JPS62153734A - 測定方法および装置 - Google Patents

測定方法および装置

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JPS62153734A
JPS62153734A JP29270685A JP29270685A JPS62153734A JP S62153734 A JPS62153734 A JP S62153734A JP 29270685 A JP29270685 A JP 29270685A JP 29270685 A JP29270685 A JP 29270685A JP S62153734 A JPS62153734 A JP S62153734A
Authority
JP
Japan
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light
gas
wavelength
intensity
ultraviolet rays
Prior art date
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Pending
Application number
JP29270685A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayoshi Oosakaya
大坂谷 隆義
Shuichi Hanajima
花島 秀一
Seiichi Takei
武井 清一
Yasuo Muraki
村木 泰雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Fielding Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Fielding Corp
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi High Tech Fielding Corp filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS62153734A publication Critical patent/JPS62153734A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は、測定技術、特に、単波長の紫外線の強度の測
定に通用して有効な技術に関する。
[背景技術] たとえば、半導体装置の製造におけるウェハ処理工程に
おいては、エツチング処理後、ウェハ表面を所定のパタ
ーンに隠蔽している、有機物などからなるフォトレジス
トを酸化し、ガス化して除去するなどの目的で、次のよ
うなフォトレジスト除去処理が行われる場合がある。
すなわち、ウェハを酸素ガス雰囲気中に位置させつつ、
低圧水銀ランプなどの光源から得られる紫外線を照射し
、たとえば波長L 85 nmの紫外線によるオゾン(
03)の生成と、波長254nmの紫外線によるオゾン
の解離とを同時に行わせ、この時発生される酸素ラジカ
ルなどによってを機動などからなるフォトレジストの酸
化除去が促進されるようにしたものである。
この場合、低圧水銀ランプなどの光源から得られる波長
185nmおよび波長254nmの紫外線の強度を精確
に把握することがフォトレジスト除去処理を適切に制御
するなどの観点から重要となる。
たとえば、波長185nmの紫外線の測定においては、
大気中の酸素ガスによる吸収を防止するため、真空中で
行うことが考えられるが、真空排気機構などが必要とな
るため測定装置が大損りで高価となるばかりでなく、測
定作業が煩雑となるなど、種々の不具合があることを本
発明者は見いだした。
なお、半導体装置の製造における一ウェハ処理工程で行
われる紫外線照射について説明されている文献としては
、株式会社工業調査会、昭和60年11月20日発行、
[1i子材料J 1985年別冊P89〜P941があ
る。
[発明の目的] 本発明の目的は、簡便に光の強度を測定することが可能
な測定技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
[発明の概要] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、波長の異なる第1および第2の光を放射する
光源から、光の強度を検知する検出部に到る光路に介在
される筒体と、該筒体の検出部側端部に設けられ、第1
の光のみを選択して検出部に到達させる光選択手段と、
第1および第2の光のいずれも吸収しない第1の気体と
、第2の光を吸収することによって、第1の光を吸収す
る第3の気体を生成する第2の気体とを個別に筒体内部
に流通させる気体供給部とを設け、筒体内を第1および
第2の気体が個別に流通される際に、検出部に得られる
第1の光の強度変化に基づいて第2の光の強度が測定さ
れる構造とすることにより、たとえば、測定作業を真空
中で行うことなどに起因して、装置が複雑かつ高価とな
ったり測定作業が煩雑となることを回避し、光の測定が
簡便に行われるようにしたものである。
[実施例] 第1図は、本発明の一実施例である測定装置の構成を示
す説明図である。
たとえば、低圧水銀ランプなどからなり、波長254 
nmの紫外線A(第1の光)および波長185nmの紫
外線B(第2の光)などを含む光を放出する光′alに
は、測定セル2(筒体)の開放端が密着されている。
測定セル2の他端部には、前記紫外″&!Aのみを透過
させるフィルタ3が設けられ、測定セル2の端部に対向
して位置される受光素子4には、光源1から測定セル2
の内部に放射された光の中で、紫外線Aのみが到達され
、検知される構造とされている。
また、受光素子4において検知される紫外線Aの強度は
、増幅部5を介して出力されるように構成されている。
前記測定セル2の両端部側面には、気体供給部6が接続
されるガス流入ノズル7および外部に開放された排気ノ
ズル8がそれぞれ設けられている。
前記気体供給部6は、たとえば、窒素ガス源6aおよび
酸素ガスa6bと切換弁6Cなどで構成され、該切換弁
6Cを適宜制御することにより、紫外線AおよびBのい
ずれも吸収しない窒素ガス9(第1の気体)および、波
長185nmの紫外線Bを吸収して、波長254nmの
紫外線Aを吸収するオゾン(03)(第3の気体)を生
成する酸素ガス10 (第2の気体)が、個別に順次測
定セル2の内部に流入され、光ailと受光素子4との
間における光路に介在されるように構成されている。
以下、本実施例の作用について説明する。
始めに、光源1が点灯されるとともに、気体供給部6の
切換弁6cを操作することにより、測定セル2の内部に
は、窒素ガス9が流通される。
この時、波長254nmの紫外線Aは窒素ガス9によっ
て吸収されず、また、光源lから受光素子4に到る光路
に紫外線Aのみを透過させるフィルタ3が設けられてい
るため、受光素子4には、光源lから放射される紫外I
Aの強度I0が検知される。
次に、切換弁6Cを操作することにより、・測定セル2
に酸素ガスlOを流通させると、該酸素ガス10は波長
185 nmの紫外線Bを吸収してオゾン(0,)を生
成する。酸素ガス10の所定の流量におけるオゾンの4
度Nは、光源lから放射される波長185nmの紫外L
9Bの強度I3..に比例し、 N−k ’ 11as  (kは定数)  ・・・・・
[11となる。
この時、生成されたオゾンによって波長254nmの紫
外線Aは吸収され、その吸収量ΔI2,4は、測定セル
の長さをし、オゾンの紫外線Aに対する吸収係数をαと
すれば、 ΔI□6M−αNL・夏。    ・・・・・(2)と
なる。
従って、測定セル2の内部に、酸素ガスlOを流通させ
た時に、受光素子4によって検知される波長254nm
の紫外線への強度1.は、lt−1o−ΔI 254 一■。(1−αNL)    ・・・・・(3)となり
、式(3)をNについて解けば、N−(1/αL)(1
i、/[。)・・(4)となり、さらに式(4)と(1
)とから、1、ss ” (1/kctL)(1−1,
/io )・・・・・(5) が得られる。
すなわち、測定セル2の内部に窒素ガス9と酸素ガス1
0とを個別に流通させ、各々の場合において受光素子4
においてそれぞれ検知される波長254nmの紫外線A
の強度■。と■、とを測定することにより、光atから
紫外vAAとともに放射される波長185nmの紫外線
Bの強度■、。
を簡便かつ短時間に知ることができる。
また、式(4)により、光源lと受光素子4との間に介
在されるオゾンの濃度Nも知ることが可能となる。
このように、本実施例によれば、測定作業が大気圧下で
行われ、真空排気機構などを設ける必要がなり、装置の
構造が簡単化されるとともに、測定手順なども簡革であ
り、低圧水銀ランプなどの光源1から放射される波長1
85nmの紫外線Bの強度を簡便かつ短時間に測定でき
る。
この結果、測定装置の小型化および低価格化が可能とな
り、光の強度測定における生産性が向上される。
[効果] (1)、波長の異なる少なくとも第1および第2の光を
放射する光源から、光の強度を検知する検出部に到る光
路に介在される筒体と、咳筒体の前記検出部側端部に設
けられ、前記第1の光のみを選択して検出部に到達させ
る光選択手段と、前記第1および第2の光のいずれも吸
収しない第1の気体と、前記第2の光を吸収することに
よって、前記第1の光を吸収する第3の気体を生成する
第2の気体とを個別に前記筒体内部に流通させる気体供
給部とからなり、前記筒体内を前記第1および第2の気
体が個別に流通される際に、前記検出部に得られる前記
第1の光の強度変化に基づいて前記第2の光の強度が測
定されるため、たとえば、真空排気機構などを設ける必
要がなく、装置の構造が筒車化されるとともに、測定手
順なども簡単となり、光源から放射される光線の強度を
簡便かつ短時間に測定できる。
(2)、前記(1)の結果、筒体内に、窒素ガスおよび
酸素ガスを個別に順次流通させることにより、低圧水銀
ランプなどから放射される波長185nmの紫外線の強
度を、同時に放射される波長2540mの紫外線の強度
変化を測定することによって簡便に計測することができ
る。
(3)、前記(1)の結果、光源と検出部との間に介在
されるオゾンi1度を測定することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、測定される光としては、紫外線に限らず他の
いかなる光であっても良く、筒体内を流通される気体と
しては、窒素ガス、酸素ガスなどに限らず、他のいかな
る気体であっても良い。
[利用分野] 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である紫外線の強度測定技
術に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、光の強度を簡便に測定することが必要
とされる技術に広く適用できる。
【図面の簡単な説明】 第1図は、本発明の一実施例である測定装置の構成を示
す説明図である。 1・・・光源、2・・・測定セル(筒体)、3・・・フ
ィルタ(光選択手段)、4・・・受光素子(検出部)、
5・・・増幅部、6・・・気体供給部、6a・・・窒素
ガス源、6b・・・酸素ガス源、6c・・・切換弁、7
・・・ガス流入ノズル、8・・・排気ノズル、9・・・
窒素ガス(第1の気体)、10・・・酸素ガス(第2の
気体)、A・・・波長254nmの紫外線(第1の光)
、B・・・波長lB5nmの紫外線(第2の光)、L・
・・測定セルの長さ。 第  1  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、波長の異なる少なくとも第1および第2の光を放射
    する光源から、前記第1の光の強度を検知する検出部に
    到る光路に、前記第1および第2の光のいずれも吸収し
    ない第1の気体と、前記第2の光を吸収することによっ
    て、前記第1の光を吸収する第3の気体を生成する第2
    の気体とを順次介在させ、各々の場合において前記検出
    部に得られる前記第1の光の強度変化に基づいて前記第
    2の光の強度を測定することを特徴とする測定方法。 2、前記第1および第2の光が、それぞれ波長254n
    mおよび波長185nmの紫外線であり、前記第1、第
    2および第3の気体が、それぞれ窒素ガス、酸素ガスお
    よびオゾンであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の測定方法。 3、波長の異なる少なくとも第1および第2の光を放射
    する光源から、光の強度を検知する検出部に到る光路に
    介在される筒体と、該筒体の前記検出部側端部に設けら
    れ、前記第1の光のみを選択して検出部に到達させる光
    選択手段と、前記第1および第2の光のいずれも吸収し
    ない第1の気体と、前記第2の光を吸収することによっ
    て、前記第1の光を吸収する第3の気体を生成する第2
    の気体とを個別に前記筒体内部に流通させる気体供給部
    とからなり、前記筒体内を前記第1および第2の気体が
    個別に流通される際に、前記検出部に得られる前記第1
    の光の強度変化に基づいて前記第2の光の強度が測定さ
    れることを特徴とする測定装置。 4、前記第1および第2の光が、それぞれ波長254n
    mおよび波長185nmの紫外線であり、前記第1、第
    2および第3の気体が、それぞれ窒素ガス、酸素ガスお
    よびオゾンであることを特徴とする特許請求の範囲第3
    項記載の測定装置。
JP29270685A 1985-12-27 1985-12-27 測定方法および装置 Pending JPS62153734A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100866589B1 (ko) * 2006-02-27 2008-11-03 가부시키가이샤 덴소 광학 가스 검출장치

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