JPS62159010A - 回転数検出装置 - Google Patents
回転数検出装置Info
- Publication number
- JPS62159010A JPS62159010A JP61001017A JP101786A JPS62159010A JP S62159010 A JPS62159010 A JP S62159010A JP 61001017 A JP61001017 A JP 61001017A JP 101786 A JP101786 A JP 101786A JP S62159010 A JPS62159010 A JP S62159010A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- layer
- optical
- omegacm
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、電動機のような回転体の軸に直結された回転
板の一方に配置された光源からの光が回転板の光透過部
を通って反対側の基板上のそれぞれ2組の光検出部に属
する逆並列接続された光起電力素子を交互に照射するこ
とによって回転体の回転角度1回転位置1回転数などを
検出する回転数検出装置に関する。
板の一方に配置された光源からの光が回転板の光透過部
を通って反対側の基板上のそれぞれ2組の光検出部に属
する逆並列接続された光起電力素子を交互に照射するこ
とによって回転体の回転角度1回転位置1回転数などを
検出する回転数検出装置に関する。
本出願人が特願昭58−156027号により特許出願
し、特開昭60−479165号公報により公知になっ
た回転数検出装置は、複数の光透過部を設けた、軸のま
わりに回転可能な回転板と、該回転板に平行に対向し、
その対向する側に2組のそれぞれ光起電力素子からなる
複数の光検出部を逆並列接続して設けた光検出板と、前
記回転板の反光構出板側に配置された光源とを備えてお
り、前記両組の一つに属して隣接する光検出部はそれぞ
れ前記軸を中心軸とする想定円筒と光検出板とが交って
なす円を両組共通の等しい中心角をなして半径方向に横
切り、隣接する前記光透過部は各組の光検出部に対する
前記想定円筒と回転板とが交ってなす円を前記中心角と
等しいかまたはその整数倍の中心角をなして横切り、前
記光源は一つの組の光検出部のうち二つ以上に対応する
光透過部を同時に照射でき、光透過部の同時透過数と各
組の光検出部の全数の少なくとも一方が全周にわたって
存在し、光透過部および光検出部は回転板の回転時に各
組の光検出部が交互に光によって照射されるように配置
されている構造を有する。このような回転数検出装置は
、例えば第2図に示すように回転数を検出すべき電動機
11の軸12にエンコーダ13が連結され、複数の発光
ダイオード14から水平方向に出た光が鏡15によって
反射し、エンコーダ13の穴16を通って光検出板1上
の受光素子2を照射する。 光検出板1の上には第3図に示すように2組の光検出部
の受光素子の上面透明電極31.32が互いに噛み合う
櫛の歯状に配置されている。受光素子を通常の水素化ア
モルファスシリコン膜(以下a −5i:Hと略す)で
構成する場合、第1図に示すようにiit性基板基板1
0にpまたはn型のa−St:H11121,真性(i
)のa−Si:H層22.nまたはp型のaSi:H層
23を積層し、その上に透明電極31、32を形成する
。しかしこの場合透明電極31゜32間に、光入射側の
ドーピング層23のa−5i:H膜の電気伝導度により
導通現象が生じ、互いに電気的に絶縁されていなければ
ならない透明電極31゜32間が短絡状態となり、一方
の光検出部の光起電力信号が他方の光検出部の透明電極
から出るという基本的な欠点があった。この傾向は透明
電極31゜32間の間隙が狭くなればなるほど強く現れ
、間隙を50n以下にした場合回転数検出装置としての
機能が不安定、不確実となっている。
し、特開昭60−479165号公報により公知になっ
た回転数検出装置は、複数の光透過部を設けた、軸のま
わりに回転可能な回転板と、該回転板に平行に対向し、
その対向する側に2組のそれぞれ光起電力素子からなる
複数の光検出部を逆並列接続して設けた光検出板と、前
記回転板の反光構出板側に配置された光源とを備えてお
り、前記両組の一つに属して隣接する光検出部はそれぞ
れ前記軸を中心軸とする想定円筒と光検出板とが交って
なす円を両組共通の等しい中心角をなして半径方向に横
切り、隣接する前記光透過部は各組の光検出部に対する
前記想定円筒と回転板とが交ってなす円を前記中心角と
等しいかまたはその整数倍の中心角をなして横切り、前
記光源は一つの組の光検出部のうち二つ以上に対応する
光透過部を同時に照射でき、光透過部の同時透過数と各
組の光検出部の全数の少なくとも一方が全周にわたって
存在し、光透過部および光検出部は回転板の回転時に各
組の光検出部が交互に光によって照射されるように配置
されている構造を有する。このような回転数検出装置は
、例えば第2図に示すように回転数を検出すべき電動機
11の軸12にエンコーダ13が連結され、複数の発光
ダイオード14から水平方向に出た光が鏡15によって
反射し、エンコーダ13の穴16を通って光検出板1上
の受光素子2を照射する。 光検出板1の上には第3図に示すように2組の光検出部
の受光素子の上面透明電極31.32が互いに噛み合う
櫛の歯状に配置されている。受光素子を通常の水素化ア
モルファスシリコン膜(以下a −5i:Hと略す)で
構成する場合、第1図に示すようにiit性基板基板1
0にpまたはn型のa−St:H11121,真性(i
)のa−Si:H層22.nまたはp型のaSi:H層
23を積層し、その上に透明電極31、32を形成する
。しかしこの場合透明電極31゜32間に、光入射側の
ドーピング層23のa−5i:H膜の電気伝導度により
導通現象が生じ、互いに電気的に絶縁されていなければ
ならない透明電極31゜32間が短絡状態となり、一方
の光検出部の光起電力信号が他方の光検出部の透明電極
から出るという基本的な欠点があった。この傾向は透明
電極31゜32間の間隙が狭くなればなるほど強く現れ
、間隙を50n以下にした場合回転数検出装置としての
機能が不安定、不確実となっている。
本発明は、上述の欠点を除いて同一基板上に形成された
2組の光検出部にそれぞれ属するアモルファスシリコン
光起電力素子の光入射側の電極を近接して配置した場合
も安定性のある、高精度の回転数検出装置を提供するこ
とを目的とする。
2組の光検出部にそれぞれ属するアモルファスシリコン
光起電力素子の光入射側の電極を近接して配置した場合
も安定性のある、高精度の回転数検出装置を提供するこ
とを目的とする。
本発明によれば、pin接合を有するアモルファスシリ
コン光起電力素子の光入射側のドーピング層の電気伝導
度を10−’(ΩC11)弓取下、 10−目(Ω(2
))−1以上とすることにより、電極の近接に伴う電極
間の抵抗の低下を補って短絡状態を防止し、上記の目的
を達成することができる。
コン光起電力素子の光入射側のドーピング層の電気伝導
度を10−’(ΩC11)弓取下、 10−目(Ω(2
))−1以上とすることにより、電極の近接に伴う電極
間の抵抗の低下を補って短絡状態を防止し、上記の目的
を達成することができる。
以下第1ryJを引用して本発明の一実施例について説
明する。導電性基板10上に5IHa等シラン系ガスを
プラズマCVD法などにより、p型のa −3i:H@
21.真性のa−3i:I(膜22をそれぞれ所定の膜
厚にて成膜する0次いでn型のa−3t:H膜23を形
成する際、その膜の電気伝導度が10−’ (Ω3)−
1以下となるように成膜する。n型の膜を高抵抗化する
ためには、n型のa−3i:H膜中に炭素、窒素、M素
のいずれを添加してもよい、−例としてn型の膜を炭素
によって高抵抗化する方法について述べると、原料ガス
にはSiLとPa1sに加え、炭素源として炭化水素系
のガスを導入し、プラズマCVD法によりグロー放電分
解することにより、炭素を含んだn型のアモルファスシ
リコン(a−5i: C: H) mができる。この膜
は膜中の炭素含有量により電気伝導度を広い範囲で制御
することができ、a−5i:C:H膜中の炭素濃度が5
%、10%、 159/6のとき、その電気伝4度は1
0−’。 10−”、 10−’ (ΩC11)−’となる。一方
n型のa −3i:HJiの高抵抗化は無制限であるわ
けではなく、10−”(Ωam)−’以下の電気伝導度
とすると、太陽電池の直列抵抗成分が増大し、充分な出
力を得ることがむづかしくなる。したがってn型膜の電
気伝導度を10−’ 〜10−’ @(ΩC!1)−’
、好ましクハ10−’〜lO−″(Ω01)−’の範囲
となるように成膜条件を設定してn型膜23を構成し、
アモルファスシリコン光起電力素子を形成する。 また先に述べたように、窒素あるいは酸素をn膜中に添
加しても炭素の場合と同様のことが可能で、その電気伝
導度はやはり10−’〜10−”(Ωam)−’範囲で
良好な結果を得ることができろ。 a−Si:H!が基板側からnip構造を有する場合に
はp型膜−3i:H膜の電気伝導度を同様に調整すれば
よい。
明する。導電性基板10上に5IHa等シラン系ガスを
プラズマCVD法などにより、p型のa −3i:H@
21.真性のa−3i:I(膜22をそれぞれ所定の膜
厚にて成膜する0次いでn型のa−3t:H膜23を形
成する際、その膜の電気伝導度が10−’ (Ω3)−
1以下となるように成膜する。n型の膜を高抵抗化する
ためには、n型のa−3i:H膜中に炭素、窒素、M素
のいずれを添加してもよい、−例としてn型の膜を炭素
によって高抵抗化する方法について述べると、原料ガス
にはSiLとPa1sに加え、炭素源として炭化水素系
のガスを導入し、プラズマCVD法によりグロー放電分
解することにより、炭素を含んだn型のアモルファスシ
リコン(a−5i: C: H) mができる。この膜
は膜中の炭素含有量により電気伝導度を広い範囲で制御
することができ、a−5i:C:H膜中の炭素濃度が5
%、10%、 159/6のとき、その電気伝4度は1
0−’。 10−”、 10−’ (ΩC11)−’となる。一方
n型のa −3i:HJiの高抵抗化は無制限であるわ
けではなく、10−”(Ωam)−’以下の電気伝導度
とすると、太陽電池の直列抵抗成分が増大し、充分な出
力を得ることがむづかしくなる。したがってn型膜の電
気伝導度を10−’ 〜10−’ @(ΩC!1)−’
、好ましクハ10−’〜lO−″(Ω01)−’の範囲
となるように成膜条件を設定してn型膜23を構成し、
アモルファスシリコン光起電力素子を形成する。 また先に述べたように、窒素あるいは酸素をn膜中に添
加しても炭素の場合と同様のことが可能で、その電気伝
導度はやはり10−’〜10−”(Ωam)−’範囲で
良好な結果を得ることができろ。 a−Si:H!が基板側からnip構造を有する場合に
はp型膜−3i:H膜の電気伝導度を同様に調整すれば
よい。
本発明は、エンコーダの穴を通じて交互に光が入射する
2組の光検出部に属する光起電力素子をアモルファスシ
リコン層を用いて形成する場合に、光入射側の透明電極
に接するドーピング層の電気伝導度を従来の104〜1
0−’ (Ωam)−’がら104〜10−”(0cm
)−’と高抵抗化するものである。これによりドーピン
グ層を介して透明電極間に流れるもれil流を小さくし
、2組の光検出部に属する光起電力素子を絶縁状態にす
ることにより、透明電極を微細な櫛歯状に近接させても
、光起電力素子に達する光の信号のオン、オフによって
生ずる電気信号の相違が明確で、安定性、精度の向上し
た回転数検出装置を得ることができる。
2組の光検出部に属する光起電力素子をアモルファスシ
リコン層を用いて形成する場合に、光入射側の透明電極
に接するドーピング層の電気伝導度を従来の104〜1
0−’ (Ωam)−’がら104〜10−”(0cm
)−’と高抵抗化するものである。これによりドーピン
グ層を介して透明電極間に流れるもれil流を小さくし
、2組の光検出部に属する光起電力素子を絶縁状態にす
ることにより、透明電極を微細な櫛歯状に近接させても
、光起電力素子に達する光の信号のオン、オフによって
生ずる電気信号の相違が明確で、安定性、精度の向上し
た回転数検出装置を得ることができる。
第1図は本発明の一実施例の光起電力素子部の構造を示
す斜視図、第2図は本発明の実施の対象となる回転数検
出装置の断面図、第3図はその光検出板の平面図である
。 10:導電性基板、21: p(n) a−5i: H
膜、22:1a−5i:H膜、23: n (p) a
−Si : H1!!、31゜32:透明電極。 第1図 第2図 第3図
す斜視図、第2図は本発明の実施の対象となる回転数検
出装置の断面図、第3図はその光検出板の平面図である
。 10:導電性基板、21: p(n) a−5i: H
膜、22:1a−5i:H膜、23: n (p) a
−Si : H1!!、31゜32:透明電極。 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 1)回転板の一方に配置された光源からの光が回転板の
光透過部を通って反対側の基板上のそれぞれ2組の光検
出部に属する逆並列接続されたアモルファスシリコンの
pin接合を有する光起電力素子を交互に照射するもの
において、光起電力素子の光入射側のドーピング層の電
気伝導度が10^−^5(Ωcm)^−^1以下、10
^−^1^0(Ωcm)^−^1以上であることを特徴
とする回転数検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61001017A JPS62159010A (ja) | 1986-01-07 | 1986-01-07 | 回転数検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61001017A JPS62159010A (ja) | 1986-01-07 | 1986-01-07 | 回転数検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62159010A true JPS62159010A (ja) | 1987-07-15 |
JPH0545123B2 JPH0545123B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=11489799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61001017A Granted JPS62159010A (ja) | 1986-01-07 | 1986-01-07 | 回転数検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62159010A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5861662A (ja) * | 1981-10-08 | 1983-04-12 | Nec Corp | イメ−ジセンサ− |
JPS6047916A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-15 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 回転数検出装置 |
-
1986
- 1986-01-07 JP JP61001017A patent/JPS62159010A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5861662A (ja) * | 1981-10-08 | 1983-04-12 | Nec Corp | イメ−ジセンサ− |
JPS6047916A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-15 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 回転数検出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0545123B2 (ja) | 1993-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Fortunato et al. | Large-area 1D thin-film position-sensitive detector with high detection resolution | |
US20030197114A1 (en) | Device for detecting the angle of incidence of radiation on a radiation incidence surface | |
US6310382B1 (en) | Multicolor sensor | |
AU8001487A (en) | Heterojunction p-i-n photovoltaic cell | |
JPH04395B2 (ja) | ||
US4658133A (en) | Rotational angle detecting device with full circumference illumination and detection | |
JPS62159010A (ja) | 回転数検出装置 | |
GB2094974A (en) | Photoelectric encoder device | |
US4658132A (en) | Rotational angle detecting device with full circumference illumination and detection | |
US5053844A (en) | Amorphous silicon photosensor | |
JP2566910B2 (ja) | 平面センサ− | |
JP2777663B2 (ja) | 密着型リニアイメージセンサ | |
JPS6097681A (ja) | モノリシツク集積回路 | |
JPS59212713A (ja) | 回転角度検出装置 | |
GB2166289A (en) | Colour sensitive photodetector | |
JPH021865Y2 (ja) | ||
JPH021866Y2 (ja) | ||
JP2596419B2 (ja) | 位置検出装置 | |
JPH0766447A (ja) | 光電変換素子 | |
JPH04343276A (ja) | 光位置検出装置 | |
JP3469061B2 (ja) | 太陽電池 | |
JPH06302851A (ja) | ビーム位置検出器 | |
JPS63137319A (ja) | 位置検出装置 | |
JP2545144Y2 (ja) | 半導体光位置検出器 | |
Fortunato et al. | Performances presented by large-area thin film position-sensitive detectors based on amorphous silicon |