JPS62139801A - 焼結方法 - Google Patents

焼結方法

Info

Publication number
JPS62139801A
JPS62139801A JP60281036A JP28103685A JPS62139801A JP S62139801 A JPS62139801 A JP S62139801A JP 60281036 A JP60281036 A JP 60281036A JP 28103685 A JP28103685 A JP 28103685A JP S62139801 A JPS62139801 A JP S62139801A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sintering
powder
additive
raw material
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60281036A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatoshi Sugimori
正敏 杉森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Toyo Soda Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Soda Manufacturing Co Ltd filed Critical Toyo Soda Manufacturing Co Ltd
Priority to JP60281036A priority Critical patent/JPS62139801A/ja
Publication of JPS62139801A publication Critical patent/JPS62139801A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は焼結方法に関する。さらに詳しくは、粉末に焼
結助剤または添加剤を添加して焼結させる方法において
、真空中で焼結助剤または添加剤を気化し、原料粉末に
付着させることを特徴とする焼結方法に関するものであ
る。焼結は、電子材料、精密機械部品、装置材料、各種
器具等の製造に利用される。
〈従来の技術およびその問題点〉 従来、セラミックスや金属等の粉末の焼結において、焼
結を促進させ、あるいは焼結体の強度を増加させる目的
で、焼結助剤または添加剤を原料粉末に添加することが
行なわれている。焼結助剤または添加剤の添加方法とし
ては、原料粉末と焼結助剤または添加剤の粉末を混合す
る方法、または焼結助剤または添加剤の可溶性塩の水溶
液を原料粉末の表面に付着させ、加熱分解して原料粉末
表面に焼結助剤または添加剤を析出させる方法などがあ
る。
これらの方法において、原料粉末と焼結助剤または添加
剤の粉末を混合する場合は、例えば焼結助剤または添加
剤の添加量を1俤とすると、粒子の形状、大きさ、比重
が仮に等しいとすれば原料粉末と焼結助剤または添加剤
の粉末の数の比率は100対1となり、原料粉末の大部
分は焼結助剤または添加剤の粉末と接しないため、その
効果は不十分である。その効果を高めるため焼結助剤ま
たは添加剤の添加量を増すと、焼結体の強度その他の点
で好ましくない影響が出る。
また可溶性塩の水溶液として付着させ、これを加熱分解
して原料粉末表面に析出させる場合は、その接触面積は
改善されるが、分解時に発生するガス、例えば塩化物の
場合塩化水素または塩素により、粉末表面が汚染・変質
する恐れがある。
く問題点を解決するための手段〉 本発明者は、上記の問題点を解決するために検討した結
果、真空中で焼結助剤または添加剤を気化させ、原料粉
末表面に付着させることにより、極めて均一にしかも清
浄な状態で焼結助剤または添加剤を添加出来、少量でそ
の効果が発揮される焼結方法を見出した。
本発明でいう真空とは、(L 3 Torr以下の圧力
状態を言う。
本発明の焼結に用いられる粉末は、金属2合金、および
酸化物、炭化物、窒化物、はう化物、硫化物等の化合物
の粉末である。粉末の形状は、球状。
角状1円板状、角板状、不規則形状等任意の物を用いる
ことが出来る。さらに針状、繊維状の物も使用可能であ
る。
粉末の粒度は数百オングストロームから数ミリメートル
の範囲のものを用いることが出来る。
また焼結助剤または添加剤の量は数ppmから士数悌ま
で任意の割合で添加することが出来る。以下添加の方法
について説明する。
真空中で物質を気化し、粉末の表面に付着させる方法と
しては、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティ
ング等のいわゆるP’VDがある。
スパッタリングにより付着させるには、真空容器内に設
置した容器に焼結しようとする粉末を所定量いれる。タ
ーゲットホルダーに焼結助剤から成るターゲットをセッ
トする。
真空容器を脱気し、所定の真空度に達せしめた後、電極
間に電圧をかゆ、スパッタリングの操作を行なう。必要
時間スパッタリングを行なった後、これを中止し、粉末
を取り出す。その際%に酸化等による表面の変質を防ぎ
たい場合は、容器内をアルゴン等の不活性ガスで置換し
た後、粉末を不活性雰囲気中で容器に封入する方法をと
ることが出来る。また、真空容器にもう一つのチャンバ
ーを連結させ、スパッタリング終了後もう一つのチャン
バーも脱気した後、複合粉末をこのチャンバーに移し、
このチャンバー内で真空中もしくは不活性ガス雰囲気中
で複合粉末を試料容器に封入する方法をとることも出来
る。
スパッタリングの方式は、2極DCグロー放電。
3極Doグロー放電、2極RFグロー放電、イオンヒー
ムスハッタ、マグネトロンスパッタナトノ任意の方式を
選ぶことが出来る。
真空蒸着、イオンプレーティングの場合も同様に、真空
容器内に設置した容器に粉末を入れ、蒸着源もしくは加
熱装置に焼結助剤または添加剤を入れた後、真空容器内
を脱気し、蒸着またはイオンプレーティングの操作を行
なえばよい。真空蒸着の場合は抵抗加熱、誘導加熱、[
子ビーム法などの方法を用いることが出来る。イオンプ
レーティングのばあいは、直流法、高周波法、クラスタ
・イオンビーム蒸着法、熱陰極法などの方法を用いるこ
とが出来る。
粉末は1種類を用いてもよいし、2種以上の異なった物
質の粉末を混合してもよい。また、焼結助剤または添加
剤は、1稽類でもよく、2種類以上用いてもよい。例え
ば2種以上の物質のターゲットを同時にあるいは交互に
あるいは順番にスパッタリングを行なうことによりこれ
らの物質を積層あるいは混合の状態で被覆させることが
出来る。
真空蒸着またはイオンプレーティングにおいても同様に
2種以上の物質を、同時にあるいは交互にあるいは順番
に蒸着またはイオンプレーティングすることKより、こ
れらの物質を積層あるいは混合の状態で被覆させること
が出来る。
粉末は均一に付着させるために攪はんすることが望まし
い。攪はんは例えば粉末を入れる容器中に設置した回転
羽根を回転させる方法によって行なうことが出来る。ま
た、粉末を入れた容器な振動、揺動させる、あるいは機
械的衝撃を与える方法によっても行なうことが出来る。
また容器を回転させ、邪魔板のような物で粉末の動きを
変化させることによっても可能である。また超音波によ
って行なうことも出来る。さらにこれらの方法の2つ以
上を組み合わせてもよい。
粉末は必要に応じて加熱または冷却してもよい。
加熱または冷却する方法は、例えば粉末をいれる容器中
に、加熱管もしくは冷却管を設置し、これを加熱もしく
は冷却する方法がある。あるいは容器を加熱または冷却
槽に入れ、容器の外側から粉末を加熱もしくは冷却する
方法もある。
上述の方法により表面被覆粉末は従来、周知の方法によ
り焼結され相対密度の高い各種成型体とされる。
〈発明の効果〉 本発明によれば、(1)焼結助剤または添加剤を極めて
均一に、しかも清浄な状態で添加することが出来、(2
)少量の焼結助剤または添加剤でも十分にその効果が発
揮され、(3)シたがって原料の強度その他の特性を損
なうことなく焼結させることが出来る。
〈実施例〉 以下実施例により説明するがこれに限るものではない。
実施例1 100メツシエアンダーの金属クロム粉末(純度99.
95 % ) 109をスパッタリング装置の試料容器
に入れ、ニッケルターゲットをターゲットホルダーにセ
ットした。ペルジャー内を脱気し、アルゴンガスを流し
て圧力を5 X 10−” TOrr Ic保った。試
料容器は毎分20回転で回転させ、4ケ所に設けた邪魔
板で粉末の動きを変えて攪はんを行なった。2 KWの
電力で2時間スパッタリングを行なった。得られた粉末
中のニッケル量は分析の結果α1%であった。iこの粉
末5gを内径14騙の金型を用いC20Q MPaの圧
力でプレスし、得られた成型体を水素気流中800℃で
1時間加熱し、次いで1000℃で2時間加熱を行なっ
た。
得られた焼結体の相対密度は6a2%であった。
比較例1 同品質の金属クロム粉末59を、内径141の金型を用
いて200 MPaの圧力でプレスし、得られた成型体
を水素気流中で800℃で1時間加熱し、次いで100
0℃で2時間加熱を行なった。
得られた焼結体の相対密度は6α7チであった。
比較例2 同品質の金属クロム粉末10りを硝酸ニッケルの水溶液
に浸せきした後、80−90℃で乾燥した。得られた粉
末中のニッケル量は分析の結果、[11%であった。こ
の粉末5gを内径14m+の金型を用いて、200Mp
aの圧力でプレスし、得られた成型体を水素気流中で8
00°Cで1時間加熱し、次いで1000°Cで2時間
加熱を行なった。
得られた焼結体の相対密度は6α7%であった。
実施例2 平均粒径約1.5ミクロンの炭化タングステン粉末10
gをスパッタリング装置の試料容器に入れ、ニッケルタ
ーゲットをターゲットホルダーにセットした。ペルジャ
ー内を脱気し、アルゴンガスを流して圧力を5 X 1
0−” Torrに保った。試料容器は毎分30回転で
回転させ、6ケ所に設けた邪魔板で粉末の動きを変えて
攪はんを行なった。3KWの電力で8時間スパッタリン
グを行なった。
得られた粉末中のコバルト量は分析の結果、IlSチで
あった。この粉末を金型を用いて、460MPaの圧力
でプレスし、得られた成型体を真空中1400″Cで1
時間加熱した。得られた焼結体より5 X 4 X 3
0 mの試験片を切り出し、3点曲げ試験を行なった。
曲げ強度は104.7 kg /amであった。
比較例3 平均粒径1.5ミクロ/の炭化タングステン粉末9、9
59および、1.3ミクロンのコバルト粉末(LO5り
をボールミルでよく混合し、金型を用いて460 MP
aの圧力でプレスし、得られた成型体を真空中1400
°Cで1時間加熱した。得られた焼結体より5 X 4
 X 50 asの試験片を切り出し3点曲げ試験を行
なった。曲げ強度は57,4Jc9/mであった。
比較例4 平均粒径1.5ミクロンの炭化タングステン粉末109
を金型を用いて460 MPaの圧力でプレスし、得ら
れた成を体を真空中1400℃で1時間加熱した。得ら
れた焼結体より3×4×50mの試験片を切り出し3点
曲げ試験を行なった。曲げ強度は5五21c9/繻であ
った。
実施例3 平均粒径α8ミクロンの窒化アルミニウム粉末59を真
空蒸着装置の試料容器に入れ、酸化ランタンのペレット
をタングステンボートに入れた。
真空蒸着装置のペルジャー内を10−’ Torrまで
脱気した。試料容器は毎分20回転で回転させ、さらに
バイブレータ−で振動を与えて粒子を攪はんした。タン
グステンボートに25Aの電流を流し、酸化ランタンを
窒化アルミニウム粉末に15分間蒸着した。分析の結果
粉末中の酸化ランタンの景は1チであった。この粉末に
5チのステアリン酸を加え金型を用いて500 MPa
の圧力で成型し、窒素気流中400℃に加熱してステア
リン酸を除去した後、窒素気流中で1800℃で30分
間焼結を行なった。得られた焼結体を5 X 4 X 
30■の大きさに削り、3点曲げ試験を行なった。曲げ
強度は39.7に9/騙であった。
比較例5 平均粒径α8ミクロンの窒化アルミニウム粉末4、95
 gおよび酸化ランタン粉末105gをボールミルでよ
く混合し、5チのステアリン酸を加え金型な用い″C5
00MPaの圧力で成型し、窒素気流中400°Cに加
熱してステアリン酸を除去した後、窒素気流中で180
0℃で50分間焼結な行なった。得られた焼結体を5×
4×5011の大きさに削り、3点曲げ試験を行なった
。曲げ強度は24719/騙であったり 比較例6 平均粒径(18ミクロンの窒化アルミニウム粉末5gに
5%のステアリン酸を加え金型を用いて500 MPa
の圧力で成型し、窒素気流中400℃に加熱してステア
リン酸を除去した後、窒素気流中で1800℃で50分
間焼結を行なった。得られた焼結体を3×4×30mの
大きさに削り、3点曲げ試験を行なった。曲げ強度は2
4.6kg/Mであった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)粉末に焼結助剤または添加剤を添加して焼結させ
    る方法において、焼結助剤または添加剤を真空中で気化
    し、粉末表面に付着させることを特徴とする焼結方法。
  2. (2)焼結助剤または添加剤を真空中で気化し、粉末表
    面に付着させる方法がスパッタリング、真空蒸着、イオ
    ンプレーティングである特許請求の範囲第(1)項記載
    の焼結方法。
JP60281036A 1985-12-16 1985-12-16 焼結方法 Pending JPS62139801A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60281036A JPS62139801A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 焼結方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60281036A JPS62139801A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 焼結方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62139801A true JPS62139801A (ja) 1987-06-23

Family

ID=17633397

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60281036A Pending JPS62139801A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 焼結方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62139801A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02137759A (ja) * 1986-11-03 1990-05-28 Tam Ceramics Inc 高誘電率、低損失係数及び平らな温度係数を有する誘電セラミック
JPH0350147A (ja) * 1989-07-19 1991-03-04 Mitsubishi Materials Corp セラミックス複合粉末及びその製造方法
JPH03112845A (ja) * 1989-09-25 1991-05-14 Shinko Electric Ind Co Ltd セラミック基板形成用の粉末と該粉末を用いて形成したセラミック基板
US6007870A (en) * 1997-07-31 1999-12-28 Taiyo Yuden Co., Ltd. Process for preparing ceramic powder
JP2008231502A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Ulvac Japan Ltd 粉体攪拌機構、金属微粒子担持粉体の作製方法及び燃料電池用触媒
JP2014185054A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Sumitomo Electric Ind Ltd セラミックス結晶粒子、セラミックス焼結体およびそれらの製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02137759A (ja) * 1986-11-03 1990-05-28 Tam Ceramics Inc 高誘電率、低損失係数及び平らな温度係数を有する誘電セラミック
JPH0350147A (ja) * 1989-07-19 1991-03-04 Mitsubishi Materials Corp セラミックス複合粉末及びその製造方法
JPH03112845A (ja) * 1989-09-25 1991-05-14 Shinko Electric Ind Co Ltd セラミック基板形成用の粉末と該粉末を用いて形成したセラミック基板
US6007870A (en) * 1997-07-31 1999-12-28 Taiyo Yuden Co., Ltd. Process for preparing ceramic powder
JP2008231502A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Ulvac Japan Ltd 粉体攪拌機構、金属微粒子担持粉体の作製方法及び燃料電池用触媒
JP2014185054A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Sumitomo Electric Ind Ltd セラミックス結晶粒子、セラミックス焼結体およびそれらの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5705163B2 (ja) 生体分解性金属を含むインプラントおよびその製造方法
EP2125270B1 (en) Process for producing high density refractory metals&alloys sputtering targets
CN111058004A (zh) 一种铬硅合金溅射靶材及其制备方法
JP4080133B2 (ja) 高密度非磁性合金及びその製造方法
RU2714151C1 (ru) Способ нанесения графенового покрытия на металлические порошки
JP2545913B2 (ja) 耐食性のすぐれた非晶質溶射皮膜形成用Ni基合金粉末
CN110923750B (zh) 一种高熵合金的制备方法
JPS62139801A (ja) 焼結方法
RU2394112C2 (ru) Способ получения пористого никелида титана
JP2013142175A (ja) Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
CN103361615A (zh) 金刚石表面双阴极等离子沉积纳米涂层的装备与工艺
JP2012201948A (ja) Cu−Ga合金スパッタリングターゲット
CN111836915A (zh) 溅射靶用Fe-Pt-氧化物-BN系烧结体
JP4089304B2 (ja) ナノコンポジットバルク磁石およびその製造方法
TW201210789A (en) Heat insulation metal mold and method of manufacturing the same
JPS63199806A (ja) 焼結体の製造方法
CN113199024A (zh) 三元层状化合物、金属基复合材料及其制作方法和原料
JPH04224113A (ja) 蒸着用酸化チタンの製造方法
JPS59164607A (ja) ダイヤモンド合成法
JPS604241B2 (ja) 表面被覆材用金属成型体
JPH11172423A (ja) 導電性高密度酸化チタンターゲットの製造方法
JP2001210511A (ja) 磁気回路ヨーク
JPS62112704A (ja) 複合粉末の製造方法
JPH11322334A (ja) 焼結性に優れた酸化ガリウム粉末
JPH05214520A (ja) チタンのスパッタリング用ターゲット