JPS62149364A - パウダ−フイ−ダ− - Google Patents
パウダ−フイ−ダ−Info
- Publication number
- JPS62149364A JPS62149364A JP29047985A JP29047985A JPS62149364A JP S62149364 A JPS62149364 A JP S62149364A JP 29047985 A JP29047985 A JP 29047985A JP 29047985 A JP29047985 A JP 29047985A JP S62149364 A JPS62149364 A JP S62149364A
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- JP
- Japan
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- powder
- plate
- blowing
- gas
- chamber
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、材料の表面だけに種々の特性を与える溶射皮
膜を形成するに用いられる溶射装置に溶射用パウダーを
供給する粉末供給装置、すなわちパウダーフィーダーの
改良に関する。
膜を形成するに用いられる溶射装置に溶射用パウダーを
供給する粉末供給装置、すなわちパウダーフィーダーの
改良に関する。
（従来の技術）
一般に、溶射装置のガンにはパウダーが多用されている
。その場合の殆んどは、定量供給の目的で、パウダーフ
ィーダーにより種々のパウダーが、溶射ガンに供給され
ている。このパウダーフィーダーは従来第７図〜第９図
に示す構造を示している。
。その場合の殆んどは、定量供給の目的で、パウダーフ
ィーダーにより種々のパウダーが、溶射ガンに供給され
ている。このパウダーフィーダーは従来第７図〜第９図
に示す構造を示している。
第７図において、ｌがパウダーフィーダーであり、多く
の羽根１０が植え付けられた回転ホイール３が、モータ
ー（図示しない）により制御回転される。この時、掻き
取られたパウダー１２は、通常、ガスポンベ８より供給
されるＡｒガス等がガス吹出ノズル９から吹出し、吹き
飛ばされ、パウダー供給用パイプ１１を通過して、溶射
ガン（図示せず）まで送り込まれる。溶射パウダーの供
給速度は、このモーターの回転（ｒｐｍ）制御すること
によって行なわれる。
の羽根１０が植え付けられた回転ホイール３が、モータ
ー（図示しない）により制御回転される。この時、掻き
取られたパウダー１２は、通常、ガスポンベ８より供給
されるＡｒガス等がガス吹出ノズル９から吹出し、吹き
飛ばされ、パウダー供給用パイプ１１を通過して、溶射
ガン（図示せず）まで送り込まれる。溶射パウダーの供
給速度は、このモーターの回転（ｒｐｍ）制御すること
によって行なわれる。
第８図には回転ホイール３の整面図、第９図は羽根１０
部分の斜視図を示す。
部分の斜視図を示す。
なお、パウダーホッパー２内の溶射パウダー１２はヒー
ターブランケット７により昇温される。
ターブランケット７により昇温される。
（解決しようとする問題点）
従来の溶射作業においては、従来方式のパウダーフィー
ターで１−分対応可能であったが、特に最近の傾向とし
て、溶射ガンの高出力と見合って、溶射の高能率化の傾
向がありまた、溶射膜品質の向−１−や、又、溶射パウ
ダーの溶射作業前の処理（たとえば、酸化物の除去等の
脱酸処理等）等の傾向が顕著になっており、従来のパウ
ダーフィーダーでは、対応しきれない様になりつつある
。
ターで１−分対応可能であったが、特に最近の傾向とし
て、溶射ガンの高出力と見合って、溶射の高能率化の傾
向がありまた、溶射膜品質の向−１−や、又、溶射パウ
ダーの溶射作業前の処理（たとえば、酸化物の除去等の
脱酸処理等）等の傾向が顕著になっており、従来のパウ
ダーフィーダーでは、対応しきれない様になりつつある
。
例えば、大容量化＝高能率化に対しては、回転ホイール
の回転数をトげることにより、対処しようとする訳であ
るが１羽根の断面積、及びその羽根の通過部分の断面積
は、予め、その装置で決っているため、単に回転数を上
げるだけでは、パウダーの吐出績増はできない。これは
回転ホイールの回転数をヒげ過ぎた場合、パウダーと羽
根との相対速度が大きくなるため、上部のパウダーの落
下速度が間に合わなくなるためである。この様なことか
ら１回転数制御だけでは、目ら限界がある。
の回転数をトげることにより、対処しようとする訳であ
るが１羽根の断面積、及びその羽根の通過部分の断面積
は、予め、その装置で決っているため、単に回転数を上
げるだけでは、パウダーの吐出績増はできない。これは
回転ホイールの回転数をヒげ過ぎた場合、パウダーと羽
根との相対速度が大きくなるため、上部のパウダーの落
下速度が間に合わなくなるためである。この様なことか
ら１回転数制御だけでは、目ら限界がある。
即ち、第６図に回転ホイールの回転数（ｒｐａ＋）と、
パウダーの吐出速度（ｇ／ｗｉｎ）との関係を示す、従
来のパウダーフィーダーの供給パターンは、図中（ａ）
のパターンで、少量供給であるが、現在求められている
ものは、（ａ）〜（ｂ）に広く対応できるパウダーフィ
ーダーである。
パウダーの吐出速度（ｇ／ｗｉｎ）との関係を示す、従
来のパウダーフィーダーの供給パターンは、図中（ａ）
のパターンで、少量供給であるが、現在求められている
ものは、（ａ）〜（ｂ）に広く対応できるパウダーフィ
ーダーである。
即ち、高能率溶射の場合には（ｂ）パターンで、その他
の場合には（ａ）〜（ｂ）の間の種々のパターンが要求
される場合も多い。しかし、このために、大容量〜中容
量〜小容賃用と各種のパウダーフィーダーを、何台も準
備するのはコスト的に有利ではない。
の場合には（ａ）〜（ｂ）の間の種々のパターンが要求
される場合も多い。しかし、このために、大容量〜中容
量〜小容賃用と各種のパウダーフィーダーを、何台も準
備するのはコスト的に有利ではない。
又、近年、高品位膜への要求が大きく１例えばパウダフ
ィーダー内で、脱酸処理等を行なう場合、密封性、耐熱
性等が要求されるが、これらに対する点でも問題があっ
た。
ィーダー内で、脱酸処理等を行なう場合、密封性、耐熱
性等が要求されるが、これらに対する点でも問題があっ
た。
更に、加えて今日のセラミック溶射指向に対応し、セラ
ミンクパウダーの使用が増加しており、従来の回転ホイ
ールでは金属性であるため耐摩耗性の点で劣っている。
ミンクパウダーの使用が増加しており、従来の回転ホイ
ールでは金属性であるため耐摩耗性の点で劣っている。
セラミック化を行なうにも、現状の羽根構造では、セラ
ミック化は、極めて困難であり二１９実上不可能であっ
た。
ミック化は、極めて困難であり二１９実上不可能であっ
た。
（解決するための手段）
本発明は、パウダーフィーダーを改良し、従来の種々の
問題点を解決しようとするものである。
問題点を解決しようとするものである。
即ち、本発明は、下方の一部にパウダー吹出穴３３を設
けた筒形ホッパー２１内に滑り板２４を立設し、筒形ホ
ッパーの内方下部をパウダーの貯蔵室５２と吹出室５２
Ａに区画し、パウダーの切出開口孔４３を形成させたパ
ウダー切出プレート５１を前記滑り版下部の一部に着脱
Ｔｈ７能に設け、パウダー切出プレートを配設した滑り
板の下部に接して回転可能に回転ホイル３０を配設する
と共、に、該回転ホイル３０の上面より突出させたガス
吹出パイプ３１を配設し、回転ホイル３０の回転でパウ
ダー切出開口孔よりパウダー吹出室５２Ａに切出された
パウダーをガス吹出パイプのガスで吹き飛ばし、パウダ
ー吹出穴３３よりパウダーを吐出供給させるようにして
なることを特徴とするパウダーフィーダーを提供する。
けた筒形ホッパー２１内に滑り板２４を立設し、筒形ホ
ッパーの内方下部をパウダーの貯蔵室５２と吹出室５２
Ａに区画し、パウダーの切出開口孔４３を形成させたパ
ウダー切出プレート５１を前記滑り版下部の一部に着脱
Ｔｈ７能に設け、パウダー切出プレートを配設した滑り
板の下部に接して回転可能に回転ホイル３０を配設する
と共、に、該回転ホイル３０の上面より突出させたガス
吹出パイプ３１を配設し、回転ホイル３０の回転でパウ
ダー切出開口孔よりパウダー吹出室５２Ａに切出された
パウダーをガス吹出パイプのガスで吹き飛ばし、パウダ
ー吹出穴３３よりパウダーを吐出供給させるようにして
なることを特徴とするパウダーフィーダーを提供する。
（作用）
パウダーホッパー２１内の（溶射）パウダー４４は、パ
ウダー貯蔵室５２の滑り板２４下部のパウダー切出し開
口孔４３より、回転ディスク３０に乗せられて１円弧状
の山となって、吹出室５２Ａ内に切り出されてくる。こ
れをガス吹出しパイプ３１から吹き出されるガスにより
、吹き飛ばし、パウダー吹出穴３３へ投入せられる。こ
の後、パウダー供給パイプ３４へ送り込まれ、溶射ガン
（図示せず）に送り込まれ、溶射作業に供される。
ウダー貯蔵室５２の滑り板２４下部のパウダー切出し開
口孔４３より、回転ディスク３０に乗せられて１円弧状
の山となって、吹出室５２Ａ内に切り出されてくる。こ
れをガス吹出しパイプ３１から吹き出されるガスにより
、吹き飛ばし、パウダー吹出穴３３へ投入せられる。こ
の後、パウダー供給パイプ３４へ送り込まれ、溶射ガン
（図示せず）に送り込まれ、溶射作業に供される。
第６図における （ａ）Ｍ（ｂ）の変化をさせたい場合
には、このパウダー切出しプレート５１を適当な穴の大
きさのものに取り換えるだけで良い。
には、このパウダー切出しプレート５１を適当な穴の大
きさのものに取り換えるだけで良い。
更に、そのパウダー排出量の制御は、細かくは回転ホイ
ール３０の回転速度制御によって行なわれる。
ール３０の回転速度制御によって行なわれる。
又、この回転ホイール３０は、レコード盤状で、突起も
羽根もなく単純形状であるため、セラミック化も容易で
あり、耐摩耗性の向上も容易に図れる。
羽根もなく単純形状であるため、セラミック化も容易で
あり、耐摩耗性の向上も容易に図れる。
（実施例）
以下、添付図を用いて本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
る。
第１図において、先ず、パウダーホッパー２１の蓋２２
をとり、瓶等から（溶射用）パウダー４４を入れる。そ
の後、蓋２２で密封する。パウダー４４は、滑り板２４
とパウダーホッパー２１の壁の一部で構成された空間を
降下する。この時、アジテータ−（図示せず）を取り付
けておけば、パウダーの落下は確実である。なお滑り板
２４は筒形ホッパー２１の下部を斜めにパウダーの貯蔵
室５２と吹出室５２Ａに区画しているが滑り板２４を垂
直に立設し上部を水平にして水平部分のパウダーを例え
ば回転羽根でＷｔＨしてもよい、而して、回転ホイル３
０が第１図中の矢印の方向に回転すると滑り板２４の下
部に取り付けられた、パウダー切出しプレート５１の孔
４３の断面形状に応じた山状となって、パウダー４４が
切り出されてくる。第２図はそれぞれ小および大の切出
開口穴４３ａおよび４３ｂをＩＩえたパウダー切出しプ
レート５１ａおよび５１ｂを示している。
をとり、瓶等から（溶射用）パウダー４４を入れる。そ
の後、蓋２２で密封する。パウダー４４は、滑り板２４
とパウダーホッパー２１の壁の一部で構成された空間を
降下する。この時、アジテータ−（図示せず）を取り付
けておけば、パウダーの落下は確実である。なお滑り板
２４は筒形ホッパー２１の下部を斜めにパウダーの貯蔵
室５２と吹出室５２Ａに区画しているが滑り板２４を垂
直に立設し上部を水平にして水平部分のパウダーを例え
ば回転羽根でＷｔＨしてもよい、而して、回転ホイル３
０が第１図中の矢印の方向に回転すると滑り板２４の下
部に取り付けられた、パウダー切出しプレート５１の孔
４３の断面形状に応じた山状となって、パウダー４４が
切り出されてくる。第２図はそれぞれ小および大の切出
開口穴４３ａおよび４３ｂをＩＩえたパウダー切出しプ
レート５１ａおよび５１ｂを示している。
ガスボンベ３Ｂより供給されるＡｒガスが、ガス吹出し
パイプ３１より高速で吹出し、上記の切り出されて出て
来たパウダーの山４４ａを、パウダーホッパー２１の下
部の一部に設けられたパウダー吹出穴３３に向って吹き
込む。
パイプ３１より高速で吹出し、上記の切り出されて出て
来たパウダーの山４４ａを、パウダーホッパー２１の下
部の一部に設けられたパウダー吹出穴３３に向って吹き
込む。
この時、第１図および第３図には省略しているが、実際
には第４図および第５図に示す様なパウダー切出しプレ
ート５１に固着された半円パイプを９０°〜１３５°程
度の範囲のＬ字状にしたカバー５３が取り付けられ、ガ
スパウダーの流れに乱れが生じない様にされている。
には第４図および第５図に示す様なパウダー切出しプレ
ート５１に固着された半円パイプを９０°〜１３５°程
度の範囲のＬ字状にしたカバー５３が取り付けられ、ガ
スパウダーの流れに乱れが生じない様にされている。
パウダー切出開口孔４３の大きさを変える時には、スラ
イド溝５４にパウダー切り出しプレート５１を差し替え
るだけで良い、このパウダー切出プレート５１の切り替
えは、パウダーホッパー２１の吹出し室５２Ａ側に取り
付けられた開閉扉（図示せず）を開き、容易にワンタッ
チで可能である。即ち、この簡単な操作により、第６図
に示した（ａ）〜（ｂ）のいかなる直線の選択も容易に
可能である。
イド溝５４にパウダー切り出しプレート５１を差し替え
るだけで良い、このパウダー切出プレート５１の切り替
えは、パウダーホッパー２１の吹出し室５２Ａ側に取り
付けられた開閉扉（図示せず）を開き、容易にワンタッ
チで可能である。即ち、この簡単な操作により、第６図
に示した（ａ）〜（ｂ）のいかなる直線の選択も容易に
可能である。
（効果）
本発明によれば、簡単で安価な装置により大幅なパウダ
ー供給速度の制Ｗ範囲の変更が可能となった。即ち、パ
ウダー供給速度の制御幅が小量・高精度供給から、大量
供給まで一台で対応可能となり、特に今日要求の強い大
量・高能率溶射も可能となった。
ー供給速度の制Ｗ範囲の変更が可能となった。即ち、パ
ウダー供給速度の制御幅が小量・高精度供給から、大量
供給まで一台で対応可能となり、特に今日要求の強い大
量・高能率溶射も可能となった。
又１回転ホイール３０の形状を単純な形状とすることが
できたことから、セラミック化も容易であり、耐摩耗性
が著しく向上できる。
できたことから、セラミック化も容易であり、耐摩耗性
が著しく向上できる。
更に、パウダー切出開口孔４３を塞ぐ開閉シャッター５
５（駆動系は図示せず）を取り付ければ、パウダーの脱
酸処理用のパウダーフィーダーとして使えるようになる
等本発明の効果は著しい。
５（駆動系は図示せず）を取り付ければ、パウダーの脱
酸処理用のパウダーフィーダーとして使えるようになる
等本発明の効果は著しい。
第１図〜第５図は本発明の一実施例を示し、第１図はパ
ウダーフィーダー全体の斜視図（一部透視図）であり、
第２図はパウダー切出しプレートの正面図、第３図はパ
ウダー吹込み状況図、第４図はパウダー吹込部のカバー
の斜視図、第５図は第４図の平面断面図、第６図は回転
ホイルとパウダー吐出速度との関係を示す図、第７図〜
第９図は従来のパウダーフィーダーを示し、第７図は側
面断面図、第８図は回転ホイルの平面図、第９図は回転
ホイルにｊＱけられた羽根部分の斜視図である。 ２１・・・筒形ホッパー、２４・・・滑り板、３０・・
・回転ホイル、３１・・・ガス吹出パイプ、３３・・・
パウダー吹出穴、４３・・・パウダーの切出開口孔、５
１・・・パウダー切出プレート、５２・・・パウダー貯
蔵室、５２Ａ・・・パウダー吹出室。
ウダーフィーダー全体の斜視図（一部透視図）であり、
第２図はパウダー切出しプレートの正面図、第３図はパ
ウダー吹込み状況図、第４図はパウダー吹込部のカバー
の斜視図、第５図は第４図の平面断面図、第６図は回転
ホイルとパウダー吐出速度との関係を示す図、第７図〜
第９図は従来のパウダーフィーダーを示し、第７図は側
面断面図、第８図は回転ホイルの平面図、第９図は回転
ホイルにｊＱけられた羽根部分の斜視図である。 ２１・・・筒形ホッパー、２４・・・滑り板、３０・・
・回転ホイル、３１・・・ガス吹出パイプ、３３・・・
パウダー吹出穴、４３・・・パウダーの切出開口孔、５
１・・・パウダー切出プレート、５２・・・パウダー貯
蔵室、５２Ａ・・・パウダー吹出室。
Claims (1)
- 下方の一部にパウダー吹出穴３３を設けた筒形ホッパー
２１内に滑り板２４を立設し、筒形ホッパーの内方下部
をパウダーの貯蔵室５２と吹出室５２Ａに区画し、パウ
ダーの切出開口孔４３を形成させたパウダー切出プレー
ト５１を前記滑り板下部の一部に着脱可能に設け、パウ
ダー切出プレートを配設した滑り板の下部に接して回転
可能に回転ホイル３０を配設すると共に、該回転ホイル
３０の上面より突出させたガス吹出パイプ３１を配設し
、回転ホイル３０の回転でパウダー切出開口孔よりパウ
ダー吹出室５２Ａに切出されたパウダーをガス吹出パイ
プのガスで吹き飛ばし、パウダー吹出穴３３よりパウダ
ーを吐出供給させるようにしてなることを特徴とするパ
ウダーフィーダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29047985A JPS62149364A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | パウダ−フイ−ダ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29047985A JPS62149364A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | パウダ−フイ−ダ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149364A true JPS62149364A (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=17756546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29047985A Pending JPS62149364A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | パウダ−フイ−ダ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149364A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015047544A1 (en) | 2013-09-27 | 2015-04-02 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP29047985A patent/JPS62149364A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015047544A1 (en) | 2013-09-27 | 2015-04-02 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
| EP3049551A4 (en) * | 2013-09-27 | 2017-05-31 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
| US9765436B2 (en) | 2013-09-27 | 2017-09-19 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
| US10161048B2 (en) | 2013-09-27 | 2018-12-25 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
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