JPS62148444A - ４，４′−スチルベンジアルデヒド類の製法 - Google Patents
４，４′−スチルベンジアルデヒド類の製法Info
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- JPS62148444A JPS62148444A JP61289094A JP28909486A JPS62148444A JP S62148444 A JPS62148444 A JP S62148444A JP 61289094 A JP61289094 A JP 61289094A JP 28909486 A JP28909486 A JP 28909486A JP S62148444 A JPS62148444 A JP S62148444A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/41—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by hydrogenolysis or reduction of carboxylic groups or functional derivatives thereof
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C65/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
「発明の目的」
［産業上の利用分野］
この発明は、式Ｉにより表示され、
この式Ｉにおける、Ｒ１およびＲ２が、それぞれ独立的
に、下記に定義する反応条件下では還元不可能な置換基
とされ、ｍおよびｎ がそれぞれ独立的に０．１あるい
は２ とされる４、４°−スチルベンジアルデヒド類の
新規な製法に関する。
に、下記に定義する反応条件下では還元不可能な置換基
とされ、ｍおよびｎ がそれぞれ独立的に０．１あるい
は２ とされる４、４°−スチルベンジアルデヒド類の
新規な製法に関する。
この発明の製法は、式Ｉ＋により表示され、この式ＩＩ
における、Ｒ１、Ｒ２１）ｍおよびｎ が式Ｉに対して
定義されたものとされ、×１および×２が、ＸＩとｘ２
は同時に水素であることはないという条件下に、それぞ
れ独立的に水素、塩素あるいは臭素とされる化合物類を
、不活性な無水の非プロトン性有機溶剤中において、貴
金属触媒の存在下に、１５°から２００℃迄の温度範囲
内と１から５０バール迄の圧力下で、予め算出された式
１の化合物を得るのに必要な理論水素量を吸収する迄水
素化し、次いで触媒を分離し、該化合物を単離すること
からなっている。
における、Ｒ１、Ｒ２１）ｍおよびｎ が式Ｉに対して
定義されたものとされ、×１および×２が、ＸＩとｘ２
は同時に水素であることはないという条件下に、それぞ
れ独立的に水素、塩素あるいは臭素とされる化合物類を
、不活性な無水の非プロトン性有機溶剤中において、貴
金属触媒の存在下に、１５°から２００℃迄の温度範囲
内と１から５０バール迄の圧力下で、予め算出された式
１の化合物を得るのに必要な理論水素量を吸収する迄水
素化し、次いで触媒を分離し、該化合物を単離すること
からなっている。
［従来の技術］および
［発明が解決しようとする問題点１
式ＴＩの化合物類の幾つかは知られＣＸｘおよび×２が
同時に水素、塩素および臭素）、また幾つかは新規（Ｘ
Ｉが水素、×２が塩素あるいは臭素）である。
同時に水素、塩素および臭素）、また幾つかは新規（Ｘ
Ｉが水素、×２が塩素あるいは臭素）である。
［問題点を解決するための手段］および［作用］
こうしで、この発明は更に、式■の新規な化合物類およ
びこれ等の製法にも関している。４，４°−スチルベン
ジアルデヒド類の製造に対する、式■の化合物類の使用
もまた、この発明の範囲内にある。
びこれ等の製法にも関している。４，４°−スチルベン
ジアルデヒド類の製造に対する、式■の化合物類の使用
もまた、この発明の範囲内にある。
式Ｉの化合物においては、Ｒ１およびＲ２が、それぞれ
独立的に、この発明製法において適用される反応条件下
では還元不可能な置換基類とされる。Ｒ１およびＲ２は
、例えば、アルキル基あるいはアルコキシ基、好ましく
はそれぞれ１から４迄の炭素原子数のもの、アリール基
あるいはアリールオキシ基、例えばフェニール基あるい
はフェノキシ基、ハロゲン、好ましくは塩素あるいは臭
素、あるいは水酸基、カルボキシル基あるいはスルホ基
類あるいは例えばエステル基類あるいはアミド基類の如
き上記の基層の誘導体類である。
独立的に、この発明製法において適用される反応条件下
では還元不可能な置換基類とされる。Ｒ１およびＲ２は
、例えば、アルキル基あるいはアルコキシ基、好ましく
はそれぞれ１から４迄の炭素原子数のもの、アリール基
あるいはアリールオキシ基、例えばフェニール基あるい
はフェノキシ基、ハロゲン、好ましくは塩素あるいは臭
素、あるいは水酸基、カルボキシル基あるいはスルホ基
類あるいは例えばエステル基類あるいはアミド基類の如
き上記の基層の誘導体類である。
指数ｍ およびｎ は、それぞれ独立的に０．１あるい
は２であり、好ましくは両方が同時に０ である。
は２であり、好ましくは両方が同時に０ である。
Ｒ，、Ｒ２１）ｍおよびｎ が既に与えられた意味を有
する式ＩＩにおいて、ＸＩおよびＸ２は、×１と×２が
同時に水素であることはないという条件下に、それぞれ
独立的に水素、塩素あるいは臭素とされる。弐ＩＩの化
合物にあっては、ＸＩおよび×２が塩素であるが、ある
いは刈が水素であり、×２が塩素であることが好ましい
。
する式ＩＩにおいて、ＸＩおよびＸ２は、×１と×２が
同時に水素であることはないという条件下に、それぞれ
独立的に水素、塩素あるいは臭素とされる。弐ＩＩの化
合物にあっては、ＸＩおよび×２が塩素であるが、ある
いは刈が水素であり、×２が塩素であることが好ましい
。
この発明製法にあっては、式ＩＩの化合物が、無水の非
プロトン性有機溶剤に添加される。適当な溶剤類の例に
は、炭化水素類あるいはハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エーテル類、カルボキシレート類、スルホランの如
きスルホン類あるいはこれ等の溶剤の混合物類がある。
プロトン性有機溶剤に添加される。適当な溶剤類の例に
は、炭化水素類あるいはハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エーテル類、カルボキシレート類、スルホランの如
きスルホン類あるいはこれ等の溶剤の混合物類がある。
特に適当な溶剤類は、ベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼン、〇−ジクロロベンゼン、アセトン、ジオキサン、
テトラヒドロフランおよびスルホラン、およびこれ等の
混合物である。最も良い結果は、０−ジクロロベンゼン
によって得られる。
ゼン、〇−ジクロロベンゼン、アセトン、ジオキサン、
テトラヒドロフランおよびスルホラン、およびこれ等の
混合物である。最も良い結果は、０−ジクロロベンゼン
によって得られる。
この発明の製法を実施する為には、貴金属触媒が必要で
ある。好ましい触媒類は、白金、パラジウム、イリジウ
ム、ロジウム、オスミウムある（１はルテニウムあるい
はまた二・ンケルである。これ等の金属類の混合物ある
いは合金類もまた使用可能である。特別に良い結果は、
白金および特にパラジウムによって達成される。
ある。好ましい触媒類は、白金、パラジウム、イリジウ
ム、ロジウム、オスミウムある（１はルテニウムあるい
はまた二・ンケルである。これ等の金属類の混合物ある
いは合金類もまた使用可能である。特別に良い結果は、
白金および特にパラジウムによって達成される。
二次反応、特に中央の二重結合の還元だけでなく、ホル
ミル基の対応するアルコールあるいは炭化水素迄への過
還元、を防止する為に、使用される触媒に対する触媒毒
の添加（部分被毒）が有効である。この目的の為に、硫
黄含有化合物類、例えばチオ尿素、２−メルカブトベン
ズチアゾールあるいはキノリン中の硫黄、を使用するこ
とが好ましい（ベリヒテ、５４巻、１９２１．４２５頁
参照、Ｂｅｒ、 ５４ １９２１．４２５）。
ミル基の対応するアルコールあるいは炭化水素迄への過
還元、を防止する為に、使用される触媒に対する触媒毒
の添加（部分被毒）が有効である。この目的の為に、硫
黄含有化合物類、例えばチオ尿素、２−メルカブトベン
ズチアゾールあるいはキノリン中の硫黄、を使用するこ
とが好ましい（ベリヒテ、５４巻、１９２１．４２５頁
参照、Ｂｅｒ、 ５４ １９２１．４２５）。
この触媒は、通常担体に担持され、通常、０．５から２
５χ迄の量で使用される。適当な担体類の例には、活性
炭、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、アルミナおよびシ
ソ力がある。好ましい担体類は、活性炭および硫酸バリ
ウムである。
５χ迄の量で使用される。適当な担体類の例には、活性
炭、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、アルミナおよびシ
ソ力がある。好ましい担体類は、活性炭および硫酸バリ
ウムである。
一般的に、この発明製法１こおいでは、還元されるべき
基剤を基礎として５から２５χ迄（担体を含む）の触媒
量が使用される。
基剤を基礎として５から２５χ迄（担体を含む）の触媒
量が使用される。
水素化中に生成するハロゲン化水素を捕捉する為、反応
溶液中において、酸受容体を使用することが有利となる
。ハロゲン化水素は、触媒を不活性化することの可能な
、有害な特性を有する。適当な酸受容体類の例には、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、エチルジイソプロピルアミン、２．６−ジメチルど
リジン、酢酸ナトリウム、酸化マグネシウムあるいは炭
酸ナトリウムの如き塩基類があり、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチルジイソ
プロピルアミンおよび２．６−ジメチルピリジンか特に
適している。これ等の好ましい酸受容体類は、同時に溶
剤類としても作用する。
溶液中において、酸受容体を使用することが有利となる
。ハロゲン化水素は、触媒を不活性化することの可能な
、有害な特性を有する。適当な酸受容体類の例には、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、エチルジイソプロピルアミン、２．６−ジメチルど
リジン、酢酸ナトリウム、酸化マグネシウムあるいは炭
酸ナトリウムの如き塩基類があり、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチルジイソ
プロピルアミンおよび２．６−ジメチルピリジンか特に
適している。これ等の好ましい酸受容体類は、同時に溶
剤類としても作用する。
出発化合物に依存しで、溶剤および触媒、反応の温度と
圧力は、広い限界内で変更出来る。一般的に、反応の温
度と圧力は、反応剤類からなる反応系固有の反応速度的
性質（短反応時間）と選択性（高い所望製品の収ｉｉ）
の間で最適な比を達成する様に選択される。
圧力は、広い限界内で変更出来る。一般的に、反応の温
度と圧力は、反応剤類からなる反応系固有の反応速度的
性質（短反応時間）と選択性（高い所望製品の収ｉｉ）
の間で最適な比を達成する様に選択される。
この発明製法の為には、 １５°から２００℃迄、好ま
しくは７００から１４０℃ 迄の温度範囲と、１ から
５０バール迄の、好ましくは１ から１０バール迄の圧
力が、適当であると見出されている。
しくは７００から１４０℃ 迄の温度範囲と、１ から
５０バール迄の、好ましくは１ から１０バール迄の圧
力が、適当であると見出されている。
この発明方法は、予め算出された固有の水素量が反応混
合物により吸収された時点において、終了したと見なさ
れる。予め算出された水素量は、−個あるいは二個の酸
塩化物基を有する式ＩＩの化合物類から、式１の化合物
類を得るのに必要な理論水素量を意味すると理解される
べきである。
合物により吸収された時点において、終了したと見なさ
れる。予め算出された水素量は、−個あるいは二個の酸
塩化物基を有する式ＩＩの化合物類から、式１の化合物
類を得るのに必要な理論水素量を意味すると理解される
べきである。
この反応時間は、通常３０分から６ 時間迄で、反応混
合物の精製は、それ自体知られている方法により行われ
る。触媒の除去、例えば、ろ過あるいは遠心分離、に際
し、溶媒も除去され、得られた粗アルデヒドが、例えば
蒸留、再結晶あるいは亜硫酸水素ナトリウムとの付加物
生成により、純粋なものに精製される。
合物の精製は、それ自体知られている方法により行われ
る。触媒の除去、例えば、ろ過あるいは遠心分離、に際
し、溶媒も除去され、得られた粗アルデヒドが、例えば
蒸留、再結晶あるいは亜硫酸水素ナトリウムとの付加物
生成により、純粋なものに精製される。
この発明製法の好ましい実施態様は、８Ｉ、Ｒ２１）ｍ
とｎ、 Ｘ、および×２が与えられた意味を有する
式ＩＩの化合物を、０−ジクロロベンゼンと２．６−シ
メチルビリジンとの混合物中において、キノリン中の硫
黄により部分的に被毒されるパラジウム触媒の存在下に
、７００から８０℃迄の温度範囲および１．１から３
バール迄の圧力下で、予め算出された水素量が、反応混
合物により吸収される迄、水素化することからなる。
とｎ、 Ｘ、および×２が与えられた意味を有する
式ＩＩの化合物を、０−ジクロロベンゼンと２．６−シ
メチルビリジンとの混合物中において、キノリン中の硫
黄により部分的に被毒されるパラジウム触媒の存在下に
、７００から８０℃迄の温度範囲および１．１から３
バール迄の圧力下で、予め算出された水素量が、反応混
合物により吸収される迄、水素化することからなる。
また、ＸＩが水素であると共にｘ２がふっ素、塩素ある
いは臭素である新規な式ＩＩの化合物類は、×！および
ｘ２がふっ素、塩素あるいは臭素とされる新規な式ＩＩ
の化合物類の還元により得ることが出来る。この場合の
出発化合物類の水素化は、理論的に算出された水素量が
反応混合物によって吸収された時点において、中断され
る。
いは臭素である新規な式ＩＩの化合物類は、×！および
ｘ２がふっ素、塩素あるいは臭素とされる新規な式ＩＩ
の化合物類の還元により得ることが出来る。この場合の
出発化合物類の水素化は、理論的に算出された水素量が
反応混合物によって吸収された時点において、中断され
る。
これ等の新規化合物類中にあいで、弐■の化合物
が特に好ましい。
ホルミル基と酸ハロゲン化基を有する式ＩＩの新規化合
物類の製造の為にも、上記の諸反応条件が、これ等の化
合物類を式■の化合物類の製造の為に使用する場合と同
様に、採用される。
物類の製造の為にも、上記の諸反応条件が、これ等の化
合物類を式■の化合物類の製造の為に使用する場合と同
様に、採用される。
「発明の効果」
式１の化合物類は、例えば蛍光漂白剤類の合成の為の何
月な中間体類である。
月な中間体類である。
［実施例１］
水素化フラスコ（例えばバール（Ｐａａｒ）の低圧水素
化フラスコ）に、４，４°−スチルベンジカルボン酸塩
化物の３０．５９ （０，１モル）、ｏ−ジクロロベン
ゼン（五酸化燗上で乾燥されたもの）の７００ ｍＡ’
および２．６−シメチルビリジンの２１．９９が仕込ま
れた。この混合物に、０−ジクロロベンゼンの５０
ｍｊ２１）パラジウム触媒（パラジウムの５ 重量２を
含む硫酸バリウム担体）の６９ およびキノリン−硫黄
（ベリヒテ、５４巻、１９２１年、 ４２５頁に従って
調製）の７５ｍ９ が添加された。水素化は、７０℃
および１．１ バールの水素圧において、６時間後に
、０．２モルの水素が吸収される迄実施された。次いで
、水素化は実質的に停止された。その後に、触媒が除去
され、反応液から、得られた塩がろ過により分離され、
乾燥する迄蒸発され、 ＋６９０−１７１℃の融点を有
する殆ど純粋な４．４−スチルベンジアルデヒドの１７
９ （７２χ）が得られた。核磁気共鳴と赤外線吸収ス
ペクトルの波形は、得られた化合物に期待される構造に
−敗しでいた。
化フラスコ）に、４，４°−スチルベンジカルボン酸塩
化物の３０．５９ （０，１モル）、ｏ−ジクロロベン
ゼン（五酸化燗上で乾燥されたもの）の７００ ｍＡ’
および２．６−シメチルビリジンの２１．９９が仕込ま
れた。この混合物に、０−ジクロロベンゼンの５０
ｍｊ２１）パラジウム触媒（パラジウムの５ 重量２を
含む硫酸バリウム担体）の６９ およびキノリン−硫黄
（ベリヒテ、５４巻、１９２１年、 ４２５頁に従って
調製）の７５ｍ９ が添加された。水素化は、７０℃
および１．１ バールの水素圧において、６時間後に
、０．２モルの水素が吸収される迄実施された。次いで
、水素化は実質的に停止された。その後に、触媒が除去
され、反応液から、得られた塩がろ過により分離され、
乾燥する迄蒸発され、 ＋６９０−１７１℃の融点を有
する殆ど純粋な４．４−スチルベンジアルデヒドの１７
９ （７２χ）が得られた。核磁気共鳴と赤外線吸収ス
ペクトルの波形は、得られた化合物に期待される構造に
−敗しでいた。
パラジウム触媒の代りに、白金触媒を使用しても、同様
の結果が得られた。
の結果が得られた。
［実施例２］
指示された水素量の半分が導入された点および５００ｍ
１のエタノールと共に反応）夜を沸ａｔさせた点を除き
、実施例１ の手順が繰返された。４−ホルミル−４−
スチルベンカルボン酸エチル（４−ホルミル−４°−ス
チルベンカルボンＭ塩化物の誘導体）が、薄層クロマト
グラフにより得られた。
１のエタノールと共に反応）夜を沸ａｔさせた点を除き
、実施例１ の手順が繰返された。４−ホルミル−４−
スチルベンカルボン酸エチル（４−ホルミル−４°−ス
チルベンカルボンＭ塩化物の誘導体）が、薄層クロマト
グラフにより得られた。
［実施例３］
反応液を乾燥する迄蒸発した点を除き、実施例２ の手
順が繰返された。残留物の赤外ａ吸収スペクトルは、４
−ホルミル−４′−スチルベンカルボン酸塩化物の期待
された波形を示した。
順が繰返された。残留物の赤外ａ吸収スペクトルは、４
−ホルミル−４′−スチルベンカルボン酸塩化物の期待
された波形を示した。
Claims (22)
- （１）式 I により表示され、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） この式 I における、Ｒ＿１およびＲ＿２が、それぞれ
独立的に、下記に定義する反応条件下では還元不可能な
置換基とされ、ｍおよびｎがそれぞれ独立的に０、１あ
るいは２とされる４，４′−スチルベンジアルデヒドの
製法であって、式IIにより表示され、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） この式IIにおける、Ｒ＿１、Ｒ＿２、ｍおよびｎが式
I に対して定義されたものとされ、Ｘ＿１およびＸ＿２
が、Ｘ＿１とＸ＿２は同時に水素であることはないとい
う条件下に、それぞれ独立的に水素、塩素あるいは臭素
とされる化合物を、不活性な無水の非プロトン性有機溶
剤中において、貴金属触媒の存在下に、１５°から２０
０℃迄の温度範囲内と１から５０バール迄の圧力下で、
予め算出された式 I の化合物を得る為に必要な理論水
素量を吸収する迄水素化し、次いで触媒を分離し、該化
合物を単離することを特徴とする該スチルベンジアルデ
ヒド類の製法。 - （２）該溶剤が、炭化水素あるいはハロゲン化炭化水素
、ケトン、エーテル、カルボキシレートあるいはスルホ
ン、あるいはこれ等溶剤類の混合物とされる特許請求の
範囲第１項記載の製法。 - （３）該溶剤が、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン
、０−ジクロロベンゼン、アセトン、ジオキサン、テト
ラヒドロフランあるいはスルホラン、あるいはこれ等溶
剤類の混合物とされる特許請求の範囲第１項記載の製法
。 - （４）該溶剤が０−ジクロロベンゼンとされる特許請求
の範囲第１項記載の製法。 - （５）該貴金属触媒が、白金、パラジウム、ニッケル、
イリジウム、ロジウム、オスミウムあるいはルテニウム
、あるいはこれ等の金属類の混合物あるいは合金とされ
る特許請求の範囲第１項記載の製法。 - （６）該貴金属触媒が白金あるいはパラジウムとされる
特許請求の範囲第５項記載の製法。 - （７）該貴金属触媒がパラジウムとされる特許請求の範
囲第６項記載の製法。 - （８）該貴金属触媒が部分的に被毒されるものとされる
特許請求の範囲第５項記載の製法。 - （９）該触媒の該被毒剤がキノリン、チオ尿素あるいは
２−メルカブトベンズチアゾール中の硫黄とされる特許
請求の範囲第８項記載の製法。 - （１０）該水素化が酸受容体の存在下に実施される特許
請求の範囲第１項記載の製法。 - （１１）該酸受容体が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
，Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチルジイソプロピルア
ミン、２，６−ジメチルピリジン、酢酸ナトリウム、酸
化マグネシウムあるいは炭酸ナトリウムとされる特許請
求の範囲第１０項記載の製法。 - （１２）該酸受容体が、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
，Ｎ−ジメチルアセトアミド、エチルジイソプロピルア
ミンあるいは２，６−ジメチルピリジンとされる特許請
求の範囲第１１項記載の製法。 - （１３）特許請求の範囲第１２項に記載の該酸受容体が
溶剤として使用される特許請求の範囲第１項記載の製法
。 - （１４）該反応温度が７０°から１４０℃迄の範囲内に
ある特許請求の範囲第１項記載の製法。 - （１５）該圧力が１から１０バール迄とされる特許請求
の範囲第１項記載の製法。 - （１６）該式IIにおいて、ｍおよびｎが０とされ、Ｘ＿
１およびＸ＿２が、Ｘ＿１とＸ＿２は同時に水素である
ことはないという条件下に、それぞれ独立的に水素、塩
素あるいは臭素とされる式IIの化合物を、０−ジクロロ
ベンゼンと２，６−ジメチルピリジンとの混合物中にお
いて、キノリン中の硫黄により部分的に被毒されるパラ
ジウム触媒の存在下に、７０°から８０℃迄の温度範囲
内と１．１から３バール迄の圧力下で水素化する特許請
求の範囲の第１項から第１５項迄の何れかに記載の製法
。 - （１７）該Ｒ＿１、Ｒ＿２、ｍおよびｎが既に与えられ
た意味ものとされ、Ｘ＿１が水素とされ、Ｘ＿２が塩素
あるいは臭素とされることを特徴とする式IIに表示の化
合物。 - （１８）次式III ▲数式、化学式、表等があります▼（III） により表示される特許請求の範囲第１７項記載の化合物
。 - （１９）該式IIにおける、該Ｒ＿１、Ｒ＿２、ｍおよび
ｎが既に与えられた意味のものとされ、Ｘ＿１およびＸ
＿２がそれぞれ独立的に塩素あるいは臭素とされる式I
Iの化合物を、不活性な無水の非プロトン性有機溶剤中
において、貴金属触媒の存在下に、１５°から２００℃
迄の温度範囲内と１から５０バール迄の圧力下で、予め
算出された水素量を吸収する迄水素化し、次いで触媒を
分離し、該化合物を単離することを特徴とする特許請求
の範囲第１７項記載の化合物の製法。 - （２０）該式IIにおいて、ｍおよびｎが０とされ、Ｘ＿
１およびＸ＿２が塩素あるいは臭素とされる式IIの化合
物を、０−ジクロロベンゼンと２，６−ジメチルピリジ
ンとの混合物中において、キノリン中の硫黄により部分
的に被毒されるパラジウム触媒の存在下に、７０°から
８０℃迄の温度範囲内と１．１から３バール迄の圧力下
で水素化し、式IIIの化合物を得ることからなる特許請
求の範囲第１９項に記載の製法。 - （２１）特許請求の範囲の第１項、第１９項および第２
０項の何れかに記載の製法により得られる化合物。 - （２２）該式IIにおけるＲ＿１、Ｒ＿２、ｍ、ｎ、Ｘ＿
１およびＸ＿２が特許請求の範囲第１項において定義さ
れたものとされる式II化合物の、式 I 化合物の製造に
対する使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH544785 | 1985-12-19 | ||
| CH5447/85-8 | 1985-12-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62148444A true JPS62148444A (ja) | 1987-07-02 |
Family
ID=4293734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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