JPS62150311A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
- Publication number
- JPS62150311A JPS62150311A JP29540385A JP29540385A JPS62150311A JP S62150311 A JPS62150311 A JP S62150311A JP 29540385 A JP29540385 A JP 29540385A JP 29540385 A JP29540385 A JP 29540385A JP S62150311 A JPS62150311 A JP S62150311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objective lens
- observed
- optical system
- focus adjustment
- automatic focus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分!1ブコ
この発明は、光学系と被観測物とを相対的に移動させな
がらその光学系により被& atll物を& 7111
1する光学装置に関し、特に、光学系の少なくとも対物
レンズと被観測物との距離を変化させることにより、被
観測物に光学系の焦点を自動的に合わせる自動焦点調節
機能を有する光学装置に関する。
がらその光学系により被& atll物を& 7111
1する光学装置に関し、特に、光学系の少なくとも対物
レンズと被観測物との距離を変化させることにより、被
観測物に光学系の焦点を自動的に合わせる自動焦点調節
機能を有する光学装置に関する。
[従来の技術]
この種の光学装置乏して、ウェハやマスクのパターン・
1法やパターン合わせ精度を測定する微小・j法測定装
置、ウェハなとの表面欠陥や付1t’A物を検出する人
面検合装置なとかある。
1法やパターン合わせ精度を測定する微小・j法測定装
置、ウェハなとの表面欠陥や付1t’A物を検出する人
面検合装置なとかある。
・股に、このような光学装置は、光学系の対物レンズと
被観測物との距離を変化させることにより、?m1dJ
測物に光学系の焦点を自動的に合わせる自動焦点調整機
能をωi+えている。
被観測物との距離を変化させることにより、?m1dJ
測物に光学系の焦点を自動的に合わせる自動焦点調整機
能をωi+えている。
[解決しようとする問題点コ
そのようなi尾束の光”:” ’SA置においては、自
動イ、11、点調整機能を働かせて動4′1させた場合
、1fJJ/1III点か被観測物の外側に移動した1
1冒こ、波観測物が載置されているX−Yテーブルのチ
ャック面に自動的に焦点か合わされ、光学系の対物レン
ズの尤Djjli部か被観測物の端よりド側までド降す
る。その結果、その後に観測点が被観測物側へ移動した
時に、対物レンズの先端部が被観測物の端に衝突し、対
物レンズや被fl /l1ll物の破損なとが起こる場
合かあった。
動イ、11、点調整機能を働かせて動4′1させた場合
、1fJJ/1III点か被観測物の外側に移動した1
1冒こ、波観測物が載置されているX−Yテーブルのチ
ャック面に自動的に焦点か合わされ、光学系の対物レン
ズの尤Djjli部か被観測物の端よりド側までド降す
る。その結果、その後に観測点が被観測物側へ移動した
時に、対物レンズの先端部が被観測物の端に衝突し、対
物レンズや被fl /l1ll物の破損なとが起こる場
合かあった。
[発明の目的コ
この発明の1−1的は、そのような対物レンズと被観測
物との衝突と、それによる対物レンズや被観測物の破損
を防+l t、た光学装置を提供することにある。
物との衝突と、それによる対物レンズや被観測物の破損
を防+l t、た光学装置を提供することにある。
[問題点を解決するためのP段]
この[1的を達成するためにJこの発明によれば、光学
系と被観測物とを相対的に移動させながら前記光学系に
より前記被観測物を観測するものであって、前記光学系
の少なくとも対物レンズと前記波観測物との距離を変化
させることにより前記被観測物に前記光学系の112点
を自動的に合わせる自動焦点調節機能を有する光学装置
において、+]i+記光学余光学系観測点が所定の自動
焦点調整範囲内であるか否かを判定する判疋F段と、こ
の手段による刊′、i:結宋に応答し、前記観測点か前
記自動焦点調整範囲の外部にある場合に前記自動焦点調
整機能を抑11−する手段とか備えられる。
系と被観測物とを相対的に移動させながら前記光学系に
より前記被観測物を観測するものであって、前記光学系
の少なくとも対物レンズと前記波観測物との距離を変化
させることにより前記被観測物に前記光学系の112点
を自動的に合わせる自動焦点調節機能を有する光学装置
において、+]i+記光学余光学系観測点が所定の自動
焦点調整範囲内であるか否かを判定する判疋F段と、こ
の手段による刊′、i:結宋に応答し、前記観測点か前
記自動焦点調整範囲の外部にある場合に前記自動焦点調
整機能を抑11−する手段とか備えられる。
[作用コ
このような構成であるから、被観測物の端が自動焦点調
整範囲の外側に占位するように自動焦点調整範囲が設定
されるならば、波観測物の外側で焦点合わせがなされる
ことによって、光学系の対物レンズの先端部か被観測物
のy%Jよりド側になることはなくなり、したかって、
従来のような衝突と、それによる損傷は起こらない。
整範囲の外側に占位するように自動焦点調整範囲が設定
されるならば、波観測物の外側で焦点合わせがなされる
ことによって、光学系の対物レンズの先端部か被観測物
のy%Jよりド側になることはなくなり、したかって、
従来のような衝突と、それによる損傷は起こらない。
[実施例]
以ド、図面を参照し、この発明の一太層側について説明
する。
する。
第1図に、この発明が適用された微/jいJ/、!、測
定装置の一例を小す。このvett+いj法測定装置は
、ウェハのパターン・1法、パターン合わせずれなどを
事青密4川定するものである。
定装置の一例を小す。このvett+いj法測定装置は
、ウェハのパターン・1法、パターン合わせずれなどを
事青密4川定するものである。
第1図において、10はX−Yステージ機構である。図
小しないローダ/アンローダによりX−Yステージ機構
10のチャンク面に搬入されたウェハ12(被観測物)
は、そのオリフラ(オリエンテーションフラット)13
を基をとして位置決めされて保持されるようになってい
る。
小しないローダ/アンローダによりX−Yステージ機構
10のチャンク面に搬入されたウェハ12(被観測物)
は、そのオリフラ(オリエンテーションフラット)13
を基をとして位置決めされて保持されるようになってい
る。
ウェハ12の1−1石は、ハロゲンランプ16によりミ
ラー18、アクロマチックレンズ20およびハーフミラ
−22を介して照明される。このようにして照明された
ウェハ12の1゛而の局所的明暗像は、パターン検出光
学系24によって観測される。
ラー18、アクロマチックレンズ20およびハーフミラ
−22を介して照明される。このようにして照明された
ウェハ12の1゛而の局所的明暗像は、パターン検出光
学系24によって観測される。
コノハターン’0 出光学系24は、対物レンズ26.
1);i記ハーフミラ−22、ハーフミラ−28、スリ
ット30X、30Y1 リレーレンズ32X。
1);i記ハーフミラ−22、ハーフミラ−28、スリ
ット30X、30Y1 リレーレンズ32X。
32Y1 ミラー34、/リンドリ力ルレンス36X、
36Y、CCI)リニアイメージセンサ38X。
36Y、CCI)リニアイメージセンサ38X。
38Y1対物レンズ26に固定された静電容;11変位
計60から構成されている。対物レンズ26は、それ自
体をZ力量に微動させるアクチュエータが内蔵されてい
る。
計60から構成されている。対物レンズ26は、それ自
体をZ力量に微動させるアクチュエータが内蔵されてい
る。
対物レンズ26で決まるウェハ而1−の視野内の明暗像
は、スリット30X、30Yを介して視野をさらに絞ら
れてCCI)リニアイメージセンサ38X、38Yに撮
像される。スリ7)30XのアパーチャはX−Yステー
ジ機構10の座標系のX軸と・1口こされており、対物
レンズ26の視野内の中心を通る細長いX方向の視野の
像がCCI) Uニアイメージセンサ38Xに結像する
。同様に、他方のCCI)リニアイメージセンサ38X
の視野は、スリット30Yによって対物レンズ26の視
野の中心を通るY方向の細長い領域に絞られ、そノ視野
内のウェハ像がCCl)リニアイメージセンサ38Xに
結像される。前記CCl)リニアイメージセンサ38X
、38Yは、それぞれに摩1−像した明暗パターンを画
素分解して読み取り、アナログ111q (+ i”J
をシリアルに出力する。
は、スリット30X、30Yを介して視野をさらに絞ら
れてCCI)リニアイメージセンサ38X、38Yに撮
像される。スリ7)30XのアパーチャはX−Yステー
ジ機構10の座標系のX軸と・1口こされており、対物
レンズ26の視野内の中心を通る細長いX方向の視野の
像がCCI) Uニアイメージセンサ38Xに結像する
。同様に、他方のCCI)リニアイメージセンサ38X
の視野は、スリット30Yによって対物レンズ26の視
野の中心を通るY方向の細長い領域に絞られ、そノ視野
内のウェハ像がCCl)リニアイメージセンサ38Xに
結像される。前記CCl)リニアイメージセンサ38X
、38Yは、それぞれに摩1−像した明暗パターンを画
素分解して読み取り、アナログ111q (+ i”J
をシリアルに出力する。
40は処理−制御系である。この処理・制御系40は、
オフセット補正回路42、アナログ/デ/タル変換1’
:r 44 、画像メモリ46、マイクロブロセ、す4
8、RAM50、キーボード52とそのインターフェイ
ス回路54、X−Yステージ駆動回路56および対物レ
ンズ駆動回路62と、そのインターフェイス回路58か
らなる。CCI)リニアイメージセンサ38X、38Y
やアナログ/デンタル変換器44の駆動制御に関係する
回路も存在するが、それは図示されていない。
オフセット補正回路42、アナログ/デ/タル変換1’
:r 44 、画像メモリ46、マイクロブロセ、す4
8、RAM50、キーボード52とそのインターフェイ
ス回路54、X−Yステージ駆動回路56および対物レ
ンズ駆動回路62と、そのインターフェイス回路58か
らなる。CCI)リニアイメージセンサ38X、38Y
やアナログ/デンタル変換器44の駆動制御に関係する
回路も存在するが、それは図示されていない。
X−Yステージ駆動回路56は、マイクロプロセ、す4
8からインターフェイス回路58を介してすえられる制
御情報に従い、X−Yステージ機構10の図示しないX
、Y方向駆動用モータを駆動するものである。X−Yス
テージ機構IOには、X、Y方向の位置を検出するため
の位置エンコーダ(図示せず)が設けられており、その
位置エンコーダの出カイ11号はインターフェイス回路
58を介してマイクロプロセッサ48側に人力されるよ
うになっている。
8からインターフェイス回路58を介してすえられる制
御情報に従い、X−Yステージ機構10の図示しないX
、Y方向駆動用モータを駆動するものである。X−Yス
テージ機構IOには、X、Y方向の位置を検出するため
の位置エンコーダ(図示せず)が設けられており、その
位置エンコーダの出カイ11号はインターフェイス回路
58を介してマイクロプロセッサ48側に人力されるよ
うになっている。
CCI)リニアイメージセンサ38X、38Yから出力
されるアナログI”’I (+ 、’Jは、オフセット
袖市回路42によりオフセ、I・を捕11:されてから
アナログ/デンタル変換に444に人力され、そこでデ
/タル画(+;S7(画像データと称す)に変換されて
1+I+i(4メモリ46に人力される。マイクロブロ
セ。
されるアナログI”’I (+ 、’Jは、オフセット
袖市回路42によりオフセ、I・を捕11:されてから
アナログ/デンタル変換に444に人力され、そこでデ
/タル画(+;S7(画像データと称す)に変換されて
1+I+i(4メモリ46に人力される。マイクロブロ
セ。
す48は、この画像メモリ46をアクセスl■能であり
、また画像メモリ46への画像データの+’F込みを制
御できる。
、また画像メモリ46への画像データの+’F込みを制
御できる。
静電界;11変位計60は、自動焦点合オ)せに関IJ
。
。
するものであり、それ自体から、その対向面(ウェハ而
またはX−Yステージ機構lOのチャック而)までの距
離と基型距離との差(変位)に対応した(+i号を発生
する。この信t)は対物レンズ駆動回路62に人力され
る。この対物レンズ駆動回路62は、インターフェイス
回路58からりえられる焦点+1F調整イ、:号°がオ
ン状態の期間に、静電界111変位、it 60の出カ
イ11号が基環′電位となるように、対物レンズ26の
内蔵アクチュエータの駆動電11−を調整することに1
− tl、焦点合わせを行う。焦点内調整信号がオフ状
態の期間には、同アクチュエータの駆動電圧を焦点+I
F調整信zj・がオフ状態に変化する直前の値に保持す
る。
またはX−Yステージ機構lOのチャック而)までの距
離と基型距離との差(変位)に対応した(+i号を発生
する。この信t)は対物レンズ駆動回路62に人力され
る。この対物レンズ駆動回路62は、インターフェイス
回路58からりえられる焦点+1F調整イ、:号°がオ
ン状態の期間に、静電界111変位、it 60の出カ
イ11号が基環′電位となるように、対物レンズ26の
内蔵アクチュエータの駆動電11−を調整することに1
− tl、焦点合わせを行う。焦点内調整信号がオフ状
態の期間には、同アクチュエータの駆動電圧を焦点+I
F調整信zj・がオフ状態に変化する直前の値に保持す
る。
この微小11法測定装置は、RAM50に格納されてい
るプログラムに従い、X−Yステージ駆動回路56を介
してX−Yステージ機構10を移動させ、ウェハ12の
表面に関する画像データを画像メモリ46に得、その画
像データに基づき、ウェハ[−の配線パターンやレジス
トパターンの・j法測定や合わせ精度測定などを行う。
るプログラムに従い、X−Yステージ駆動回路56を介
してX−Yステージ機構10を移動させ、ウェハ12の
表面に関する画像データを画像メモリ46に得、その画
像データに基づき、ウェハ[−の配線パターンやレジス
トパターンの・j法測定や合わせ精度測定などを行う。
このような/IIII定動作そのものは従来と同様であ
るので、その詳細説明は割愛する。
るので、その詳細説明は割愛する。
さて、この微)[いJ法測定装置においては、測定点(
パターン検出光学系24の#JJ ?!III点)を移
動させる度に、焦点調整が行われる。この発明はこの焦
点調整に係わるので、以ド、詳細に、説明する。
パターン検出光学系24の#JJ ?!III点)を移
動させる度に、焦点調整が行われる。この発明はこの焦
点調整に係わるので、以ド、詳細に、説明する。
ある測定点から別の測定点へ移動させる7認か11じる
と、位置決め割込みが牛しる。この割込みか生じると、
マイクロプロセッサ48は測定処理のためのトブログラ
11から、RAM50に格納されているルー千ン50A
に分岐し、それを実行する。第2図はその概略フローチ
ャートであり、以ドの説明中に適宜参照する。
と、位置決め割込みが牛しる。この割込みか生じると、
マイクロプロセッサ48は測定処理のためのトブログラ
11から、RAM50に格納されているルー千ン50A
に分岐し、それを実行する。第2図はその概略フローチ
ャートであり、以ドの説明中に適宜参照する。
まず、マイクロプロセッサ48は、RAM501−の座
標テーブル50Bから次の観測点の座標データを読み出
し、その座標データを内Nくレジスタに保持する(ステ
ップ100)。そして、この座標データに基づき、それ
により示される次観測点からウェハ12の中心までの距
離1)を算出し、その結果を内部レジスタに保持する(
ステップ105)。
標テーブル50Bから次の観測点の座標データを読み出
し、その座標データを内Nくレジスタに保持する(ステ
ップ100)。そして、この座標データに基づき、それ
により示される次観測点からウェハ12の中心までの距
離1)を算出し、その結果を内部レジスタに保持する(
ステップ105)。
ここで、本実施例においては、ウェハ12の周辺部を除
いた、゛1′径Rの円形領域(中心はウェハ中心と ・
致)を、自動焦点調整範囲として説定されている。
いた、゛1′径Rの円形領域(中心はウェハ中心と ・
致)を、自動焦点調整範囲として説定されている。
さて、マイクロプロセッサ48は、息?出した距離1)
と自動焦点調整範囲の゛I′径Rとを比較することによ
り、次の観測点が自動焦点調整範囲内であるか占かの判
定を’4Jう(ステップ115)。I)<R(次の観測
点は自動焦点調整範囲内)ならば、マイクロプロセッサ
48は、RAM501のレジスタ50Cの1.’i 疋
ビゾト(フラグFと称す)を“。
と自動焦点調整範囲の゛I′径Rとを比較することによ
り、次の観測点が自動焦点調整範囲内であるか占かの判
定を’4Jう(ステップ115)。I)<R(次の観測
点は自動焦点調整範囲内)ならば、マイクロプロセッサ
48は、RAM501のレジスタ50Cの1.’i 疋
ビゾト(フラグFと称す)を“。
1゛にセットする(ステップ115)。1)≧R(次の
観測点か自動焦点調整範囲外)ならば、マイクロプロセ
ッサ48はフラグFをリセットする(ステップ117)
。
観測点か自動焦点調整範囲外)ならば、マイクロプロセ
ッサ48はフラグFをリセットする(ステップ117)
。
次にマイクロプロセッサ48は、ステップ106におい
て内部レジスタに保f、’+シだ座標データをインター
フェイス回路58を介してX−Yステーン駆動回路56
に送り、その座標データで指定される次観測点を、パタ
ーン検出光学系24の視野の中心に合わせるようにX−
Yステージ機構10を作動させる(ステップ120)c この位置決めが終rすると、マイクロプロセッサ48は
フラグFをチェツクしくステップ+25)、F=1なら
ば、インターフェイス回路58から出る焦点Frr調整
信号を一定時間だけオンさせて、対物レンズ駆動回路6
2により対物1/ンズ26のZノj向位置の調整を行わ
せ、観測点に焦点を一致させ(ステップ130)、この
ルー千ンを終了する。
て内部レジスタに保f、’+シだ座標データをインター
フェイス回路58を介してX−Yステーン駆動回路56
に送り、その座標データで指定される次観測点を、パタ
ーン検出光学系24の視野の中心に合わせるようにX−
Yステージ機構10を作動させる(ステップ120)c この位置決めが終rすると、マイクロプロセッサ48は
フラグFをチェツクしくステップ+25)、F=1なら
ば、インターフェイス回路58から出る焦点Frr調整
信号を一定時間だけオンさせて、対物レンズ駆動回路6
2により対物1/ンズ26のZノj向位置の調整を行わ
せ、観測点に焦点を一致させ(ステップ130)、この
ルー千ンを終了する。
F≠1の場合、つまり観測点が自動焦点調整範囲の外側
にある場合、マイクロプロセッサ48はステップ130
をスキップする。つまり、自動焦点調整機能を抑11す
るわけである。このように自動焦点調整機能か抑11さ
れるため、対物レンズ26の焦点がウェハ12の外側の
チャ、り而に合わされることによって、対物レンズ26
の先端部かウェハ而より低い位置に移動させられること
はない。したがって、その後に自動焦点調整範囲内の観
測点に移動す際に、対物レンズ26の先端部とウェハ1
2の端との衝突は起こらない。
にある場合、マイクロプロセッサ48はステップ130
をスキップする。つまり、自動焦点調整機能を抑11す
るわけである。このように自動焦点調整機能か抑11さ
れるため、対物レンズ26の焦点がウェハ12の外側の
チャ、り而に合わされることによって、対物レンズ26
の先端部かウェハ而より低い位置に移動させられること
はない。したがって、その後に自動焦点調整範囲内の観
測点に移動す際に、対物レンズ26の先端部とウェハ1
2の端との衝突は起こらない。
以1−1−・実施例について説明したが、この発明はそ
れたけに限定されるものではなく、適宜変形して実施で
きるものである。
れたけに限定されるものではなく、適宜変形して実施で
きるものである。
例えば、前記実施例においては、ハードウェア(62)
によって対物レンズ26のZ方向位置を調整して焦点合
わせをJj’っているが、例えば、静電界;を変位、i
l 60の出力信シjをデジタルイ、)−じに変換して
マイクロプロセッサ48側へ入力することにより、ソフ
トウェアで対物レンズ26の位置制御を行って焦点を調
整させてもよい。
によって対物レンズ26のZ方向位置を調整して焦点合
わせをJj’っているが、例えば、静電界;を変位、i
l 60の出力信シjをデジタルイ、)−じに変換して
マイクロプロセッサ48側へ入力することにより、ソフ
トウェアで対物レンズ26の位置制御を行って焦点を調
整させてもよい。
また、対物レンズのZ方向位置を固定し、X−Yテーブ
ル機構IOをx−y−z機構に置換し、ウェハ側をZ方
向に移動させることにより、焦点調整を行ってもよい。
ル機構IOをx−y−z機構に置換し、ウェハ側をZ方
向に移動させることにより、焦点調整を行ってもよい。
さらに、つ〕、ハ12を固定し、パターン検出光学系2
4をx、y、Z方向に移動させてもよい。
4をx、y、Z方向に移動させてもよい。
さらに、この発明は、前記実施例の微小寸法測定装置以
外の同様な光学装置にも適用できる。
外の同様な光学装置にも適用できる。
[発明の効果コ
以1゛、説明したように、この発明によれば、光学系に
よる観測点か所定の自動焦点、3J1整範囲内であるか
否かを判定する判定手段と、この手段による判定結果に
応答し、観測点が自動焦点調整範囲の外部にある場合に
自動焦点調整機能を抑止する丁を段とが備えられるため
、被観測物の端が自動焦点調整範囲の外側に占位するよ
うに自動焦点調整範囲が設定されるならば、光学系の対
物レンズの先端部か被NJJ 1flll物の端よりド
側になることがなくなり、したかって、対物レンズと彼
ItJ!測物の衝突と、それによるtIJ傷を防11.
.できるという効果をjυられる。
よる観測点か所定の自動焦点、3J1整範囲内であるか
否かを判定する判定手段と、この手段による判定結果に
応答し、観測点が自動焦点調整範囲の外部にある場合に
自動焦点調整機能を抑止する丁を段とが備えられるため
、被観測物の端が自動焦点調整範囲の外側に占位するよ
うに自動焦点調整範囲が設定されるならば、光学系の対
物レンズの先端部か被NJJ 1flll物の端よりド
側になることがなくなり、したかって、対物レンズと彼
ItJ!測物の衝突と、それによるtIJ傷を防11.
.できるという効果をjυられる。
第1図はこの発明による微/JいJ′法測測定装置構成
概要図、第2図は自動焦点調整機能の抑11・、などを
説明するためのフローチャートである。 10・・・X−Yステージ機構、12・・・ウェハ(被
観測物)、24・・・パターン検出光学系、26・・・
対物レンズ、30X、30Y・・・スリット、38X。 38Y・・・CCl)リニアイメージセン号、処理・制
御系、48・・・マイクロプロセッサ、50・・・RA
M。 56・・・X−Yステージ駆動回路、60・・・静電界
1i)変位計、62・・・対物レンズ駆動回路。 牛、′I’ +i’を出願人 1トγ;h r’エンジニアリン’/ 株tc 会J1
株式会?l: I 11’/製作所 代理人 弁理1 梶 山 イ、1.是 弁理1 山 木 富1−93
概要図、第2図は自動焦点調整機能の抑11・、などを
説明するためのフローチャートである。 10・・・X−Yステージ機構、12・・・ウェハ(被
観測物)、24・・・パターン検出光学系、26・・・
対物レンズ、30X、30Y・・・スリット、38X。 38Y・・・CCl)リニアイメージセン号、処理・制
御系、48・・・マイクロプロセッサ、50・・・RA
M。 56・・・X−Yステージ駆動回路、60・・・静電界
1i)変位計、62・・・対物レンズ駆動回路。 牛、′I’ +i’を出願人 1トγ;h r’エンジニアリン’/ 株tc 会J1
株式会?l: I 11’/製作所 代理人 弁理1 梶 山 イ、1.是 弁理1 山 木 富1−93
Claims (2)
- (1)光学系と被観測物とを相対的に移動させながら前
記光学系により前記被観測物を観測するものであって、
前記光学系の少なくとも対物レンズと前記被観測物との
距離を変化させることにより前記被観測物に前記光学系
の焦点を自動的に合わせる自動焦点調節機能を有する光
学装置において、前記光学系による観測点が所定の自動
焦点調整範囲内であるか否かを判定する判定手段と、こ
の手段による判定結果に応答し、前記観測点が前記自動
焦点調整範囲の外部にある場合に前記自動焦点調整機能
を抑止する手段とを備えることを特徴とする光学装置。 - (2)自動焦点調整範囲はある半径の円形領域であり、
光学系の観測点と前記自動焦点調整範囲の中心との距離
と前記半径との比較により、判定がなされることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29540385A JPS62150311A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29540385A JPS62150311A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62150311A true JPS62150311A (ja) | 1987-07-04 |
Family
ID=17820157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29540385A Pending JPS62150311A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62150311A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0177611U (ja) * | 1987-11-12 | 1989-05-25 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5655917A (en) * | 1979-10-13 | 1981-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | Protectig device of microscope objective lens |
JPS58182607A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-25 | イ−トン・コ−ポレ−シヨン | 自動焦点位置合せ及び測定装置並びに方法 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP29540385A patent/JPS62150311A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5655917A (en) * | 1979-10-13 | 1981-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | Protectig device of microscope objective lens |
JPS58182607A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-25 | イ−トン・コ−ポレ−シヨン | 自動焦点位置合せ及び測定装置並びに方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0177611U (ja) * | 1987-11-12 | 1989-05-25 |
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