JPS6214685Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6214685Y2
JPS6214685Y2 JP1981119882U JP11988281U JPS6214685Y2 JP S6214685 Y2 JPS6214685 Y2 JP S6214685Y2 JP 1981119882 U JP1981119882 U JP 1981119882U JP 11988281 U JP11988281 U JP 11988281U JP S6214685 Y2 JPS6214685 Y2 JP S6214685Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mercury lamp
pressure mercury
storage box
light
ultra
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1981119882U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5825041U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP11988281U priority Critical patent/JPS5825041U/ja
Publication of JPS5825041U publication Critical patent/JPS5825041U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6214685Y2 publication Critical patent/JPS6214685Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は微細パターンを投影し、焼き付ける露
光装置用の高圧水銀ランプの改良に関する。
周知のように、半導体素子など電子回路部品
は、フオトプロセスが基幹となつて発達してきて
おり、高精度な露光技術は欠くことのできないも
のである。第1図はその代表的な装置として、半
導体素子の露光装置の概要図を示しており、台上
の半導体ウエハー1を顕微鏡2を用いて位置合わ
せした後、超高圧水銀灯3を照射して、マスクパ
ターンをウエハー上に焼きつけるが、最近の光学
系の進歩によつて、サブミクロン程度までの微細
なパターンをも鮮明に焼きつけることができるよ
うになつてきた。第1図において、4は位置合わ
せ用光学系、5は焼き付け用光学系を示してお
り、光学系技術の進歩は勿論重要であるが、照明
系の超高圧水銀ランプが均一な照射光を常時与え
ることは同様に重要な要素である。
しかしながら、超高圧水銀ランプは発熱するた
め、外部から送風して冷却しており、そのためか
えつて発光球表面が冷やされて、充分で且つ均一
な照射光がえられないことがある。本考案はかよ
うな欠点を解消する。超高圧水銀ランプを提案す
るもので、その特徴は発光球の中心とその両側の
電極口金との中間に、管外壁に接して対向した半
球形の反射鏡を有する超高圧水銀ランプを設けた
ことにあり、以下図面を参照して詳しく説明す
る。
第2図は本考案にかゝる水銀ランプ10が収納
箱11に納められた断面図を示し、通常このよう
にフアン12により排気されて、箱内が水銀ラン
プの発熱により過熱しないように工夫されてい
る。しかし、一方水銀ランプ10内は400℃程度
の温度まで加熱されないと、水銀は充分に蒸発せ
ず、効率のよい発光がなされない。例えば管壁へ
の水銀粒の付着は管壁が冷却されて充分に発光し
ていない証拠である。したがつて、図示のよう
に、2つの反射鏡13U,13Lを上下の電極口
金14U,14Lと発光球15との中間に取りつ
けて、送風が直接発光球15の表面にふれること
を防止する。このようにすれば、発光は収納箱1
1の側方窓16より放射されるので照射光への影
響はなく、且つ反射鏡は不要な発光を反射して発
光球を照射し加熱するので、発光球の表面温度は
上昇して、効率のよい発光がえられ、一定した照
射光を窓16からとり出すことができる。そし
て、発光球15の直径が40mmの水銀ランプでは、
反射鏡の直径は60mm程度とし、例えば水銀ランプ
と同材質の石英ガラスで作成し、クロム膜などの
光沢ある膜を被着させて反射膜とする。このよう
に石英ガラス製とすれば、水銀ランプ外面に融着
させてもよいが、他の材質例えばアルミニウム板
で作成する場合には第3図に示すように割り形と
して、ネジ止で、取りつけても同様の効果がえら
れる。
以上のように反射鏡を設けることにより、発光
球表面は冷却されることがなく、且つ収納箱11
内はフアンで空気を循環して、加熱空気を排出さ
せ換気する。そのため、超高圧水銀ランプの過熱
による損傷は起らずに、その寿命を低下させるこ
とはない。したがつて、本考案は超高圧水銀ラン
プを効率よく動作させることができるもので、露
光品質の向上に役立つ。
【図面の簡単な説明】
第1図は露光装置の概要図、第2図は本考案に
かゝる露光装置の超高圧水銀ランプの断面図、第
3図は反射鏡の一実施例図である。 図中、10は超高圧水銀ランプ、11は収納
管、12はフアン、13U,13Lは反射鏡、1
4U,14Lは口金、15は発光球、16は照射
窓を示す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 高圧水銀ランプを収納し、光放射用側方窓を有
    する収納箱と、 該収納箱に収納された高圧水銀ランプと、 該高圧水銀ランプの発光球とその両側の電極と
    の間に管外壁に接し、発光を該側方窓に放射する
    間隙を有して対向した半球型の反射鏡と、 該収納箱内部を送風冷却するフアンとを有する
    ことを特徴とする露光装置。
JP11988281U 1981-08-11 1981-08-11 露光装置 Granted JPS5825041U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11988281U JPS5825041U (ja) 1981-08-11 1981-08-11 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11988281U JPS5825041U (ja) 1981-08-11 1981-08-11 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5825041U JPS5825041U (ja) 1983-02-17
JPS6214685Y2 true JPS6214685Y2 (ja) 1987-04-15

Family

ID=29913927

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11988281U Granted JPS5825041U (ja) 1981-08-11 1981-08-11 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5825041U (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH071376Y2 (ja) * 1989-04-26 1995-01-18 ナショナル住宅産業株式会社 床パネルの支持構造

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4886389A (ja) * 1972-02-16 1973-11-14
JPS5468082A (en) * 1977-11-11 1979-05-31 Hitachi Ltd Xenon light source

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5074185U (ja) * 1973-11-07 1975-06-28
JPS5560134U (ja) * 1979-10-19 1980-04-24

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4886389A (ja) * 1972-02-16 1973-11-14
JPS5468082A (en) * 1977-11-11 1979-05-31 Hitachi Ltd Xenon light source

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5825041U (ja) 1983-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3266156B2 (ja) 照明用光源装置および露光装置
JP3827492B2 (ja) 放電灯
JPS6214685Y2 (ja)
US5386268A (en) Exposure unit and method for exposing photosensitive materials
JP2004361746A (ja) 露光用照明装置
JP2006251149A (ja) 照明装置及び投写型画像表示装置。
JP2001125194A5 (ja)
JP4086582B2 (ja) 照明装置及び露光装置
TW200538857A (en) Exposure device
TWI414903B (zh) 鄰近曝光裝置、其曝光光束形成方法以及顯示用面板基板的製造方法
JP7278185B2 (ja) ランプ装置、露光装置、および物品の製造方法
CN114137798A (zh) 光源装置、曝光装置以及物品的制造方法
TW200921758A (en) Immersion exposure apparatus and device manufacturing method
JPH11338163A (ja) 照明装置、露光装置及び照明方法
JP2734939B2 (ja) ランプ光源及び露光装置
JPH10186673A (ja) 露光装置
JP2002367874A (ja) 紫外線照射装置及び、該紫外線照射装置の照射ユニット
KR102089310B1 (ko) 마스크리스 노광장치
JPH0322749Y2 (ja)
Ury et al. New deep ultraviolet source for microlithography
JP2004354655A (ja) 露光用反射鏡及び基板の露光装置
JP2004079864A (ja) 露光装置の照明光学系
JPH10286509A (ja) 紫外線照射装置
JPH0356045Y2 (ja)
JP2000147688A (ja) 光源装置およびそれを用いた写真焼付装置