JPS62156220A - スラグ浴反応の能率を高める方法ならびに装置 - Google Patents
スラグ浴反応の能率を高める方法ならびに装置Info
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- JPS62156220A JPS62156220A JP61302731A JP30273186A JPS62156220A JP S62156220 A JPS62156220 A JP S62156220A JP 61302731 A JP61302731 A JP 61302731A JP 30273186 A JP30273186 A JP 30273186A JP S62156220 A JPS62156220 A JP S62156220A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D27/00—Stirring devices for molten material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F33/00—Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
- B01F33/45—Magnetic mixers; Mixers with magnetically driven stirrers
- B01F33/451—Magnetic mixers; Mixers with magnetically driven stirrers wherein the mixture is directly exposed to an electromagnetic field without use of a stirrer, e.g. for material comprising ferromagnetic particles or for molten metal
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C7/00—Treating molten ferrous alloys, e.g. steel, not covered by groups C21C1/00 - C21C5/00
- C21C7/0075—Treating in a ladle furnace, e.g. up-/reheating of molten steel within the ladle
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F2101/00—Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
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- F27B3/08—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces heated electrically, with or without any other source of heat
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- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
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- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば鋼溶融物からの硫黄分の除去にＩＩＩ
遷して、スラグと金属溶融物の浴との間における反応を
一層能率よく行わしめる方法で、しかもその際、溶融物
のかくはｌυ作用が少なくとも一つの誘導かくはん装置
によって行われるような方法に関するものである。本発
明はまた、上記の方法を実現するための装置にも関する
ものである。
遷して、スラグと金属溶融物の浴との間における反応を
一層能率よく行わしめる方法で、しかもその際、溶融物
のかくはｌυ作用が少なくとも一つの誘導かくはん装置
によって行われるような方法に関するものである。本発
明はまた、上記の方法を実現するための装置にも関する
ものである。
発明の背景
前述の類の反応に関連して生ずる一つの問題点は、−回
の処理に要する時間を益々短縮したいという要望である
。このためには、まず何よりも第一に、例えば溶融物の
浴から硫黄分を除去する精練作用を促進、改善するため
に、スラグと金属との相互の接触を改善する必要がある
。
の処理に要する時間を益々短縮したいという要望である
。このためには、まず何よりも第一に、例えば溶融物の
浴から硫黄分を除去する精練作用を促進、改善するため
に、スラグと金属との相互の接触を改善する必要がある
。
渇１里二月１
本発明による方法は、前述の問題点ならびにこれに伴う
諸問題に対する解決策を提供することを目的とするもの
である。
諸問題に対する解決策を提供することを目的とするもの
である。
目的達成のための方法とその特徴
本発明は、溶融物のかくはん力のベクトルが水平方向お
よび垂直方向の成分をもつようにして、かくはんが行わ
れる、ことを特徴とするものである。すなわち、溶融物
の水平方向の回転によるかくはｌυと同時に、垂直方向
のかくはんも行われるのである。これによってスラグの
かくはんが改善され、かくして反応領域への″ゝ新鮮な
″スラグの供給が促進されるのである。
よび垂直方向の成分をもつようにして、かくはんが行わ
れる、ことを特徴とするものである。すなわち、溶融物
の水平方向の回転によるかくはｌυと同時に、垂直方向
のかくはんも行われるのである。これによってスラグの
かくはんが改善され、かくして反応領域への″ゝ新鮮な
″スラグの供給が促進されるのである。
ここに掲げた二つの異なった実施例では、いずれも二つ
のかくはん装置が用いられており、すなわちその一つが
垂直方向のかくはん装置に、もう一つが水平方向ないし
は斜め方向のかくはん装置になっている。
のかくはん装置が用いられており、すなわちその一つが
垂直方向のかくはん装置に、もう一つが水平方向ないし
は斜め方向のかくはん装置になっている。
ここに挙げた実施例の一つでは、更に一本のランスが溶
融物の中に、スラグ表面から下へＯ〜１０００ｍ＋の深
さまでそう入されており、かくはん作用の続く間中、こ
のランスを通じて不活性ガスが吹き込まれるようになっ
ている。これによって、スラグと溶融物との間の混合が
益々激しくなるのである。このランスのそう人の深さは
限定されているので、ランスのコストを安くすることが
できる。このことはまた、スラグ表面から上に出ている
部分を水冷しておくとともに、これより下の部分を交換
可能にして、かつ耐火性の材料で作っておく、ことによ
って可能になるのである。
融物の中に、スラグ表面から下へＯ〜１０００ｍ＋の深
さまでそう入されており、かくはん作用の続く間中、こ
のランスを通じて不活性ガスが吹き込まれるようになっ
ている。これによって、スラグと溶融物との間の混合が
益々激しくなるのである。このランスのそう人の深さは
限定されているので、ランスのコストを安くすることが
できる。このことはまた、スラグ表面から上に出ている
部分を水冷しておくとともに、これより下の部分を交換
可能にして、かつ耐火性の材料で作っておく、ことによ
って可能になるのである。
更にまた、溶融炉もしくはとりべの周囲に、二つあるい
はそれ以上のかくはん装置を互いに隣合って、もしくは
周方向に離して設けておき、かつこれらのかくはん装置
がそれぞれ異なったかくはん力を生ずるように、電流な
らびに周波数をそれぞれ別個に制御し得るようにしてお
くこともできるのである。このような配置にすると、乱
流の状態を一層激しくすることができ、それが精練反応
に対して都合のよいものとなるのである。
はそれ以上のかくはん装置を互いに隣合って、もしくは
周方向に離して設けておき、かつこれらのかくはん装置
がそれぞれ異なったかくはん力を生ずるように、電流な
らびに周波数をそれぞれ別個に制御し得るようにしてお
くこともできるのである。このような配置にすると、乱
流の状態を一層激しくすることができ、それが精練反応
に対して都合のよいものとなるのである。
本発明に関する装置については、特許請求の範囲第９項
から第１２項にわたって、その内容が規定されている。
から第１２項にわたって、その内容が規定されている。
図面による本発明の特徴と利、のぴ明
以下、本発明による方法ならびに装置の特徴と利点につ
いて、図面によって更に詳しく説明しよう。
いて、図面によって更に詳しく説明しよう。
第１図は、−木のランスを備えた一つのとりぺ型溶融炉
を示し、 第２図のａ）とｂ）とは、この溶融炉の断面図を示し、 第３図は、二つのかくはん装置を有する一つのとりべを
示し、 第４図は、このとりべの断面図を示し、第５ａ図および
第５ｂ図は、第３図および第４図に示す装置のかくはん
作用のパターンの例を示す図であり、そして 第６図は、二つのかくはん装置を有する、もう一つの装
はを示すものである。
を示し、 第２図のａ）とｂ）とは、この溶融炉の断面図を示し、 第３図は、二つのかくはん装置を有する一つのとりべを
示し、 第４図は、このとりべの断面図を示し、第５ａ図および
第５ｂ図は、第３図および第４図に示す装置のかくはん
作用のパターンの例を示す図であり、そして 第６図は、二つのかくはん装置を有する、もう一つの装
はを示すものである。
第１図は、電弧発生用の電極、例えば三相の電極、を有
する一つのとりべ型溶融炉、ないしは他の形式の溶融炉
を示している。参照番号２で示されている一本のそう大
型ランスが、溶融物３のスラグ４の表面から下、０〜１
０００＃ｌｌの範囲にそう人されている（第２図をも参
照）。参照番号５で示されている一つの誘導型多相かく
はん装置が、溶融炉の側壁に取り付けられており、矢印
６で示すように、上向きのかくはんを行っている。この
かくはんの方向は変えることができる。
する一つのとりべ型溶融炉、ないしは他の形式の溶融炉
を示している。参照番号２で示されている一本のそう大
型ランスが、溶融物３のスラグ４の表面から下、０〜１
０００＃ｌｌの範囲にそう人されている（第２図をも参
照）。参照番号５で示されている一つの誘導型多相かく
はん装置が、溶融炉の側壁に取り付けられており、矢印
６で示すように、上向きのかくはんを行っている。この
かくはんの方向は変えることができる。
この装置ににって、図に矢印６で示されている、かくは
／ｖ装置５による金属溶融物の誘導かくはん作用に加え
て、スラグ４と溶融物３との混合の度合をガスの泡立ち
によって一層強める作用をも含んだ、本発明による方法
が実現され得るのであり、その際、ガスはランス２から
入り、スラグ４の面の下、距１１１１ｉｄのところで溶
融物３の中に吹き出すのである（第１図参照）。このガ
スは、適当な不活性ガスであるが、ランス２によって溶
融物３の表面よりも下の領域へ供給される。このランス
２の、スラグ表面より上に出ている部分は、水冷によっ
て適当に保護されており、また第１図に７で示されてい
る、これより下の交換可能な部分は耐火性の材料で作ら
れている。誘導かくはん作用は、スラグ４ならびに溶融
物３に回転運動を与えると同時に、例えばかくはん装置
５を傾斜した姿勢に取り付けるとか、（以下に説明する
ように）何らか他の方法で調整することによって、溶融
物３の内部に垂直方向の大きなかくはん作用を生ぜしめ
るようになされている。かくはん装置を斜めに取り付け
ることによって、溶融物の内部の流れの場は、水平方向
の一つの成分と垂直方向の一つの成分とを受けることと
なり、これが前述の回転運動を生み出すのである。また
スラグ４が回転するので、新しいスラグが次々と連続し
て反応領域に送り込まれるのである。ランス２がそう人
される深さは限定されていると同時に、ランス２の上半
分は水冷されているので、ランスのコストを安くするこ
とができる。この方法は、電極１によって溶融物の加熱
が行われている間中、同時に実施することができるので
ある。
／ｖ装置５による金属溶融物の誘導かくはん作用に加え
て、スラグ４と溶融物３との混合の度合をガスの泡立ち
によって一層強める作用をも含んだ、本発明による方法
が実現され得るのであり、その際、ガスはランス２から
入り、スラグ４の面の下、距１１１１ｉｄのところで溶
融物３の中に吹き出すのである（第１図参照）。このガ
スは、適当な不活性ガスであるが、ランス２によって溶
融物３の表面よりも下の領域へ供給される。このランス
２の、スラグ表面より上に出ている部分は、水冷によっ
て適当に保護されており、また第１図に７で示されてい
る、これより下の交換可能な部分は耐火性の材料で作ら
れている。誘導かくはん作用は、スラグ４ならびに溶融
物３に回転運動を与えると同時に、例えばかくはん装置
５を傾斜した姿勢に取り付けるとか、（以下に説明する
ように）何らか他の方法で調整することによって、溶融
物３の内部に垂直方向の大きなかくはん作用を生ぜしめ
るようになされている。かくはん装置を斜めに取り付け
ることによって、溶融物の内部の流れの場は、水平方向
の一つの成分と垂直方向の一つの成分とを受けることと
なり、これが前述の回転運動を生み出すのである。また
スラグ４が回転するので、新しいスラグが次々と連続し
て反応領域に送り込まれるのである。ランス２がそう人
される深さは限定されていると同時に、ランス２の上半
分は水冷されているので、ランスのコストを安くするこ
とができる。この方法は、電極１によって溶融物の加熱
が行われている間中、同時に実施することができるので
ある。
また、ランス２の代わりに、溶融物の流れのパターンを
妨げるために、一本の棒、例えば耐火材の棒、を溶融物
３の中へそう人しておくことも可能で、これによって（
図示されてはいないが）スラグと溶融物との間の乱流が
増すと同時に、物質の交換移動も活発になるのである。
妨げるために、一本の棒、例えば耐火材の棒、を溶融物
３の中へそう人しておくことも可能で、これによって（
図示されてはいないが）スラグと溶融物との間の乱流が
増すと同時に、物質の交換移動も活発になるのである。
第３図および第４図には、二つのかくはん装置、すなわ
ち、垂直方向のかくはん装置８と水平方向のかくはん装
置９とを備えた、一つのｉ置が示されているが、これら
二つのかくはん装置はそれぞれ、とりべないしは溶融炉
１０の相対する反対側の位置にＲｎされている。この場
合に６、溶融物の流れの場に二つの成分が得られる。こ
の装置は、例えば次のようにして、使用される。
ち、垂直方向のかくはん装置８と水平方向のかくはん装
置９とを備えた、一つのｉ置が示されているが、これら
二つのかくはん装置はそれぞれ、とりべないしは溶融炉
１０の相対する反対側の位置にＲｎされている。この場
合に６、溶融物の流れの場に二つの成分が得られる。こ
の装置は、例えば次のようにして、使用される。
溶融物は二つの誘導型かくはん装置８．９の組によって
かくはんされるが、その際一方のかくはん装置８は主と
して溶融物を垂直方向に動かし、もう一つのかくはん装
置９は溶融物を水平方向（半径方向）に動かずのである
。この水平方向く半径方向）のかくはん装置９によって
、かくはんの方向が（第５ａ図および第５ｂ図に示すよ
うに）１８１けつ的に変えられるようになっており、そ
の結果、渦を生ずることとなるのである。これに更に、
垂直方向のかくはん装置８によって引き起こされるｒ向
きの流れが組合わされて、発生する渦がスラグの粒子を
溶融物の中へ巻き込んでゆくのである。この場合、流れ
の向きの変更は１秒間に約０．５〜０．０５回の頻度で
行われるのである。この頻度はまた、渦の浸透の深さを
変えるため、従ってまた力の分布状態を変えるために、
半径方向のかくはん装置９によって随時変えることもで
きるのである。流れの方向の変更はまた、垂直方向のか
くはん装置８によって行うこともできる。
かくはんされるが、その際一方のかくはん装置８は主と
して溶融物を垂直方向に動かし、もう一つのかくはん装
置９は溶融物を水平方向（半径方向）に動かずのである
。この水平方向く半径方向）のかくはん装置９によって
、かくはんの方向が（第５ａ図および第５ｂ図に示すよ
うに）１８１けつ的に変えられるようになっており、そ
の結果、渦を生ずることとなるのである。これに更に、
垂直方向のかくはん装置８によって引き起こされるｒ向
きの流れが組合わされて、発生する渦がスラグの粒子を
溶融物の中へ巻き込んでゆくのである。この場合、流れ
の向きの変更は１秒間に約０．５〜０．０５回の頻度で
行われるのである。この頻度はまた、渦の浸透の深さを
変えるため、従ってまた力の分布状態を変えるために、
半径方向のかくはん装置９によって随時変えることもで
きるのである。流れの方向の変更はまた、垂直方向のか
くはん装置８によって行うこともできる。
第３図〜第５図に示された装置の目的はまた、スラグ浴
の物質の交換移動を改善することらあり、このようにし
て精練の度合も改善されるのである。
の物質の交換移動を改善することらあり、このようにし
て精練の度合も改善されるのである。
第５ａ図では、Ｘ−軸が時間を、ｙ−軸が水平方向かく
はん装置９の方向を示しているのに対し、第５ｂ図は、
かくはん作用のもう一つの変形を採用した場合の、同じ
かくはＩυ装置の方向変換頻度工の変化を（縦軸に）示
したものである。
はん装置９の方向を示しているのに対し、第５ｂ図は、
かくはん作用のもう一つの変形を採用した場合の、同じ
かくはＩυ装置の方向変換頻度工の変化を（縦軸に）示
したものである。
第６図は、かくはん装置が二つの部分１１．１２に分割
されている、一つの装置を示すもので、その際、これら
二つの部分はそれぞれ別々に、それぞれ独立したサイリ
スタユニット１３．１４ｆＦら給電されているのである
。こうすることによって、一つの制御装置１５によって
、電流の撮幅１、方向ならびに周波数に関して、これら
二つの部分を別々に制御することができるのである。こ
の場合、プログラム制御もまた可能となる。
されている、一つの装置を示すもので、その際、これら
二つの部分はそれぞれ別々に、それぞれ独立したサイリ
スタユニット１３．１４ｆＦら給電されているのである
。こうすることによって、一つの制御装置１５によって
、電流の撮幅１、方向ならびに周波数に関して、これら
二つの部分を別々に制御することができるのである。こ
の場合、プログラム制御もまた可能となる。
この最後に述べた装置を用いることによって、乱流を強
める能力が一層大きくなり、その結果、スラグ浴におけ
る反応にとって都合のよい、−ｍ激しく乱れた浴の表面
状態が得られることとなる。
める能力が一層大きくなり、その結果、スラグ浴におけ
る反応にとって都合のよい、−ｍ激しく乱れた浴の表面
状態が得られることとなる。
以上、詳細に説明した方法ならびに装置は、特許請求の
範囲の各項において）ホへた範囲内において、色々に変
形し得るものである。
範囲の各項において）ホへた範囲内において、色々に変
形し得るものである。
第１図は、本発明による、一本のランスを備えた一つと
のりべ型溶融炉を示し、 第２図のａ）およびｂ）は、第１図に示した溶融炉の断
面図を示し、 第３図は、二つのかくはん装置を有する一つのとりべを
示し、 第４図は、第３図に示したとりべの断面図を示し、 第５ａ図および第５ｂ図は、第３図および第４図に示し
た装置のかくはん作用のパターンの一例を示す図であり
、そして 第６図は、二つのかくはん装置を有する、もう一つの５
Ａ置を示すものである。 １・・・電極 ２・・・ランス３・・・溶融
物 ４・・・スラグ５．８．９・・・（誘導型
）かくはん装置１０・・・とりへ、ないしはＷＪ融炉 １１．１２・・・（誘導型）かくはん装置の半分１３．
１４・・・サイリスタ・ユニット１５・・・制ｍ装置
のりべ型溶融炉を示し、 第２図のａ）およびｂ）は、第１図に示した溶融炉の断
面図を示し、 第３図は、二つのかくはん装置を有する一つのとりべを
示し、 第４図は、第３図に示したとりべの断面図を示し、 第５ａ図および第５ｂ図は、第３図および第４図に示し
た装置のかくはん作用のパターンの一例を示す図であり
、そして 第６図は、二つのかくはん装置を有する、もう一つの５
Ａ置を示すものである。 １・・・電極 ２・・・ランス３・・・溶融
物 ４・・・スラグ５．８．９・・・（誘導型
）かくはん装置１０・・・とりへ、ないしはＷＪ融炉 １１．１２・・・（誘導型）かくはん装置の半分１３．
１４・・・サイリスタ・ユニット１５・・・制ｍ装置
Claims (12)
- （１）例えば鋼溶融物からの硫黄分の除去に関連して、
スラグ浴反応を一層能率良く行わしめる方法で、かつ溶
融物のかくはん作用が少なくとも一つの誘導かくはん装
置によつて行われるような方法であつて、 その際、かくはん力のベクトルが水平方向および垂直方
向の成分をもつようにして、かくはん作用が行われる ことを特徴とする方法。 - （２）特許請求の範囲第１項による方法であつて、かく
はん作用が少なくとも二つのかくはん装置によつて行わ
れ、かつこれらのかくはん装置が一つの溶融炉もしくは
とりべの相対する反対側にそれぞれ適宜に設置されてい
て、その内の一つが事実上垂直方向のかくはんに、もう
一つが事実上水平方向のかくはんに用いられる ことを特徴とする方法。 - （３）特許請求の範囲第２項による方法であつて、かく
はん作用を強めるために、水平方向および／もしくは垂
直方向のかくはん装置の向きを変えられる ことを特徴とする方法。 - （４）特許請求の範囲第１項による方法であつて、かく
はん作用が、一つの溶融炉もしくはとりべに対して傾斜
して取り付けられている、少なくとも一つのかくはん装
置によつて行われる ことを特徴とする方法。 - （５）特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか
一つ、もしくは複数の項による方法であつて、 一本のランスが溶融物の中に、スラグの表面下０〜１０
００ｍｍの深さまでそう入されており、そうすることに
よつて、かくはん作業が続けられている間中、このラン
スを通じて不活性ガスが吹き込まれる ことを特徴とする方法。 - （６）特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか
一つ、もしくは複数の項による方法であつて、 溶融物の流れのパターンを妨害し、それによつてかくは
ん作用を強めるために、溶融物の中に一本の棒ないしは
類似のものがそう入されていることを特徴とする方法。 - （７）特許請求の範囲第１項による方法であつて、かく
はん作用が二つの並んで設置されたかくはん装置によつ
て行われ、かつそれらが、それぞれ異なつた電流の振幅
、方向ならびに周波数をそれらにもたせるために、それ
ぞれ別個に制御されることを特徴とする方法。 - （８）特許請求の範囲第１項による方法であつて、かく
はん作用が、周方向に離れて設置された二つのかくはん
装置によつて行われる ことを特徴とする方法。 - （９）特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれか
一つの項による、例えば鋼溶融物からの硫黄分の除去に
関連して、スラグ浴反応の能率を改善する方法を実現す
るための、少なくとも一つの誘導かくはん装置（５、８
、９、１１、１２）を含む装置であつて、この一つもし
くは複数のかくはん装置が、そのかくはん力のベクトル
が水平方向および垂直方向の成分からなるように、配置
されている ことを特徴とする装置。 - （１０）特許請求の範囲第９項による装置であつて、少
なくとも二つのかくはん装置（８、９）を含んでおり、
かつその一つが垂直方向のかくはん装置であり、もう一
つが水平方向のかくはん装置である ことを特徴とする装置。 - （１１）特許請求の範囲第９項による装置であつて、一
つの溶融炉もしくはとりべに対して傾斜して取り付けら
れている、少なくとも一つのかくはん装置（５）を含む ことを特徴とする装置。 - （１２）特許請求の範囲第９項による装置であつて、少
なくとも二つの並んで設置された、もしくは周方向に離
れて設置されたかくはん装置（１１、１２）を含む ことを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8506060A SE452991B (sv) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Sett och anordning for att effektivisera slagg-/badreaktioner medelst induktiv omroring |
| SE8506060-6 | 1985-12-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62156220A true JPS62156220A (ja) | 1987-07-11 |
Family
ID=20362551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61302731A Pending JPS62156220A (ja) | 1985-12-20 | 1986-12-18 | スラグ浴反応の能率を高める方法ならびに装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4778518A (ja) |
| EP (1) | EP0228024B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62156220A (ja) |
| DE (1) | DE3686641T2 (ja) |
| SE (1) | SE452991B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63263383A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-31 | アセア ブラウン ボベリ アクチーボラグ | ライニングの摩耗を減らす方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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