクで構成し、前記中空のリンク内に前記移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設し、一端を大気に開放し、他端を前記移動部に接続した真空内配線・配管機構を有することを特徴とする成膜装置。 - 前記リンクの可動部、移動体への接続部及び大気への接続部を真空シールすることを特徴とする請求項8に記載の成膜装置。
- 前記リンクは錆び難くアウトガスが少ない金属製であることを特徴とする請求項8に記載の成膜装置。
- 中空のリンク内に配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設するものであって、前記リンクの可動部及び前記リンクの両端のうち少なくとも一端を真空シールするシール部を有することを特徴とする真空内配線・配管機構。
- 前記リンクは錆び難くアウトガスが少ない金属製であることを特徴とする請求項11に記載の真空内配線・配管機構。
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