JPS62138802A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents

カラ−フイルタ−の製造方法

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JPS62138802A
JPS62138802A JP60277983A JP27798385A JPS62138802A JP S62138802 A JPS62138802 A JP S62138802A JP 60277983 A JP60277983 A JP 60277983A JP 27798385 A JP27798385 A JP 27798385A JP S62138802 A JPS62138802 A JP S62138802A
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安生 松木
Tokugen Shiyuu
周 徳元
Masayuki Endo
昌之 遠藤
Masaki Nagata
正樹 永田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラー液晶表示素子、カラー固体I最像素子
などにおいて、色分解のために使用されるカラーフィル
ターの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来のカラーフィルターとしては、通常、三原色からな
る複数の染色層を積層して構成される多層型のものが知
られている。かかる多層型のカラーフィルターは、一般
的には次の(al〜(dlの工程によって製造される。
(al基板上に、ゼラチン、カゼイン、グリユーなどの
染料受容物質に重クロム酸アンモニウムなどの感光剤を
加えた液体を塗布して感光性を有する染料受容層を形成
し、次いでこの染料受容層をホトリソグラフィー技術を
用いて所定のパターンに形成する。
(blパターニングされた染料受容層を所定の分光特性
を有する染料によって染色し、第1の染色層を形成する
(C1第1の染色層の表面全体に、染料によって染色さ
れることのない無色透明な防染膜を形成する。
(d+前記+81〜(C)と同様な工程を繰り返すこと
により、第1の染色層部分以外の部分に第2および第3
の染色層を形成する。
しかし、このような多層型カラーフィルターの製造方法
においては、各染色層の間に防染膜を介在させる必要が
あることから、これらの染色層はそれぞれ異なったレヘ
ルGこ位置し、そのため視差ズレを生じ、染料受容層の
パターニング時における露光を各層において高い精度で
行うことが困難となり、染色層の色パターンが不鮮明に
なりやすいという問題がある。また、この製造方法によ
って得られるカラーフィルターは、染色層と防染膜とが
交互に積層された多層構造をなしているので、染色層と
防染膜との間あるいは防染膜と防染膜との間において接
着不良を生じ易く、信頼性が不充分となる問題を存して
いる。
このようなカラーフィルターに関する問題点を解消する
ため、特開昭55−25067号公報には、防染膜を使
用することな(染色層を化学薬品により防染処理を施し
、混染を防止するカラーフィルターの製造方法が開示さ
れている。即ち、このカラーフィルターの製造方法は、
カゼインなどの天然樹脂などに重クロム酸アンモニウム
を添加してなる染料受容層のパターンを形成し、これを
所定の分光特性を有する染料で第1色目を染色し、次い
でタンニン酸と酢酸の水溶液で処理した後、水洗し、次
に酒石酸アンチモニルカリウム(以下、「吐酒石」とい
う)の水ン容液で処理した後、水洗し乾燥することによ
り防染性を付与する方法である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前記カラーフィルターの製造方法は、染色された染料受
容層の表面を改質して混染の防止を行うものであるが、
染料受容層の表面のみを改質しているので、天然蛋白質
の染色のように、高温条件で染色を行う必要がある場合
には、混染の防止効果は極めて小さく、実用には適して
いないという問題があった。
本発明は、前記従来の技術的課題を背景になされたもの
で、防染膜を形成することなく、即ち防染膜の膜厚によ
る凹凸のないフラット型に各染色層を形成することが可
能で、パターン再現性が良好で、かつ温和な条件下での
化学処理により混染のない鮮明な色パターンの染料受容
層を有するカラーフィルターを簡易な工程で確実に製造
することが可能なカラーフィルターの製造方法を提供す
ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、Mij記従来技術の問題点に鑑み鋭意検
討した結果、使用される染料受容層の樹脂として特定の
樹脂を採用し、かつ特定の化学的混染防止剤処理とを組
み合わせることにより、前記目的を達成することを見出
し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、(イ)基体上に染色可能なビニル系重
合体からなる染料受容層のパターンを形成し、該染料受
容層を染色する工程と、(ロ)染色された染料受容層を
多価フェノールHA 導体の水溶液で処理する工程と、
(ハ)染色された染料受容層を無機金属塩の水溶液で処
理する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルター
の製造方法を提供するものである。
本発明では、まず(イ)基体上に染色可能なビニル系重
合体からなる染料受容層のパターンを形成し、該染料受
容層を染色する。
本発明において、染料受容層を構成する染料受容物質、
即ち基板上に塗膜のパターンを形成することが可能な樹
脂としては、温和な条件下で染色することができるビニ
ル系重合体、好ましくは構成単位としてアミノ基および
/またはカチオン性基を有する(メタ)アクリル酸エス
テルを(共)重合してなるビニル系重合体である。
前記重合体の構成単位として使用されるアミノ基を有す
る単量体としては、例えばジメチルアミノエチルアクリ
レート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルア
クリレート、ジプロピルアミノエチルアクリレート、ジ
プロピルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノ
プロピルアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタク
リレート、3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、3−ジメチルアミン−2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピル
メタクリルアミド、3−ジエチルアミノ−2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、3−ジエチルアミノ−2−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレートなどのアクリル酸エス
テルもしくはメタクリル酸エステル;p−ジメチルアミ
ノスチレン、m−ジメチルアミノスチレン、〇−ジメチ
ルアミノスチレン、p−ジエチルアミノスチレン、m−
ジエチルアミノスチレン、0−ジエチルアミノスチレン
、p−ジメチルアミノスチレン、p−ジメチルアミノ−
α−メチルスチレン、m−ジメチルアミノ−α−メチル
スチレン、〇−ジメチルアミンーα−メチルスチレン、
p−ジエチルアミノ−α−メチルスチレン、m−ジエチ
ルアミノ−α−メチルスチレン、0−ジエチルアミノ−
α−メチルスチレンなどのスチレン誘導体を挙げること
ができる。
また、前記重合体の構成単位として使用される単量体の
カチオン性基としては、例えば−N” (CL)i、−
N ” (C113)z(CzHs) 、−N ” (
C1h)z(CJw)、−N ” (CH:+)z(C
JJ 、−N ”(CzHs)i 、−N ”(Cz■
S) 2 (CzlL+)−N  ’  (CZIIS
)Z(C4H9)、−N  ”(CJt):+  、−
N  ”(C:+l(、)2(C,H9)  、−N 
 ”  (CJJ3) (Czlls) (Cztlt
)、−N  ”(C2115)(C3117)(C4+
1.+)、CHs         C2H5Ca  
Hqなどのアンモニウム型1 、−P”  (CH,)ff、   P”  (C1H
t )3、−5”  (C)13)2 、−5”  (
C3H7)! 、−3“ (C4+19)2、−3 ”
  (CzL)(CJt)、 −5”  (CJJ3)
 (C4119)  、などのホスホニウム塩を挙げる
ことができる。
前記カチオン性基を有する単量体としては、例えば2−
メタクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロ
リド、2−アクリロイロキシエチルトリプロピルアンモ
ニウムクロリド、3−メタクリロイロキシプロビルトリ
メチルアンモニウムクロリド、3−アクリロイロキシプ
ロピルトリメチルアンモニウムクロリド、2−ヒドロキ
シ−3−メタクリロイロキシプロビルトリメチルアンモ
ニウムクロリド、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロリドなどのアク
リル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル;2−ト
リメチルアンモニウムエチルアクリルアミド・クロリド
、2−トリプロピルアンモニウムエチルメタクリルアミ
ド・クロリド、3−トリメチルアンモニウムプロピルア
クリルアミド・クロリド、3−トリメチルアンモニウム
プロピルメタクリルアミド・クロリド、2−トリエチル
アンモニウムエチルアクリルアミド・ブロミ1  ド、
2−トリエチルアンモニウムエチルアクリルアミド・メ
チルスルホナートなどのアクリルアミドもしくはメタク
リルアミドの誘導体;2−メタクリロイロキシエチルト
リメチルホスホニウムクロリド、2−アクリロイロキシ
エチルトリプロピルホスホニウムクロリド、3−メタク
リロイロキシブロビルトリメチルホスホニウムクロリド
、3−7クリロイロキシプロピルトリメチルホスホニウ
ムクロリド、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイロキシ
プロピルトリメチルホスホニウムクロリド、2−ヒドロ
キシ−3−アクリロイロキシプロピルトリメチルホスホ
ニウムクロリドなどのアクリル酸エステルもしくはメタ
クリル酸エステル;2−トリメチルホスホニウムエチル
アクリルアミド・クロリド、2−トリプロピルホスホニ
ウムエチルメタクリルアミド・クロリド、3−トリメチ
ルホスホニウムプロピルメタクリルアミド・クロリドな
どのアクリルアミドもしくはメタクリルアミドのH’?
z ’L体;2−メタクリロイロキシエチルジメチルス
ルホニウムクロリド、2−7クリロイロキシエチルジプ
ロビルスルホニウムクロリド、3−メタクリロイロキシ
プロビルジメチルスルホニウムクロリド、3−アクリロ
イロキシプロピルジメチルスルホニウムクロリド、2−
ヒドロキシ−3−メタクリロイロキシプロピルジメチル
スルホニウムクロリドなどのアクリル酸エステルもしく
はメタクリル酸エステル;2−ジメチルスルホニウムエ
チルアクリル了ミド・クロリド、2−シフ。
ロビルメチルスルホニウムエチルメタクリルアミド・ク
ロリド、3−ジメチルスルホニウムプロピルアクリルア
ミド・クロリド、3−ジメチルスルホニウムプロピルメ
タクリルアミド・クロリドなどのアクリルアミドもしく
はメタクリルアミドの誘導体を挙げることができる。
これらのうち、重合体の塗膜性および該塗膜の染色性の
点で、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
を使用することが特に好ましい。
これらの単量体は、1種単独で使用することも、または
2種以上を併用することもできる。
前記アミノ基あるいはカチオン性基を含有する単量体と
共重合可能な他の単量体(以下[他の単量体」という)
としては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘ
キシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニルな
どのアクリル酸もしくはメタクリル酸のエステル;スチ
レン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニ
ルナフタレンなどのビニル芳香族化合物;アクリル酸、
メタクリル酸、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アクリ
ル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプ
ロピル、メタクリル酸=2−ヒドロキシプロピル、アク
リル酸−2−ヒドロキシブチル、メタクリル酸−2−ヒ
ドロキシブチルなどの官能性アクリル化合物もしくは官
能性メタクリル化合物;N−ビニルピロリドン、N−モ
ルホリルアクリルアミド、アクリロニトリル、4−ビニ
ルピリジン、2−ビニルキノリン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、N、N−ジメチルメタクリルアミド、
N、N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリル
アミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−4−プ
ロピルアクリルアミド、N−1−プロピルメタクリルア
ミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチル
メタクリルアミドなどの含窒素単量体を挙げることがで
きる。
これらの他の単量体は、1種単独で使用することも、ま
たは2種以上を併用することもできる。
アミノ基あるいはカチオン性基を含有する単量体と他の
単量体との共重合割合(モル比)は、通常、l/99〜
90/10、好ましくは5/95〜50150である。
なお、本発明で使用されるビニル系重合体の分子量は、
特に制限されるものではないが、通常、ポリスチレン換
算重量平均分子量が、5.000〜1000,000、
好ましくは10,000〜500.000である。
また、前記アミノ基あるいはカチオン性基を含有する単
量体と他の単量体との共重合形態および共重合方法は特
に制限されず、付加重合によるうンダム共重合体、ブロ
ック共重合体などのいずれでもよく、また共重合方法も
溶液重合法、乳化重合法などのいずれでもよい。
本発明では、前記ビニル系重合体を後記のように基板上
に例えばスプレー法、ロール法、回転塗布法などにより
塗布して塗膜を形成させた後、これにパターンマスクを
介して紫外線、電子線などの放射線を照射して硬イビさ
せ、常法に従い現像液により現像することにより染料受
容層となるパターンを形成させる。
この際、前記ビニル系重合体に放射線感応性を付与する
方法としては、前記ビニル系重合体にビスアジド化合物
などの放射線感応性架橋剤を添加する方法、あるいは放
射線感応性単量体を共重合する方法を挙げることできる
前記ビスアジド化合物としては、例えば4.4′−ジア
ジドスチルベン−2−2′−ジスルホン酸、4.4′−
ジアジドベンザルアセトフェノン−2−スルホン酸、4
.4’−ジアジドスチルベン−α−カルボン酸およびこ
れらのナトリ、ウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩な
どの水溶性ビスアジド化合物;およびp−フェニレンビ
スアジド、4゜4′−ジアジドヘンシフエノン、4,4
′−ジアジドスチルヘン、4,4′−ジアジドジフェニ
ルメタン、4,4′−ジアジドベンザルアセトフェノン
、2.6−ビス−(4′−アジドベンザル)シクロヘキ
サノン、2,6−ビス−(4′−アジドベンザル)−4
−メチルシクロヘキサノンなどの油溶性ビスアジド化合
物を挙げることができる。
これらのうち、前記ビニル系重合体との相溶性の点から
は、水溶性ビスアジド化合物が好ましい。
該ビスアジド化合物の添加量は、前記ビニル系重合体の
構成単位として使用される単量体100重量部に対して
、通常、1〜20重量部、好ましくは2〜10重量部で
ある。
また、前記放射線感応性単量体としては、例えば4′−
メタシクロイロキシカルコン、4′−アクリロイロキシ
カルコン、4−メタシクロイロキシカルコン、4−アク
リロイロキシカルコン、4′−メタクリフィロキシ−4
−メトキシカルコン、4′−アクリロイロキシ−4−メ
トキシカルコン、4−メタクリロイワキシー4′−メト
キシカルコン、4−アクリロイロキシ−4′−メトキシ
カルコン、4′−メタクリロイコキシ−4−ニトロカル
コン、4′−アクリロイロキシ−4′−二トロカルコン
などのカルコン誘導体などを挙げることができる。これ
らのうち、可視光線領域での透明性および感光特性の点
で4′−メタシクロイロキシカルコン、4−メトキシ−
4′−メタシクロイロキシカルコンが好ましい。
該放射線感応性単量体のビニル系重合体中における共重
合割合は、通常、2〜60モル%、好ましくは10〜4
0モル%である。
また、前記ビニル系重合体は、溶剤に溶解し、塗布溶液
の形で基板上に塗布される。かかる溶剤の具体例として
は、水、メタノール、エタノール、プロパツール、イソ
プロパツール、ブタノール、イソブタノール、エチレン
グリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモツプチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモツプチルエーテルなどの
アルコール系溶媒;およびアセトン、メチルエチルケト
ン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケ
トン、メチル−〇−ブチルケトン、メチル−n−アミル
ケトン、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、
ジ−n−プロピルケトン、ジイソプロピルケトン、シク
ロヘキサン、ホロンなどのケトン系溶媒を挙げることが
でき、これらのうち、ビニル系重合体の溶解性の点から
アルコール系溶媒が好ましい。
これらの溶媒は、1種単独で使用することも、または2
種以上を併用することもでき、その使用量はビニル系重
合体100重量部に対して、通常、100〜10,00
0重量部、好ましくは200〜2,000重量部である
更に、前記ビニル系重合体の溶液には、必要に応じてシ
ランカップリング剤などの接着助剤を併用することがで
きる。シランカップリング剤の具体側としては、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−
7ミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルト
リメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2
− (3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシ
ラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランなどを挙げることがで
き、その使用量はビニル系重合体100重量部に対して
、好ましくは10重量部以下、特に好ましくは0.01
〜1重量部である。
更にまた、現像液としては、例えば水、酢酸、プロピオ
ン酸などのカルボン酸系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル
、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどのエス
テル系溶媒;メタノール、エタノール、プロパツール、
イソプロパツール、ブタノール、イソブタノール、エチ
レングリコール、エチレングリコール七ツメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルな
どのアルコール系溶媒;およびアセトン、メチルエチル
ケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−n−ア
ミルケトン、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケト
ン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソプロピルケトン、
シクロヘキサン、ホロンなどのケトン系溶媒を挙げるこ
とができる。
これらの現像液は、1種単独で使用することも、または
2種以上を併用することもできる。
前記ビニル系重合体の溶液が塗布される基板は、大別し
て2通りに分けられる。1つは、液晶などの表示素子に
用いられるソーダガラス、パイレックスガラス、石英ガ
ラス、透明導電膜付きのソータカラス、透明導電膜付き
のパイレックスガラス、透明導電膜付きの石英ガラスな
どであり、もう1つは、光電変換素子に用いられる固体
撮像素子基板、即ちシリコン基板などが挙げられる。
本発明では、得られた染料受容層のパターンを染料によ
って染色する。
本発明において染料受容層の染色に使用される染料は、
通常、酸性染料である。赤、緑、青の三原色として用い
られる酸性染料としては、以下の市販品(商品名および
製造会社名)を挙げることができる。
赤色染料;スミノール・ミリング・スカーレソト・G(
住人化学工業0@製)、チバクロラン・スカーレソト・
G−P (チハ・ガイギー社′M)、チハクロラン・プ
ロント・スカーレソト(チハ・ガイギー社製)、スミノ
ール・ファスト・レッド・G(住人化学工業側製)、ス
ミライト・スブラ・レット・4BL (住人化学工業@
製)、アミニル・レッド・E−2BL(住人化学工業■
製、)、アミニル・レッド・E−3BL (住人化学工
業■製)、アジド・スカーレット・901 (住人化学
工業Gil製)、スミノール・ミリング・スカーレソト
・FG(住人化学工業■製)、スミノール・ミIJング
・オレンジ・SG(住人化学工業(掬製)、スミノール
・ファスト・オレンジ・PO(住人化学工業(掬製)、
マキシロン・レッド・GRL (チハ・ガイギー社製)
、エリオシン・スカーレソト・RE(チハ・ガイギー社
製)、ミカヮン・ブリリアント・レッド・8BS (、
三菱化成工業■)、アシド・ライト・スカーレソト・G
L 130%(三菱化成工業■製)、カヤノール・ミリ
ング・レッドR3125(日本化薬(株製)、カヤノー
ル・ミリング・レッド・3BW(日本化薬■製)。
緑色染料;スミノール・ミリング・ブリリアント・グリ
ーン・5G(住人化学工業■製)、アシド・ブリリアン
ト・ミリング・グリーン・G(住人化学工業■製)、ア
シド・ブリリアント・ミリング・グリーン・B(住人化
学工業(掬製)、ミカチオン・オリーブ・グリーン・3
GS (チバ・ガイギー社製)、カヤノール・ミリング
・グリーン・5GW(日本化薬■製)、ソオリイダゾー
ル・クリーン・P−GO(ヘキスト社製)、ヘーパー・
ファスト・グリーン・5G(バイエル社製)。
青色染料;スミライト・スプラ・ターコイス・ブルー・
G(住人化学工業側製)、チバクロン・ブルー・3G−
A (チバ・ガイギー社製)、カヤチオン・ターコイス
・P−NGF (日本化薬■製)スミカロン・ブルー・
E−FBL (住人化学工業■製)、スミカロン・ブリ
リアント・ブルー5−BL(住人化学工業■製)、スミ
ノール・レベリング・スカイブルーR・エキストラ・コ
ンク(住人化学工業■製)、カヤノール・ミリング・ブ
ルーGW (日本化薬■製)。
また、染料受容層の染色は、前記酸性染料の好ましくは
0. 1〜5重量%、特に好ましくは0.5〜2重量%
の水溶液中に、染料受容層を、通常、1〜30分間程度
浸漬することにより行われ、これにより平衡染着量に達
することができる。
本発明は、染料受容層を所定の分光特性を有する染料で
染色後、次いで以下に示す(ロ)工程および(ハ)工程
によって防染処理する。
すなわち、防染処理としては、(ロ)染色された染料受
容層を多価フェノール3A 導体の水?8液で処理する
工程と、(ハ)染色された染料受容層を無機金属塩の水
溶液で処理する工程を組み合わせて用いる。
ここで、(ロ)工程で使用される多価フェノール誘導体
の具体例としては、3,4.5−hリヒドロキシ安息香
酸、タンニン酸、タンニンスルホン酸ナトリウムなどの
ほか、特開昭59−131660号公報記載のピロガロ
ールと有機酸との反応生成物などを挙げることができる
また、(ロ)工程と組み合わせて用いる(ハ)工程の無
機金属塩としては、塩化タンタル、塩化ニオブ、塩化チ
タン、塩化第2鉄、吐酒石を挙げることができる。
防染処理は、例えばまず前記多価フェノール誘導体の好
ましくは0.1〜10重景%、特に好ましくは0.4〜
4重量%の水溶液に染色された染料受容層を室温下0.
5〜30分間程度浸分間水水洗後、更に前記無機金属塩
の好ましくは0. 1〜10重量%、特に好ましくは0
.5〜4重世%の水溶液に室温下0.5〜30分間程度
浸分間水洗し、乾燥することにより行うことができる。
また、こられの水溶液に浸漬する代わりにこれらの水溶
液をスプレーなどにより塗布することにより防染処理を
行うこともできる。
なお、これらの水溶液は、溶解性を上げるために必要に
応じて酢酸などを添加することができる。
本発明では、前記(イ)〜(ハ)の工程を1回以上順次
実施し、最後に(イ)の工程を実施することによりカラ
ーフィルターを得ることができる。
例えば、赤色、緑色、青色を基板上に順次積層するには
、第1回目として(イ)工程で赤色に染色し、次いで(
ロ)および(ハ)の工程を実施し、第2回目として(イ
)工程で緑色に染色し、次いで(ロ)および(ハ)の工
程を実施し、最終回として(イ)工程で青色に染色すれ
ば、三原色を有するカラーフィルターが得られる。
本発明では、染料受容層として特定のビニル系重合体を
採用し、かつ防染処理として多価フェノール誘導体の水
溶液を用いる工程と無機金属塩の水溶液を用いる工程と
を組み合わせて使用することにより、該受容層上に多価
フェノール誘導体と無機金属塩とが化学反応して不溶性
皮膜となり、次工程で使用される染料の着色を不可能に
し、よって得られるカラーフィルターの混染を防止し、
かつ皮膜となるビニル系重合体自体が熱的、化学的に安
定なため高温条件下での染色をも可能となしたものであ
る。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこ
れらによって制限されるものではない。
実施例I N−ビニルピロリドン(68重量部)と2−メタシクロ
イロキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド(14
重量部)とメタクリル酸メチル(18重量部)の共重合
体(ポリスチレン換算重量平均分子量;120,000
)lOgをメチルセロソルブ′90gに’/g N シ
タ。
得られた溶液に4,4′−ジアジドスチルヘン−2,2
’−ジスルホン酸ナトリウム0.4gを加えてPil拌
し均一に混合した後、この?8液を孔径0.2μmのフ
ィルターで濾過し、塗布溶液を調製した。
この塗布溶液をガラス基板上に3,000rpmでスピ
ンコードした後、乾燥して1.1μmの塗膜を形成した
。これに所定のパターンを有するマスクを介して紫外線
を30 m J / cI11露光し、メチルエチルケ
トンとイソプロピルアルコールの混合溶媒(重量比; 
85/15)で現像した後、メチルエチルケトンでリン
スすることにより、染料受容層のパターンを形成した。
バターニングされた染料受容層を下記第1色目の染色浴
に室温で5分間浸漬することにより染色した。
かくして染色された染料受容層を1重量%タンニン酸と
1重量%酢酸とを含む水溶液に室温下1分間浸漬し水洗
後、1重量%吐酒石水溶液に室温下1分間浸漬し水洗後
、150°Cで30分間乾燥し、第1色目の着色パター
ンを形成した。以下、第2色目、および第3色目につい
て同様の操作を施すことにより赤色、緑色、青色のパタ
ーンを有する混染のないカラーフィルターを得ることが
できた。
第1色目染色浴 カヤノール ミリング レッド 3BW(Kayano
l Milling Red 3BW )   1重量
部蒸留水           99重量部第2色目染
色浴 カヤノール ミリング グリーン 5GW(Kayan
ol Milling Green 5GW )   
1重量部蒸留水            99重量部第
3色目染色浴 カヤノール ミリング ブルー CW (Kayanol Milling Blue GW 
)    1重量部蒸留水            9
9重量部実施例2 4′−メタシクロイロキシカルコン(20重量部)と2
−メタクリロイロキジエチルトリメチルアンモニウムク
ロリド(80重量部)の共重合体(ポリスチレン換算重
量平均分子量; 140.000)9gをメチルセロソルブ91gに溶解
し、この溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過し塗
布溶液を調製した。
この塗布溶液を用い、実施例1と同様の操作によりカラ
ーフィルターを作製した。得られたカラーフィルターの
染色された各染料受容層は、他の染料による混染が全く
なく優れたものであった。
実施例3 N−ビニルピロリドン(30重量部)と3−ジジメチル
アミノプロビルメタクリルアミド(38重量部)と4′
−メタフィロイロキシカルコン(32重量部)の共重合
体(ポリスチレン換算重量平均分子量; 200. 0
00)  9 gをカルピトール91gに溶解し、この
溶液を孔径0.2μmのフィルターで濾過し塗布溶液を
調製した。
この塗布溶液をガラス基板上に3.00Orpmでスピ
ンコードした後、乾燥して1.0μmの塗膜を形成した
。これに所定のパターンを有するマスクを介して紫外線
を70 m J /c++を露光し、メチルエチルケト
ンとイソプロピルアルコールの混合溶媒(重量比; 9
/95)で現像した後、メチルイソブチルケトンでリン
スすることにより、染料受容層のパターンを形成した。
パターニングされた染料受容層を下記第1色目の染色浴
に40℃で5分間浸漬することにより染色した。
か(して染色された染料受容層を1重世%タンニン酸と
1重量%酢酸とを含む水溶液に室温下1分間浸漬し水洗
後、1重量%吐酒石水溶液に室温下1分間浸漬し水洗後
、l 50 ”Cで30分間乾燥し、第1色目の着色パ
ターンを形成した。以下、第2色目、および第3色目に
ついて同様の操作を施すことにより赤色、緑色、青色の
パターンを有する混染のないカラーフィルターを得るこ
とができた。
第1色目染色浴 カヤノール ミリング レッド R3125(Kaya
nol旧目ing Red R5125)  0. 5
重量部蒸留水           99.5重量部第
2色目染色浴 カヤノール ミリング グリーン 5GW(Kayan
ol Milling Green 5GW )  1
   重量部蒸留水           99  重
量部筒3色目染色浴 カヤノール ミリング ブルー GW (Kayanol Milling Btu−e GW
 )   1   重量部〔発明の効果〕 本発明によれば、防染膜を形成することなく各染色層を
形成することが可能でパターン再現性が良好、かつ温和
な条件下での化学処理により混染のない鮮明な色パター
ンの染料受容層をフラット型に有するカラーフィルター
を、簡易な工程で確実に製造することが可能なカラーフ
ィルターの製造方法を提供することができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(イ)基体上に染色可能なビニル系重合体からな
    る染料受容層のパターンを形成し、該染料受容層を染色
    する工程と、(ロ)染色された染料受容層を多価フェノ
    ール誘導体の水溶液で処理する工程と、(ハ)染色され
    た染料受容層を無機金属塩の水溶液で処理する工程とを
    含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
  2. (2)ビニル系重合体が構成単位としてアミノ基および
    /またはカチオン性基を有する(メタ)アクリル酸エス
    テルを(共)重合してなる特許請求の範囲第1項記載の
    カラーフィルターの製造方法。
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