JPS62139340A - ウエ−ハ搬送装置 - Google Patents

ウエ−ハ搬送装置

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Publication number
JPS62139340A
JPS62139340A JP60278977A JP27897785A JPS62139340A JP S62139340 A JPS62139340 A JP S62139340A JP 60278977 A JP60278977 A JP 60278977A JP 27897785 A JP27897785 A JP 27897785A JP S62139340 A JPS62139340 A JP S62139340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
housing
belt
chambers
vacuum
Prior art date
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Pending
Application number
JP60278977A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Tajima
田島 英司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS62139340A publication Critical patent/JPS62139340A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ウェーハの搬送装置に係り、特にウェーハを
ベルト機構を用いて搬送するウェーハ搬送装置に関する
ものである。
〔発明の背景〕
ウェーハの搬送装置には、ベルト搬送式、空気搬送式、
チャッキング搬送式およびウオーキングビームトランス
ポート式など、各種の方式があるが、ウェーハを大気側
から真空側へ、あるいは真空側から大気側へと搬送する
場合は、それぞれに得失がある。−搬には搬送の確実性
が高く、異物発生も少ないベルト搬送式がよく用いられ
る。
このベルト搬送方式では、耐真空室内に一対のチャンバ
が設けられており、それぞれに搬送ベルトが取りつけら
れている。二つの搬送ベルトは窩さが同じに揃えられ、
それぞれチャンバの周囲を回転している。またチャンバ
の中間には上下動して両チャンバの大気側と真空側を遮
断するゲートバルブが設けられている。
ウェーハはこのゲートバルブが開放状態で下降したとき
、一方の搬送ベルトに乗せられて他方のベルトに送られ
るのであるが、このゲートバルブの間を通ってウェーハ
を搬送するとき、これまでは前後の搬送ベルトの間隔が
ウェーハの口径に比べて大きいため、ウェーハの受は渡
しができず、ウェーハが落下してしまうという問題があ
った。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、ベルト式搬送装置において広範囲にわ
たるサイズのウェーハを連続して搬送可能とする、ウェ
ーハ搬送装置を提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明は、真空状態に保持することができ、それぞれ同
じ高さを有する搬送ベルトが設けられている一対のチャ
ンバと、このチャンバ間に設けられ、両チャンバ間を上
下に移動して大気側と真空側とを遮断するゲートバルブ
とを有するウェーハ搬送装置において、前記ゲートバル
ブが、その頭部に、このゲートバルブの開放時、前記搬
送ベルトと同じ高さとなる位置に回転リングベルトが設
けてあることを特徴とする。
半導体製造装置においては、素子の加工にイオン折込み
、電子ビーム露光など高真空を必要とするものがある。
特に真空中でウェーハ加工を行なうイオン打込み装置を
用いる太陽電池セルの製造には、ウェーハの高速連続搬
送が重要である。本発明は、真空ゲートバルブに回転す
るリングベルトを装着し、ウェーハの連続搬送を可能と
したものである。
〔発明の実施例〕
以下1本発明の一実施例を第5F1−1p2図により説
明する。第1図は本発明のウェー/)wl送装置の一実
施例の説明図で、ゲートバルブを遮断状態を示し、第2
図は同じく開放状態を示す。
これらの図において、lはハウジングで耐真空構造のも
のである。2および3はチャンバで、それぞれの外周に
は搬送ベルト4および5が取りつけられて回転している
。6はウェーハで、搬送ベルト4に乗せられ搬送ベルト
5側に送り出される。
7.8はそれぞれ搬送ベルト4および5を回転させるプ
ーリ、9および10はそれぞれチャンバ2および3側の
排気系である。11はシールベースで、チャンバ2およ
び3の中間にあって駆動治具12により上下に移動し、
Oリング13.ベローズ14と共に第1図に示すように
チャンバ2および3の大気側と真空側とを遮断する動作
を行なう。
15は回転リングベルトで、シールベース11が第2図
に示すように下降したとき、搬送ベルト4および5の中
間にあってウェーハ6の搬送通路の一部として動作する
。16はストッパで、シールベース11が上昇したとき
、これを一定位置に停止させるものである。
この実施例のウェーハ搬送装置においては、シールベー
ス11とOリング13とにより、ハウジング1内の大気
圧側と真空側の通路を開放、遮断するゲートバルブとし
ての動作を行なう。
第1図において駆動治具12を押し上げると、シールベ
ース11はハウジング1内の開口部の位置まで上昇する
が、ここでストッパ16により、シールベース11の角
部分にシールベース11をハウジング1の側壁方向に押
しつける力が生じ。
Oリング13がハウジング1の内面に圧着されて同図に
示す状態となる。この状態でチャンバ3側を排気系10
で真空排気すると、チャンバ2側とチャンバ3側とは、
シールベース11とOリング13とベローズ14とによ
り遮断分離され、チャンバ2側は大気圧となり、チャン
バ3側は高真空となる。
次に排気系9によりチャンバ2側を真空排気し、駆動治
具12を下げると、シールベース11が下降し、リング
ベルト15の位置がベルト4およびベルト5と同一高さ
となり、第2図に示す状態となる。この状態がウェーハ
6をベルト4よりベルト5に移送する状態である。すな
わちウェーハ6は、チャンバ2とチャンバ3側が共に真
空のとき搬送されることになる。
次に第2図によりウェーハ6の搬送と各部の寸法関係に
ついて説明する。
ウェーハ6がベルト4に乗って運搬されプーリ7を通過
するとき、従来は回転リングベルト15がなかったので
、ウェーハ6は口径の約1/2以上プーリ7を出ると落
下してしまうおそれがあった。落下する前に次のベルト
5にウェーハ6が達していなければならないから、プー
リ7とプーリ8の中心に距離はウェーハ6の口径の1/
2よす小さくなければならない。しかしシールベース1
1とハウジング1の内側寸法は、大気−真空間の耐強度
、チャンバ2、チャンバ3の取付裕度およびシールベー
ス11の駆動裕度などからみて、実際的寸法として30
〜40woが限度である。シールベース11としては、
大気圧に十分耐える強度とするには、10m以下の寸法
とすることはできない。またプーリ7およびプーリ8の
回転半径は、ベルト4および5の太さからLoan〜2
0mが必要である。したがってプウーリ4とプーリ5の
間隔は50〜60111が最少となる。以上の各部の寸
法から、搬送可能なウェーハ6の口径としては、100
〜120m+以上のものでなければならず、停止精度な
どを含めると、これまで150■以下のウェーハを搬送
することは困難であった。
本実施例においてはシールベース11の頭部に回転リン
グベルト15を設け、かつその位置をベルト4および5
と同一高さとしであるので、ベルト4および5の間の搬
送可能距離をこれまでの倍にすることができ、ウェーハ
6をベルト4から回転リングベルト15に移し、その後
ベルト5に安定に移送することができる。
このようにして本実施例では、ウェーハ6の口径が50
mmの小口径のものから大口径のものまで連続的に搬送
することが可能になる。
ウェーハ6が回転リングベルト15およびベルト5をへ
てチャンバ3側に移送が完了すると、シールベース11
は第2図より第1図の状態に戻り、チャンバ2側は再び
大気圧となり、大気圧に置がれた次のウェーハ6がベル
ト4に乗せられ、続いて第2図の状態に入り、以後前述
と同様の操作がくり返される。
なお1回転リングベルト15を他の駆動系を用い、独立
して回転するようにすることにより、ゲートバルブに大
型のものを使用することができ。
ウェーハの搬送能力および搬送精度を向上することがで
き、ウェーハの搬送能力および搬送精度を向上すること
ができ、ウェーハの搬送能力および搬送精度を向上する
ことができる。
以上のように、ウェーハの大気−真空間の搬送に本発明
による回転リングベルトを用いたベルト搬送機構を用い
ることにより、大口径よりこれまで搬送が困難であった
小口径のウェーハまで連続的に搬送することが可能とな
り、小形で搬送能力が大きい生産用設備とすることがで
きる。特に枚葉式のイオン打込み装置において、各種サ
イズのウェーハが高速、連続に搬送可能となり、大容量
機器を対象としたウェーハの処理能力の向上に極めて有
効である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ベルト式搬送装置において広範囲にわ
たるサイズのウェーハを連続して搬送可能とする。ウェ
ーハ搬送装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のウェーハ搬送装置の一実施例における
ゲートバルブ遮断時の説明図、第2図は同じくゲートバ
ルブ開放時の説明図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空状態に保持することができ、それぞれ同じ高さ
    を有する搬送ベルトが設けられている一対のチャンバと
    、該チャンバ間に設けられ、両チャンバ間を上下に移動
    して大気側と真空側とを遮断するゲートバルブとを有す
    るウェーハ搬送装置において前記ゲートバルブが、その
    頭部に、該ゲートバルブの開放時、前記搬送ベルトと同
    じ高さとなる位置に回転リングベルトが設けてあること
    を特徴とするウェーハ搬送装置。 2、前記リングベルトが、駆動装置により回転されるも
    のである特許請求の範囲第1項記載のウェーハ搬送装置
JP60278977A 1985-12-13 1985-12-13 ウエ−ハ搬送装置 Pending JPS62139340A (ja)

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JP60278977A JPS62139340A (ja) 1985-12-13 1985-12-13 ウエ−ハ搬送装置

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JP60278977A Pending JPS62139340A (ja) 1985-12-13 1985-12-13 ウエ−ハ搬送装置

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JP (1) JPS62139340A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04226048A (ja) * 1990-04-19 1992-08-14 Applied Materials Inc 二重カセット装填ロック装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04226048A (ja) * 1990-04-19 1992-08-14 Applied Materials Inc 二重カセット装填ロック装置
EP0452939B1 (en) * 1990-04-19 2000-11-02 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for loading workpieces in a processing system
US6454508B2 (en) 1990-04-19 2002-09-24 Applied Materials, Inc. Dual cassette load lock
US6454519B1 (en) 1990-04-19 2002-09-24 Applied Materials, Inc. Dual cassette load lock
US6599076B2 (en) 1990-04-19 2003-07-29 Applied Materials, Inc. Dual cassette load lock

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