JPS62165920A - エツチング終点判定装置 - Google Patents
エツチング終点判定装置Info
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- JPS62165920A JPS62165920A JP643686A JP643686A JPS62165920A JP S62165920 A JPS62165920 A JP S62165920A JP 643686 A JP643686 A JP 643686A JP 643686 A JP643686 A JP 643686A JP S62165920 A JPS62165920 A JP S62165920A
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- etching
- photoelectric conversion
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- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 101100119059 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) ERG25 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、エツチング終点判定装置に係り、特許こプラ
ズマによりエツチング処理される試料のエツチング終点
判定を発光分光法により行うの優こ好適なエツチング終
点団定装ｆｌｆｆに関するものである。
ズマによりエツチング処理される試料のエツチング終点
判定を発光分光法により行うの優こ好適なエツチング終
点団定装ｆｌｆｆに関するものである。
プラズマによりエツチング処理される試料のエツチング
終点判定を発光分光法により行う従来の装置は、例えば
、特開昭５９−２８３４０号に記載のように、光電変換
素子の変化を安定にするために、信号のゲインとオフセ
ット調整を行っており、観察窓の曵もり等で信号が変化
した場合は、オフセットおよびゲイン共に変更するよう
になっていた。しかし、観察窓のくもり等で取り出され
る発光量が変化した場合において発光量が変換された電
気信号そのものを補正することについては配慮されてい
なかった。
終点判定を発光分光法により行う従来の装置は、例えば
、特開昭５９−２８３４０号に記載のように、光電変換
素子の変化を安定にするために、信号のゲインとオフセ
ット調整を行っており、観察窓の曵もり等で信号が変化
した場合は、オフセットおよびゲイン共に変更するよう
になっていた。しかし、観察窓のくもり等で取り出され
る発光量が変化した場合において発光量が変換された電
気信号そのものを補正することについては配慮されてい
なかった。
上記従来技術は、観察窓のくもり等で取り出される発光
量が変化した場合において発光量が変換された電気信号
そのものを補正することについては配慮されておらず、
同一プロセスでのエツチング終点判定を同一判定値で行
うためには、取り出される発光量の変化に応じるための
自動のオフセット調整機能、ゲイン調整機能を付加しな
ければならないといった問題がある。
量が変化した場合において発光量が変換された電気信号
そのものを補正することについては配慮されておらず、
同一プロセスでのエツチング終点判定を同一判定値で行
うためには、取り出される発光量の変化に応じるための
自動のオフセット調整機能、ゲイン調整機能を付加しな
ければならないといった問題がある。
本発明の目的は、取り出される発光量の変化（こ応じる
ための自動のオフセブト調整機能、ゲイン調整機能を付
加することなしに、同一プロセスでのエツチング終点判
定を同一判定値で行うことができるエツチング終点判定
装置を提供すること醗こある。
ための自動のオフセブト調整機能、ゲイン調整機能を付
加することなしに、同一プロセスでのエツチング終点判
定を同一判定値で行うことができるエツチング終点判定
装置を提供すること醗こある。
上記目的は、エツチング終点判定装置を、プラズマ喬こ
よる試料のエツチング処理中に生じる発光の光量を電気
信号に変換する光電変換手段と、前記電気信号値の経時
変化により前記試料のエツチング処理の終点を°判定す
る終点判定手段と、前記光電変換手段に取り行まれる前
記発光の発光度の変化に応じて変化する前記電気信号値
を設定信号値に調整する感度調整手段とを具備したもの
とすることにより達成される。
よる試料のエツチング処理中に生じる発光の光量を電気
信号に変換する光電変換手段と、前記電気信号値の経時
変化により前記試料のエツチング処理の終点を°判定す
る終点判定手段と、前記光電変換手段に取り行まれる前
記発光の発光度の変化に応じて変化する前記電気信号値
を設定信号値に調整する感度調整手段とを具備したもの
とすることにより達成される。
光電変換手段は、プラズマによる試料のエツチング処理
中に生じる発光の光量を電気信号着こ変換し、終点判定
手段は、前記電気信号値の経時変化により前記資料のエ
ツチング処理の終点を判定し、感度調整手段は、前記光
電変換手段に増り込まれる前記５ご光の発光量が、観察
窓のくもり等で変化した場合、該発光量の変化に応じて
変化する前記電気信号値を設定信号値に調整するように
動作する。これによって、光電変換手段に取り込まれる
発光の発光量が、観察窓の（もり等で変化しても電気信
号値は設定信号値に調整されるので、取り込まれる発光
Ｉの変化に応じるための自動のオフセット調整機能、ゲ
イン調整機能を付加することなし番こ、同一プロセスで
のエツチング終点判定を同一判定値で行うことができる
。
中に生じる発光の光量を電気信号着こ変換し、終点判定
手段は、前記電気信号値の経時変化により前記資料のエ
ツチング処理の終点を判定し、感度調整手段は、前記光
電変換手段に増り込まれる前記５ご光の発光量が、観察
窓のくもり等で変化した場合、該発光量の変化に応じて
変化する前記電気信号値を設定信号値に調整するように
動作する。これによって、光電変換手段に取り込まれる
発光の発光量が、観察窓の（もり等で変化しても電気信
号値は設定信号値に調整されるので、取り込まれる発光
Ｉの変化に応じるための自動のオフセット調整機能、ゲ
イン調整機能を付加することなし番こ、同一プロセスで
のエツチング終点判定を同一判定値で行うことができる
。
本発明の一実施例を第１図、第２図により説明する。
第１図で、エツチング終点゛刈定装置は、光電変換素子
１、光電変換素子用電源回路２、感度調整回路３、オフ
セット調整用可変抵抗器４、ゲイン調整用可変抵抗器５
、ＦＥＴ６、電流モニタ用抵抗７、ＡＤ変換器８、ＤＡ
変換器９、マイクロコノピユータシステム１０により構
成されている。第２図番こ光電変換素子の出力の曲線を
示しｎ回目の終点判定時とｎ ＋ １回目の波形を示す
。
１、光電変換素子用電源回路２、感度調整回路３、オフ
セット調整用可変抵抗器４、ゲイン調整用可変抵抗器５
、ＦＥＴ６、電流モニタ用抵抗７、ＡＤ変換器８、ＤＡ
変換器９、マイクロコノピユータシステム１０により構
成されている。第２図番こ光電変換素子の出力の曲線を
示しｎ回目の終点判定時とｎ ＋ １回目の波形を示す
。
第１図で、光電変換素子ｌの出力信号はオフセット調整
用可変抵抗器４により設定された電圧まで信号を下げ、
残りの電圧をゲイン調整用可変抵抗器５で設定された増
中度で増申し、発光強度の変化部を拡大してＡＤ変換器
８に取り込み、マイクロコンピュータシステム１０によ
り終点を判定する。ところが光電変換素子１に取り込ま
れる発光の光量が観察窓の（もり等で変化するとＡＤ変
換器８の入力値が変化し、同一プロセスでエツチングを
行っても終点判定タイミングがずれ、プロセス上に影響
する場合がある。このため終点同定開始時のあるタイミ
ングで入力信号を比較しくこの場合第２図のｎ回目の０
点とｎ−１−１回目の０点）。
用可変抵抗器４により設定された電圧まで信号を下げ、
残りの電圧をゲイン調整用可変抵抗器５で設定された増
中度で増申し、発光強度の変化部を拡大してＡＤ変換器
８に取り込み、マイクロコンピュータシステム１０によ
り終点を判定する。ところが光電変換素子１に取り込ま
れる発光の光量が観察窓の（もり等で変化するとＡＤ変
換器８の入力値が変化し、同一プロセスでエツチングを
行っても終点判定タイミングがずれ、プロセス上に影響
する場合がある。このため終点同定開始時のあるタイミ
ングで入力信号を比較しくこの場合第２図のｎ回目の０
点とｎ−１−１回目の０点）。
差がある場合は同一にするよう（第２図の０点以降）Ｄ
Ａ変換器９への設定信号を変化させて感度調整回路３の
抵抗を変え光電変換素子用電源回路２で光？Ｉｔ守擁嚢
子１のゲインを変イＰ六せる〜す乞ＦＥＴ６の？ｌ！流
を制御するために電流モニタ用抵抗器７の信号をフィー
ドバックさせ安定に動作させている。
Ａ変換器９への設定信号を変化させて感度調整回路３の
抵抗を変え光電変換素子用電源回路２で光？Ｉｔ守擁嚢
子１のゲインを変イＰ六せる〜す乞ＦＥＴ６の？ｌ！流
を制御するために電流モニタ用抵抗器７の信号をフィー
ドバックさせ安定に動作させている。
本実施例では、ｎ回目の終点開始時の入力信号とｎ ＋
１回目のそれとに差がある場合、ｎ ＋ １回目の終点
開始時以降の入力信号をｎ回目のそれと同一になるよう
に調整するため、光電変換素子に取り込まれる発光の光
■の変化に応じるための自動のオフセット調整様能、ゲ
イン調整機能を付加することなしに、同一プロセスでの
エツチング終点判定を同一判定値で行うことができる。
１回目のそれとに差がある場合、ｎ ＋ １回目の終点
開始時以降の入力信号をｎ回目のそれと同一になるよう
に調整するため、光電変換素子に取り込まれる発光の光
■の変化に応じるための自動のオフセット調整様能、ゲ
イン調整機能を付加することなしに、同一プロセスでの
エツチング終点判定を同一判定値で行うことができる。
本発明によれば、光電変換手段に取り込まれる発光の光
ｆｄが変化しても電気信号値を設定信号値に調整するの
で、取り込まれる発光の光量の変化に応じるための自動
のオフセット調ｉｌｌ能、ゲイン調整機能を付加するこ
となしに、同一プロセスでのエツチング終点゛初定を同
一！ＩＪ定値で行う二とができるという効果がある。
ｆｄが変化しても電気信号値を設定信号値に調整するの
で、取り込まれる発光の光量の変化に応じるための自動
のオフセット調ｉｌｌ能、ゲイン調整機能を付加するこ
となしに、同一プロセスでのエツチング終点゛初定を同
一！ＩＪ定値で行う二とができるという効果がある。
第１図は、本発明の一実施例のエツチング終点判定装置
の回路構成図、第２図は、第１図の装置での光電変換素
子の出力曲線図である。 ｌ・・・・・・光電変換素子、２・・・・・・光電変換
素子用電源回路、３・・・・・・感度調整回路、８・・
・・・・ＡＤ変換器、９・・・・・・ＤＡ変換器、１０
・・・・・・マイクロコンピュータ第２図
の回路構成図、第２図は、第１図の装置での光電変換素
子の出力曲線図である。 ｌ・・・・・・光電変換素子、２・・・・・・光電変換
素子用電源回路、３・・・・・・感度調整回路、８・・
・・・・ＡＤ変換器、９・・・・・・ＤＡ変換器、１０
・・・・・・マイクロコンピュータ第２図
Claims (1)
- １、プラズマによる試料のエッチング処理中に生じる発
光の光量を電気信号に変換する光電変換手段と、前記電
気信号値の経時変化により前記試料のエッチング処理の
終点を判定する終点判定手段と、前記光電変換手段に取
り込まれる前記発光の発光量の変化に応じて変化する前
記電気信号値を設定信号値に調整する感度調整手段とを
具備したことを特徴とするエッチング終点判定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP643686A JPS62165920A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | エツチング終点判定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP643686A JPS62165920A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | エツチング終点判定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62165920A true JPS62165920A (ja) | 1987-07-22 |
| JPH0457092B2 JPH0457092B2 (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=11638346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP643686A Granted JPS62165920A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | エツチング終点判定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62165920A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0348423A (ja) * | 1989-07-17 | 1991-03-01 | Hitachi Ltd | 終点判定方法および装置 |
| US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
| JPH0587943U (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-26 | 国際電気株式会社 | ドライエッチング装置の終点検出器 |
| US5626714A (en) * | 1994-12-08 | 1997-05-06 | Sumitomo Metal Industries Limited | Method for detecting etching endpoint and etching apparatus and etching system using the method thereof |
| US6149761A (en) * | 1994-12-08 | 2000-11-21 | Sumitomo Metal Industries Limited | Etching apparatus and etching system using the method thereof |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6239294B2 (ja) | 2013-07-18 | 2017-11-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 |
| WO2021130798A1 (ja) | 2019-12-23 | 2021-07-01 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理方法およびプラズマ処理に用いる波長選択方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60148120A (ja) * | 1984-01-13 | 1985-08-05 | Hitachi Ltd | ドライエツチング装置 |
| JPS60220848A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Hitachi Ltd | プラズマ利用装置 |
-
1986
- 1986-01-17 JP JP643686A patent/JPS62165920A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60148120A (ja) * | 1984-01-13 | 1985-08-05 | Hitachi Ltd | ドライエツチング装置 |
| JPS60220848A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Hitachi Ltd | プラズマ利用装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0348423A (ja) * | 1989-07-17 | 1991-03-01 | Hitachi Ltd | 終点判定方法および装置 |
| US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
| JPH0587943U (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-26 | 国際電気株式会社 | ドライエッチング装置の終点検出器 |
| US5626714A (en) * | 1994-12-08 | 1997-05-06 | Sumitomo Metal Industries Limited | Method for detecting etching endpoint and etching apparatus and etching system using the method thereof |
| US5885472A (en) * | 1994-12-08 | 1999-03-23 | Sumitomo Metal Industries Limited | Method for detecting etching endpoint, and etching apparatus and etching system using the method thereof |
| US6149761A (en) * | 1994-12-08 | 2000-11-21 | Sumitomo Metal Industries Limited | Etching apparatus and etching system using the method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0457092B2 (ja) | 1992-09-10 |
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