JPS62145328U - - Google Patents

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JPS62145328U
JPS62145328U JP3129986U JP3129986U JPS62145328U JP S62145328 U JPS62145328 U JP S62145328U JP 3129986 U JP3129986 U JP 3129986U JP 3129986 U JP3129986 U JP 3129986U JP S62145328 U JPS62145328 U JP S62145328U
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JP
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wafer
lamps
area
parallel
annealing apparatus
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  • Recrystallisation Techniques (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例のアニール装置の断
面図、第2図はその上面からの透視図。 1…反射鏡、2…ランプ、3…処理ウエハ、4
…レンズ、5…クオーツチユーブ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 複数のランプを並列配置してウエハのアニール
    を行なうアニール装置において、 前記ランプの並列配置した領域は前記ウエハよ
    りも大きい領域であり、前記ランプと前記アニー
    ルされるべきウエハとの中間の位置に、該ウエハ
    の周辺部分から外側に放射された放射熱を該ウエ
    ハの周辺部分に集めることができるレンズを設け
    たアニール装置。
JP3129986U 1986-03-06 1986-03-06 Pending JPS62145328U (ja)

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JP3129986U JPS62145328U (ja) 1986-03-06 1986-03-06

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JP3129986U JPS62145328U (ja) 1986-03-06 1986-03-06

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JPS62145328U true JPS62145328U (ja) 1987-09-12

Family

ID=30836904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3129986U Pending JPS62145328U (ja) 1986-03-06 1986-03-06

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JP (1) JPS62145328U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015018941A (ja) * 2013-07-11 2015-01-29 株式会社Screenホールディングス 熱処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015018941A (ja) * 2013-07-11 2015-01-29 株式会社Screenホールディングス 熱処理装置

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