JPS62138847A - シランカツプリング剤処理方法 - Google Patents

シランカツプリング剤処理方法

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Publication number
JPS62138847A
JPS62138847A JP27971285A JP27971285A JPS62138847A JP S62138847 A JPS62138847 A JP S62138847A JP 27971285 A JP27971285 A JP 27971285A JP 27971285 A JP27971285 A JP 27971285A JP S62138847 A JPS62138847 A JP S62138847A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coupling agent
silane coupling
vacuum vessel
treatment
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27971285A
Other languages
English (en)
Inventor
Daisuke Manabe
真鍋　大輔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP27971285A priority Critical patent/JPS62138847A/ja
Publication of JPS62138847A publication Critical patent/JPS62138847A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751—Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシランカップリング剤処理方法、特に、シラン
カップリング剤蒸気により基板を処理するシランカップ
リング剤処理方法に関する。
〔技術環境〕
近年の７オトレジストによるパターン形式は微細化が進
み、そのためフォトレジストと基板との密層刃部ち接層
力を強化する必要か生じている。
特にノボラ９り系のポジ型フォトレジストは高い解像度
を有することにエリ広く用いられているか、基板の表面
かガラスあるいは二酸化珪素などの酸化物の場合には、
フォトレジストと基板表面の接着力か小さく、その強化
が必要であった。
〔共通的技術〕
一般に、フォトレジストなどの樹脂とガラス等の接着力
強化のために、前処理としてシランカップリング剤をガ
ラス等の表面にコーティングすることが知られている。
例えば米国特許３，５４９゜３６８号（Ｒ，Ｈ，Ｃｏ１
１ｉｎｓ　ａｎｄ　Ｆ、Ｔ、　］Ｊｅｖｅｒｓｅ”Ｐｒ
ｏｃｅｓｓ　ｆｏｒ　Ｉｍｐｒｏｖｉｎｇ　Ｐｈｃｔｏ
ｒｅｓｉｓｔＡｄｈｅｓｉｏｎ”）に示されているよう
にフォトレジストの塗布前にヘキサメチルジシラザンな
トノヘキサアルキルジシラザンケスピンコードする前処
理を行うことが知られている。
このシランカップリング剤による前処理は、親水性であ
る基叡表面ｔカップリングにより疎水性に変換し、疎水
性の樹脂例えばフォトレジストとの親和性を高めること
によって接着力を強化するものである。
〔従来の技術〕
従来のシランカップリング剤処理方法としては前述した
ようにスピナーによる塗布あるいは浸漬による塗布方法
が知られていた。
あるいは、第２図に示すようにシランカップリング剤１
０を収容した密閉容器２０の中に基板５ケ所定時間靜置
することによって、シランカップリング剤蒸気中での処
理を行っていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の処理方法の中では、シラフカ９プリング
剤蒸気を用いた処理がシランカップリング剤中のゴミや
不純物の影響がなく、塗布や浸漬による処理りりも有利
である。
ところが、この蒸気による処理では密閉容器に基板を収
容する時、あるいは取り出す時に密閉容器を開放するた
め、密閉容器内のシランカップリング剤蒸気の濃度が低
下する。基鈑収容時の開放時間あるいは収容前の保持時
間によってシランカップリング剤蒸気の初期濃度が変動
するだけでなく、処理中も濃度が変化するため、シラン
カップリング剤処理条件の制御が困難であるという欠点
があった。
また、シランカップリング剤は空気中の水分と反応し、
劣化する。例えはへキサメチルジシラザンでは空気中の
水分と反応して、アンモニアを生成する。
従って、シランカップリング剤は水分のない雰囲気で保
管や使用することが必要であるが、従来の方法では操作
上空気中でしか処理できないという欠点もあった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のシランカップリング剤処理方法は、シランカッ
プリング剤を収容した第１の減圧容器内を減圧してシラ
ンカップリング剤を気化せしめた後、基板全収容し減圧
した第２の減圧容器内にシランカップリング剤蒸気を所
定時間導入して、前記基板表面を処理すること全特徴と
する。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
第１図に示すように、容器１１に入れたシランカップリ
ング剤【０を収容した第１の減圧容器ｌを所定圧力まで
真空ポンプ（図示せず）で減圧し、シラン力・ツブリン
グ剤を気化させる。
次に基板５を収容した第２の減圧容器を所定圧力まで減
圧する。第１の減圧容器内でシランカップリング剤の気
化が進み、所定圧力まで上昇した時に第１の減圧容器ｌ
と第２の減圧容器２とを接続する配管３に設けられてい
るバルブ４を所定時間開くことによりシランカップリン
グ剤蒸気を第２の減圧容器内に尋人して、基板５の表面
をシランカップリング剤処理する。
〔発明の効果〕
本発明のシラフカ９プリング剤処理方法は、処理前にシ
ランカップリング剤を収容した減圧容器内ケ減圧した後
、所定圧力までシランカップリング剤を気化ちせること
により、初期濃ｔ第１一定にして処理することができる
という効果がある。即ち、シランカップリング剤処理が
一定の条件のもとて安定に行えるという効果がある。
ま之、シランカップリング剤は減圧下で保存され、使用
されるため、空気中の水分の影響による劣化が生じない
という効果もある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す説明図、第２図は従来
の方法を示す説明図である。 １・・・・・・第１の減圧容器、２・・・・・・第２の
減圧容器。 ３・・・・・・配管、４・・・・・・バルブ、５・・・
・・・基板、【０・・・・・・シラフカ９プリング剤、
【【・・・・・・シラン力・ツブリング剤容器。 −・

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 　シランカップリング剤を収容した第１の減圧容器内を
    減圧してシランカップリング剤を気化せしめた後、基板
    を収容し減圧した第２の減圧容器内に前記シランカップ
    リング剤蒸気を所定時間導入して前記基板表面を処理す
    ることを特徴とするシランカップリング剤処理方法。
JP27971285A 1985-12-11 1985-12-11 シランカツプリング剤処理方法 Pending JPS62138847A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009119343A1 (ja) * 2008-03-25 2009-10-01 東京エレクトロン株式会社 表面処理装置、及び表面処理方法
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