JPS62142761A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS62142761A JPS62142761A JP28346785A JP28346785A JPS62142761A JP S62142761 A JPS62142761 A JP S62142761A JP 28346785 A JP28346785 A JP 28346785A JP 28346785 A JP28346785 A JP 28346785A JP S62142761 A JPS62142761 A JP S62142761A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporated
- cooling base
- crucible
- materials
- electron beam
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、真空蒸着装置に関するものである。
従来の技術
近年、真空蒸着装置の被蒸着物を収容するるつぼは、成
膜プロセスの連続化及び多層膜化に対応して、複数個配
置され、順次電子ビーム加熱位置に移動するように構成
されている。これにより、連続蒸着中に必要となる被蒸
着物の材料補給及び材料交換の度に、真空槽を大気圧に
戻し、るつぼを交換するという作業が省け、連続蒸着及
び多層膜蒸着が容易になった。
膜プロセスの連続化及び多層膜化に対応して、複数個配
置され、順次電子ビーム加熱位置に移動するように構成
されている。これにより、連続蒸着中に必要となる被蒸
着物の材料補給及び材料交換の度に、真空槽を大気圧に
戻し、るつぼを交換するという作業が省け、連続蒸着及
び多層膜蒸着が容易になった。
以下、上述した複数個のるつぼの駆動機構について説明
する。
する。
第３図及び第４図は従来例の複数個のるつぼの駆動機構
を示すものである。第３図において、１は被蒸発物を収
容するるつぼである。２ばるつぼ１が複数個同心円状に
配置された冷却基台、３は電子銃、４は電子銃３で発生
した電子ビームを偏向させる偏向磁場である。
を示すものである。第３図において、１は被蒸発物を収
容するるつぼである。２ばるつぼ１が複数個同心円状に
配置された冷却基台、３は電子銃、４は電子銃３で発生
した電子ビームを偏向させる偏向磁場である。
以上のように構成された複数個のるつぼのｊ駆動機構に
ついて、以下その動作について説明する。
ついて、以下その動作について説明する。
るつぼ１が複数個同心円状に配置さ；ルた冷却基台２が
回転することにより、電子銃３より発生し偏向磁場３に
よって偏向した重子ビームの照射加熱位置に任意のるつ
ぼ１を移動させる。るつぼ１内に収容された被蒸発物は
加熱され蒸発する。蒸着プロセスで被蒸発物の材料複給
及び材料補給及び材料交換毎に冷却基台は回転し、所定
の被蒸発物が収容さ扛たるつぼを電子ビームの照射位１
斤に移動させる。
回転することにより、電子銃３より発生し偏向磁場３に
よって偏向した重子ビームの照射加熱位置に任意のるつ
ぼ１を移動させる。るつぼ１内に収容された被蒸発物は
加熱され蒸発する。蒸着プロセスで被蒸発物の材料複給
及び材料補給及び材料交換毎に冷却基台は回転し、所定
の被蒸発物が収容さ扛たるつぼを電子ビームの照射位１
斤に移動させる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、巻き取り蒸着装置
のように長時間の連続蒸着を行なうために大型るつぼを
使用する場合、るつぼを配置した冷却基台が大きくなり
すぎて、真空槽が大型になり、そのため真空槽の排気及
び冷却基台の駆動機構に費用がかかりすぎるという問題
があった。
のように長時間の連続蒸着を行なうために大型るつぼを
使用する場合、るつぼを配置した冷却基台が大きくなり
すぎて、真空槽が大型になり、そのため真空槽の排気及
び冷却基台の駆動機構に費用がかかりすぎるという問題
があった。
また、るつぼ内の被蒸発物の蒸発面の高さは、蒸着基板
上の膜厚分布と相関することが知られ、るつぼの高さ、
即ち被蒸発物の蒸発面の高さを調節することが必要であ
ったが、従来の構成ではその調節は不可能であった。
上の膜厚分布と相関することが知られ、るつぼの高さ、
即ち被蒸発物の蒸発面の高さを調節することが必要であ
ったが、従来の構成ではその調節は不可能であった。
本発明は上記問題点に鑑み、複数個のるつぼ及び冷却基
台が配置された小型の蒸発源、及びるつぼの交換、るつ
ぼ内の被蒸発物の蒸発面の高さの調節を可能とする。駆
動部を備えた真空蒸着装置を提供するものである。
台が配置された小型の蒸発源、及びるつぼの交換、るつ
ぼ内の被蒸発物の蒸発面の高さの調節を可能とする。駆
動部を備えた真空蒸着装置を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明の真空蒸着装置は、
被蒸発物を収容するるつぼが配置された冷却基台と、電
子ビームの加熱照射位置に対して平行に旋回１１１１を
有し、旋回・浦に対して同心円状に配置さ扛た複数個の
冷却基台を支持する支持部と、支持部を旋回及び上下に
昇降させる駆動部とを備えたものである。
被蒸発物を収容するるつぼが配置された冷却基台と、電
子ビームの加熱照射位置に対して平行に旋回１１１１を
有し、旋回・浦に対して同心円状に配置さ扛た複数個の
冷却基台を支持する支持部と、支持部を旋回及び上下に
昇降させる駆動部とを備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、大型るつぼを使用する
場合でもるつぼを立体的に配置するため、従来の同心円
型の冷却基台を使用するときと比較して蒸発源全体の外
形は数分の１となるとともに、冷却基台を支持する支持
部が上下に昇降可能なため、るつぼ内の被蒸発物の蒸発
面の高さが調節可能となった。
場合でもるつぼを立体的に配置するため、従来の同心円
型の冷却基台を使用するときと比較して蒸発源全体の外
形は数分の１となるとともに、冷却基台を支持する支持
部が上下に昇降可能なため、るつぼ内の被蒸発物の蒸発
面の高さが調節可能となった。
実施例
以下、本発明の一実施例の真空蒸着装置について、図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例における真空蒸着装置の蒸発源
の平面図、第２図はその縦断面図である。
の平面図、第２図はその縦断面図である。
５は被蒸発物を収容するるつぼ、６はるつぼ５が配置さ
扛た冷却基台、７は電子銃、８は電子銃７から発生した
電子ビームを偏向させる偏向磁場、９は電子ビームの加
熱照射位置に対して並行に旋回・ｌＸ１１があり、旋回
軸に対して同心円状に配置された複数個の冷却基台６を
支持する支持部、１ｏは支持部９を旋回及び上下に昇降
させる駆動部である０ 以上のように構成された１℃空蒸着装置の蒸発源につい
て、以下その動作を説明する。
扛た冷却基台、７は電子銃、８は電子銃７から発生した
電子ビームを偏向させる偏向磁場、９は電子ビームの加
熱照射位置に対して並行に旋回・ｌＸ１１があり、旋回
軸に対して同心円状に配置された複数個の冷却基台６を
支持する支持部、１ｏは支持部９を旋回及び上下に昇降
させる駆動部である０ 以上のように構成された１℃空蒸着装置の蒸発源につい
て、以下その動作を説明する。
被蒸発物が収容さ八たるつぼ５及び冷却基台６が配置さ
汎た支持部９を、駆動部１Ｑにより旋回させることによ
って、電子銃７から発生し偏向磁場８により偏向した電
子ビームの照射加熱位置に所定のるつぼ６が移動する。
汎た支持部９を、駆動部１Ｑにより旋回させることによ
って、電子銃７から発生し偏向磁場８により偏向した電
子ビームの照射加熱位置に所定のるつぼ６が移動する。
こ扛により被蒸発物、／） ４１料補給及び材料交換が
可能となる。
可能となる。
またパ動都１０により支持部９を上下に昇降することに
よって、支持部９上に配置された冷却基台６及びるつぼ
６の高さが変化し、るつぼＳ内の被蒸発物の蒸発面の高
さが調節可能となる。
よって、支持部９上に配置された冷却基台６及びるつぼ
６の高さが変化し、るつぼＳ内の被蒸発物の蒸発面の高
さが調節可能となる。
以上のように本実施例によれば、複数個のるつぼ及び冷
却基台を旋回及び昇降可能な支持部に配置することによ
り、冷却基台及び蒸発源全体の外形を大巾に小さくでき
るとともに、るつぼを昇降させることにより、るつぼ内
の蒸発面の高さを調節可能にした。
却基台を旋回及び昇降可能な支持部に配置することによ
り、冷却基台及び蒸発源全体の外形を大巾に小さくでき
るとともに、るつぼを昇降させることにより、るつぼ内
の蒸発面の高さを調節可能にした。
発明の効果
以上のように本発明は被蒸発物を収容するるっ配置さ扛
た複数個の冷却基台の支持部と、支持部を旋回及び昇降
させる駆動部とを設けることにより、蒸発源全体の外形
を大巾に小さくするとともに蒸発面の高さを調整可能に
することができる。
た複数個の冷却基台の支持部と、支持部を旋回及び昇降
させる駆動部とを設けることにより、蒸発源全体の外形
を大巾に小さくするとともに蒸発面の高さを調整可能に
することができる。
第１図は本発明の実施例における真空蒸着装置４の蒸発
源の構成を示す斜視図、第２図は蒸発源の断面図、第３
図は従来例の真空蒸着装置の蒸発源の構成を示す平面図
、第４図は蒸発源の断面図である。 ６・・・・・・るつぼ、６・・・・・・冷却基台、７・
・・・・・電子銃、８・・・・・・偏向磁場、９・・・
・・・支持部、１ｏ・・・・・・駆動部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名５−
−’Ｊ−７１！”
源の構成を示す斜視図、第２図は蒸発源の断面図、第３
図は従来例の真空蒸着装置の蒸発源の構成を示す平面図
、第４図は蒸発源の断面図である。 ６・・・・・・るつぼ、６・・・・・・冷却基台、７・
・・・・・電子銃、８・・・・・・偏向磁場、９・・・
・・・支持部、１ｏ・・・・・・駆動部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名５−
−’Ｊ−７１！”
Claims (1)
- 内部が排気可能な真空槽内で被蒸発物を電子ビームで加
熱、蒸発させて基板に被着する真空蒸着装置であって、
前記被蒸発物を収容するるつぼが配置された冷却基台と
、前記電子ビームの加熱照射位置に対して平行に旋回軸
を有するとともに旋回軸に対して同心円状に配置された
複数個の前記冷却基台を支持する支持部と、前記支持部
を旋回及び上下に昇降させる駆動部とを備えたことを特
徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28346785A JPS62142761A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28346785A JPS62142761A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62142761A true JPS62142761A (ja) | 1987-06-26 |
Family
ID=17665921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28346785A Pending JPS62142761A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62142761A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100697699B1 (ko) | 2005-10-19 | 2007-03-20 | 두산디앤디 주식회사 | 양산용 금속박막 연속 증착장치 |
-
1985
- 1985-12-17 JP JP28346785A patent/JPS62142761A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100697699B1 (ko) | 2005-10-19 | 2007-03-20 | 두산디앤디 주식회사 | 양산용 금속박막 연속 증착장치 |
| WO2007046623A1 (en) * | 2005-10-19 | 2007-04-26 | Doosan Mecatec Co., Ltd. | Apparatus for continuous metal deposition for mass production |
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