JPS62143811A - モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法 - Google Patents
モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法Info
- Publication number
- JPS62143811A JPS62143811A JP28446285A JP28446285A JPS62143811A JP S62143811 A JPS62143811 A JP S62143811A JP 28446285 A JP28446285 A JP 28446285A JP 28446285 A JP28446285 A JP 28446285A JP S62143811 A JPS62143811 A JP S62143811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- silicide
- synthesized
- product
- purity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28446285A JPS62143811A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28446285A JPS62143811A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62143811A true JPS62143811A (ja) | 1987-06-27 |
JPH0159209B2 JPH0159209B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1989-12-15 |
Family
ID=17678847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28446285A Granted JPS62143811A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62143811A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5460793A (en) * | 1993-05-07 | 1995-10-24 | Japan Energy Corporation | Silicide targets for sputtering and method of manufacturing the same |
-
1985
- 1985-12-19 JP JP28446285A patent/JPS62143811A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5460793A (en) * | 1993-05-07 | 1995-10-24 | Japan Energy Corporation | Silicide targets for sputtering and method of manufacturing the same |
US5618397A (en) * | 1993-05-07 | 1997-04-08 | Japan Energy Corporation | Silicide targets for sputtering |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0159209B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1989-12-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5069868A (en) | Method for producing thermoelectric elements | |
JP2002501440A (ja) | 予備合金化された、銅含有粉末およびダイヤモンド工具の製造におけるその使用 | |
JPS62143811A (ja) | モリブデン或いはタングステンシリサイドの合成方法 | |
JPS63227771A (ja) | 高純度チタンシリサイドからなるスパツタリング用タ−ゲツト及びその製造方法 | |
JP3146593B2 (ja) | 高強度セメントの製造方法 | |
JPS59100233A (ja) | 歯科用アマルガム調製用の片状母合金の製造方法 | |
JP3175629B2 (ja) | 放射性廃棄物固型化用充填モルタル、放射性コンクリート廃棄物の処理方法および放射性廃棄物固型化用充填モルタルの製造方法 | |
JPH0681076A (ja) | βFeS▲i2▼の製造方法 | |
JPH04124201A (ja) | タングステン合金粒およびその製造方法 | |
JPH05147909A (ja) | 窒化アルミニウム粉末の製造方法 | |
JPS6317210A (ja) | 窒化アルミニウム粉末の製造方法 | |
JPH02247379A (ja) | シリサイドターゲットの製造方法 | |
JPH0767541A (ja) | 打錠ガム | |
JPS55125240A (en) | Sintering method for finely powdered starting material for iron manufacture | |
JP2691570B2 (ja) | 磁石用希土類粉末及びその製造方法 | |
JPS62171911A (ja) | モリプデン或いはタングステンシリサイドの製造方法 | |
JPS63179061A (ja) | 高融点金属シリサイドタ−ゲツトとその製造方法 | |
JP3164986B2 (ja) | チタン酸カリウム焼結体の製造方法 | |
JPH07133157A (ja) | 導電性セラミックス及びその製造方法 | |
JPH01247510A (ja) | 金属間化合物の製造方法、熱電素子の製造方法及び熱電素子 | |
JPH0874045A (ja) | 成膜中にパーティクル発生の少ないスパッタリング用Coシリサイド焼結ターゲット材 | |
JP2558391B2 (ja) | 打錠用粉末ガムの製法 | |
JP2544017B2 (ja) | 粉末冶金用銅粉の製造方法 | |
JPH0463004B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP2652105B2 (ja) | タイル原料の製造方法 |