JPS6216301Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6216301Y2 JPS6216301Y2 JP17644884U JP17644884U JPS6216301Y2 JP S6216301 Y2 JPS6216301 Y2 JP S6216301Y2 JP 17644884 U JP17644884 U JP 17644884U JP 17644884 U JP17644884 U JP 17644884U JP S6216301 Y2 JPS6216301 Y2 JP S6216301Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- suction
- suction pad
- contact surface
- pad
- notch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 210000004754 hybrid cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
[考案の技術分野]
本考案は太陽電池、混成IC、プリント基板等
の製造時に於て、これら被吸着物の自動ハンドリ
ングに用いられる吸着パツドに係り、特に、吸着
を確実なものとし、チヤツキングミスによる被吸
着物の破損を無くし且つ装置の稼働率を著しく向
上することができる吸着パツドに関するものであ
る。
の製造時に於て、これら被吸着物の自動ハンドリ
ングに用いられる吸着パツドに係り、特に、吸着
を確実なものとし、チヤツキングミスによる被吸
着物の破損を無くし且つ装置の稼働率を著しく向
上することができる吸着パツドに関するものであ
る。
[考案の技術的背景とその問題点]
製造工程に於けるロボツト化等自動化に於ての
要素技術の1つである被吸着物チヤツキングの信
頼性は個々の装置はもちろんのこと全システムに
多大な影響を与える等、前後工程のインターフエ
ースとして極めて重要なことである。
要素技術の1つである被吸着物チヤツキングの信
頼性は個々の装置はもちろんのこと全システムに
多大な影響を与える等、前後工程のインターフエ
ースとして極めて重要なことである。
第1図は吸着パツドの基本構造を示したもので
ある。第1図に於て吸着パツド1の被吸着物2に
対する吸着力は吸着パツド1の内圧と外圧(ここ
では大気圧)との圧力差に比例する。圧力差を得
る方法としては吸着パツド1の一方端口を真空引
きする方法、あるいは一方端口の流速を与える方
法等により吸着パツド1の内圧を負圧にする方法
がとられている。圧力差を大きくするには真空引
き装置、流速寄与装置の能力向上にて得られる。
ある。第1図に於て吸着パツド1の被吸着物2に
対する吸着力は吸着パツド1の内圧と外圧(ここ
では大気圧)との圧力差に比例する。圧力差を得
る方法としては吸着パツド1の一方端口を真空引
きする方法、あるいは一方端口の流速を与える方
法等により吸着パツド1の内圧を負圧にする方法
がとられている。圧力差を大きくするには真空引
き装置、流速寄与装置の能力向上にて得られる。
一方、吸着力を維持する為には吸着パツド1内
部と外部との間に空気の漏れがあつてはあらな
い。この空気の漏れを防ぐ為には吸着パツド1と
被吸着物との接触面のなじみが必要であり、吸着
パツド材としてシリコンゴム、ふつ素ゴム等の弾
性材料が用いられている。
部と外部との間に空気の漏れがあつてはあらな
い。この空気の漏れを防ぐ為には吸着パツド1と
被吸着物との接触面のなじみが必要であり、吸着
パツド材としてシリコンゴム、ふつ素ゴム等の弾
性材料が用いられている。
以下、まず第2図及び第3図によつて具体例に
つき説明する。第2図は吸着パツド1が被吸着物
2を吸着した状態を被吸着物2側から見た平面図
を示したものであり、ハツチング部は吸着パツド
1が被吸着物2に接触した範囲を表わしている。
ここで上述した吸着パツド1の内部と外部との空
気の漏れはハツチング部分で遮断されることとな
り、圧力差を維持して被吸着物2の吸着がなされ
る。しかし上述の様な方法によると被吸着物2の
吸着面が例えば平板ガラスの様な平滑面の場合に
は問題は無いが、例えば吸着面の全体あるいは一
部が半田盛りあるいは厚膜配線等により凹凸状態
にある太陽電池、構成IC、プリント基板等の場
合、第3図に示す用に凹凸3によつて吸着パツド
1と被吸着物2との接触面の一部に透き間4を生
じ、これを起点として吸着パツド1の内側と外側
との間に大小の空気パスができ空気の漏れによつ
て圧力差の維持が不可能となり、空気パスが大き
い場合は最初から吸着されなかつたり、空気パス
が小さい場合にはわずかの時間で圧力差が平衡状
態になる。この為、吸着が極めて不安定となり、
被吸着物2を破損することがしばしば発生し、
又、これに伴つて個々の設備、あるいは全体シス
テムの稼動時間を低下させる等の欠点があつた。
つき説明する。第2図は吸着パツド1が被吸着物
2を吸着した状態を被吸着物2側から見た平面図
を示したものであり、ハツチング部は吸着パツド
1が被吸着物2に接触した範囲を表わしている。
ここで上述した吸着パツド1の内部と外部との空
気の漏れはハツチング部分で遮断されることとな
り、圧力差を維持して被吸着物2の吸着がなされ
る。しかし上述の様な方法によると被吸着物2の
吸着面が例えば平板ガラスの様な平滑面の場合に
は問題は無いが、例えば吸着面の全体あるいは一
部が半田盛りあるいは厚膜配線等により凹凸状態
にある太陽電池、構成IC、プリント基板等の場
合、第3図に示す用に凹凸3によつて吸着パツド
1と被吸着物2との接触面の一部に透き間4を生
じ、これを起点として吸着パツド1の内側と外側
との間に大小の空気パスができ空気の漏れによつ
て圧力差の維持が不可能となり、空気パスが大き
い場合は最初から吸着されなかつたり、空気パス
が小さい場合にはわずかの時間で圧力差が平衡状
態になる。この為、吸着が極めて不安定となり、
被吸着物2を破損することがしばしば発生し、
又、これに伴つて個々の設備、あるいは全体シス
テムの稼動時間を低下させる等の欠点があつた。
[考案の目的]
本考案は、上記の欠点を除去し、吸着パツドの
内側と外側との空気漏れを無くし得る吸着パツド
を提供することを目的とする。
内側と外側との空気漏れを無くし得る吸着パツド
を提供することを目的とする。
[考案の概要]
本考案の特徴は吸着パツドの吸着部が被吸着物
表面上の凹凸面に対し追随効果を上げることを目
的として被吸着物に接触する吸着接触面の全周も
しくは一部に切り込みを備えたことである。
表面上の凹凸面に対し追随効果を上げることを目
的として被吸着物に接触する吸着接触面の全周も
しくは一部に切り込みを備えたことである。
[考案の実施例]
以下図面を参照して本考案の実施例を詳細に説
明する。即ち、第4図は本考案の一実施例で、吸
着パツド10を吸着接触面側から見た図であり、
ハツチング部は被吸着物との吸着接触面範囲を表
わしたものである。即ち、吸着パツド10は中心
部に透孔19を有する円板状底部101の外周縁
から斜め方向に開くように円周壁102が一体に
設けられたいわゆる笠状に形成される。前記円周
壁102の開口円周部近傍は吸着パツド10が被
吸着物に吸着したときに、被吸着物に接触する吸
着接触面(ハツチング部)104となる。この吸
着接触面104の外周部には多数の切り込み11
が設けられ、この切り込み11によつて吸着接触
面104には多数の切り込み片103が形成され
る。この切り込み片103は隣接する片と一方端
でつながるのみで各々分離されており、隣接片の
弾性応力の影響が排除されることによつて柔軟性
が向上する。切り込み11の深さは吸着パツド1
0の中心からの半径である切り込み半径16の位
置にあり、この切り込み半径16は吸着パツド1
0と被吸着物との吸着接触面104の最小半径1
5よりも大きくとつている。即ち、吸着接触面1
04の中心から切り込み11の先端までの長さを
吸着接触面104の最小半径15よりも大きくす
る。
明する。即ち、第4図は本考案の一実施例で、吸
着パツド10を吸着接触面側から見た図であり、
ハツチング部は被吸着物との吸着接触面範囲を表
わしたものである。即ち、吸着パツド10は中心
部に透孔19を有する円板状底部101の外周縁
から斜め方向に開くように円周壁102が一体に
設けられたいわゆる笠状に形成される。前記円周
壁102の開口円周部近傍は吸着パツド10が被
吸着物に吸着したときに、被吸着物に接触する吸
着接触面(ハツチング部)104となる。この吸
着接触面104の外周部には多数の切り込み11
が設けられ、この切り込み11によつて吸着接触
面104には多数の切り込み片103が形成され
る。この切り込み片103は隣接する片と一方端
でつながるのみで各々分離されており、隣接片の
弾性応力の影響が排除されることによつて柔軟性
が向上する。切り込み11の深さは吸着パツド1
0の中心からの半径である切り込み半径16の位
置にあり、この切り込み半径16は吸着パツド1
0と被吸着物との吸着接触面104の最小半径1
5よりも大きくとつている。即ち、吸着接触面1
04の中心から切り込み11の先端までの長さを
吸着接触面104の最小半径15よりも大きくす
る。
第4図中、12,13及び14は被吸着物表面
の凹凸を表わしたもので、吸着パツド10との間
の相対位置関係の代表例でもある。凹凸12及び
13は切り込み片103近くに位置し、凹凸14
は切り込み片103より内側に位置した状態を示
す。第5図は被吸着物20の凹凸(図中では凸1
2′(もしくは13′))が吸着パツド10の切り
込み片103にかかつている状態の断面図を示し
たものである。被吸着物20の表面の凸12′,
13′に対する吸着パツド10のかかわりは上述
した切り込み片103の柔軟性によりその周辺に
弾性歪の影響を与えること無く容易に矢印A方向
に弾性変形する。凸部12′,13′部の内側は切
り込み片103により弾性歪が緩和されることか
ら被吸着物20方向への押圧と吸着パツド10の
素材の弾性により、被吸着物20と吸着パツド1
0との間の接触長さ17を得ることができる。こ
れは吸着パツド10の内側と外側との空気流通を
接合長さ17で遮断することを意味し、これによ
つて内外両側の圧力差を維持し吸着が確実に行な
われる。
の凹凸を表わしたもので、吸着パツド10との間
の相対位置関係の代表例でもある。凹凸12及び
13は切り込み片103近くに位置し、凹凸14
は切り込み片103より内側に位置した状態を示
す。第5図は被吸着物20の凹凸(図中では凸1
2′(もしくは13′))が吸着パツド10の切り
込み片103にかかつている状態の断面図を示し
たものである。被吸着物20の表面の凸12′,
13′に対する吸着パツド10のかかわりは上述
した切り込み片103の柔軟性によりその周辺に
弾性歪の影響を与えること無く容易に矢印A方向
に弾性変形する。凸部12′,13′部の内側は切
り込み片103により弾性歪が緩和されることか
ら被吸着物20方向への押圧と吸着パツド10の
素材の弾性により、被吸着物20と吸着パツド1
0との間の接触長さ17を得ることができる。こ
れは吸着パツド10の内側と外側との空気流通を
接合長さ17で遮断することを意味し、これによ
つて内外両側の圧力差を維持し吸着が確実に行な
われる。
第6図は被吸着物21の凹凸(図中では凸)1
4′が吸着パツド10の切り込み片103の内側
にある状態の断面図を示したものである。この場
合凸14′部の弾性歪はその周辺部に影響を与え
る。特に凸14′の外側は切り込み片103によ
りその影響は大きく、弾性変形量が大きくなるが
他の影響を受ける周辺部よりも柔軟性を有するた
め、吸着パツド10の内側からの吸性力により容
易に被吸着物21の表面に吸い寄せられ被吸着物
21と吸着パツド10との間の接合長さ18を得
ることができる。
4′が吸着パツド10の切り込み片103の内側
にある状態の断面図を示したものである。この場
合凸14′部の弾性歪はその周辺部に影響を与え
る。特に凸14′の外側は切り込み片103によ
りその影響は大きく、弾性変形量が大きくなるが
他の影響を受ける周辺部よりも柔軟性を有するた
め、吸着パツド10の内側からの吸性力により容
易に被吸着物21の表面に吸い寄せられ被吸着物
21と吸着パツド10との間の接合長さ18を得
ることができる。
尚、上記実施例では吸着接触面の全周に切り込
みを設ける場合について説明したが、これに限ら
ず吸着接触面の1部に切り込みを設けてもよい。
みを設ける場合について説明したが、これに限ら
ず吸着接触面の1部に切り込みを設けてもよい。
[考案の効果]
以上説明したように本考案によれば、被吸着物
の表面が平滑な状態のものはもちろんのこと、凹
凸状態のものに対しても吸着パツドの内側と外側
との圧力差を維持することができ、確度の高い吸
着を得るのに好適する吸着パツドを提供すること
ができる。
の表面が平滑な状態のものはもちろんのこと、凹
凸状態のものに対しても吸着パツドの内側と外側
との圧力差を維持することができ、確度の高い吸
着を得るのに好適する吸着パツドを提供すること
ができる。
第1図は従来の吸着パツドの断面図、第2図は
従来の吸着パツドが被吸着物を吸着した状態を被
吸着物側から見た平面図、第3図は第2図に於て
被吸着物表面に凹凸がある状態の平面図、第4図
は本考案の一実施例を用いて被吸着物を吸着した
状態を被吸着物側から見た平面図、第5図及び第
6図は第4図の一部切欠断面図を示す。 1……吸着パツド、2……被吸着物、3……凹
凸、4……透き間、10……外周切り込み吸着パ
ツド、11……切り込み、12,13及び14…
…凹凸、15……吸着接触面最小面積、16……
切り込み半径、17及び18……接合長さ。
従来の吸着パツドが被吸着物を吸着した状態を被
吸着物側から見た平面図、第3図は第2図に於て
被吸着物表面に凹凸がある状態の平面図、第4図
は本考案の一実施例を用いて被吸着物を吸着した
状態を被吸着物側から見た平面図、第5図及び第
6図は第4図の一部切欠断面図を示す。 1……吸着パツド、2……被吸着物、3……凹
凸、4……透き間、10……外周切り込み吸着パ
ツド、11……切り込み、12,13及び14…
…凹凸、15……吸着接触面最小面積、16……
切り込み半径、17及び18……接合長さ。
Claims (1)
- 被吸着物に接触する吸着接触面を有する円板状
の吸着パツドにおいて、前記吸着接触面には吸着
パツドの半径方向に切り込みが設けられ、且つ前
記吸着接触面の中心から前記切り込み先端までの
長さを前記吸着接触面の最小半径よりも大きくし
てあることを特徴とする吸着パツド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17644884U JPS6216301Y2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17644884U JPS6216301Y2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6192582U JPS6192582U (ja) | 1986-06-16 |
JPS6216301Y2 true JPS6216301Y2 (ja) | 1987-04-24 |
Family
ID=30734045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17644884U Expired JPS6216301Y2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6216301Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2528719Y2 (ja) * | 1990-10-11 | 1997-03-12 | ハウス食品株式会社 | 吸着パッドの構造 |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP17644884U patent/JPS6216301Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6192582U (ja) | 1986-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6271215A (ja) | ウエハ接合装置 | |
JPS6216301Y2 (ja) | ||
JPH03278554A (ja) | チップトレーの構造 | |
JPH03270048A (ja) | 真空チャック | |
JPH09162269A (ja) | チャックテーブル | |
JPH05235151A (ja) | 基板保持盤 | |
JP3164629B2 (ja) | 半導体ウエハ用真空チャックステージ | |
JP2002043353A (ja) | Bga素子用吸着器具及び吸着方法 | |
JP2005252259A (ja) | ビージーエーパッケージ真空パッド | |
JPH0641143U (ja) | スピンチャック | |
JPS61208234A (ja) | 真空チヤツク | |
KR100420177B1 (ko) | 볼 그리드 어레이 패키지 흡착용 진공 패드 | |
JPH1012639A (ja) | ボンディングコレット | |
JP2769945B2 (ja) | 真空吸着用フィンガ | |
KR19990035698U (ko) | 반도체 웨이퍼의 진공척구조 | |
JP2748644B2 (ja) | Icキャリアおよび吸着搬送装置 | |
JPH0119397Y2 (ja) | ||
JP3825176B2 (ja) | 電子部品のテーピング装置 | |
JPS63208255A (ja) | 電子装置 | |
JPH05326Y2 (ja) | ||
KR910006036Y1 (ko) | 반도체 제조에 있어서의 웨이퍼 흡착 테이블 | |
JPH0234826Y2 (ja) | ||
JPS6381965A (ja) | 電子装置 | |
JPS5934142Y2 (ja) | ウエハチヤツク | |
JPS5973292A (ja) | ペレツトピツクアツプ装置 |