JPS62133091A - 物品の洗浄システム装置 - Google Patents
物品の洗浄システム装置Info
- Publication number
- JPS62133091A JPS62133091A JP27136585A JP27136585A JPS62133091A JP S62133091 A JPS62133091 A JP S62133091A JP 27136585 A JP27136585 A JP 27136585A JP 27136585 A JP27136585 A JP 27136585A JP S62133091 A JPS62133091 A JP S62133091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- steam
- cleaning
- liquid
- pervaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［メイ、業上の利用分野］
木什明は、高純度の有機溶剤を使用１７た物品の蒸気洗
浄を効率よく行うための洗浄システム装置に関する。 ［従来の技術および問題点］ シリコーンウェハーなどの半導体基材を始めとする電子
材わ１．精密機器の部品等の洗浄においては、それら被
洗浄物の表面に極めて微量の不純物が残存するだけ−Ｃ
１得られる製品の性能に著しい悪影響を与える。そのた
め、上記のような部品の洗浄に使用する有機溶剤には水
分、パーティクル。 酸分等の不純物の混入がほとんどない高い純度が要求さ
れる。また、洗浄後の有ｎ溶剤を循環使用する場合には
、洗浄によって混入した水分、パーティクル等の不純物
を除去し、該有機溶剤を高度に精製するための１１１生
方法および装置が必要である。さらに、被洗浄物の表面
に付着した水、酸分の除去能力を＾めるため、イソプロ
ピルアルコール（以下、ＩＰＡともいう）のような極性
を有する一ｆｉ機溶剤が好ましく使用され′Ｃいるが、
このような極性溶剤は、不純物として含まれる水と共沸
混合物を形成するため通常の蒸留で完全に再生すること
が困難である。 そのため、Ｊ−記のように洗浄により廃液とじて水分、
パーティクル、酸分を含む有Ｒ溶剤の再生ｔこは、第２
図に示すようなパーベーパレーション装置と蒸留装置と
を組合せた再生装置が用いられる。ｌ！ＩＩち、第２図
は洗浄装置と焦、パーベーパレーション装置１および蒸
留装置−Ｌｌ−より構成される洗浄システノ、装置υ°
Ｃあり、洗浄装置￥１１より排出される廃液をパーベー
パレーション装置上の処理液室４に供給してパーベーパ
レーションにより水分、酸分等を除き、次いて処理され
た有機溶剤を蒸留Ｒ装置１Ｌに供給して蒸留によりパー
ティクルイオン性物質等を除去し、再生した有機溶剤を
留出液として得る。 、Ｌ記の如きブ［１セスでは、充分に精製された有機溶
剤が蒸留塔の留出液として再生できるため、該有機溶剤
をそのまま液状で使用いる浸漬洗浄などの洗浄方法には
効率的である。しかしながら、洗浄方法が有夫溶剤を蒸
気の状態で洗浄装置に供する場合には、蒸留塔で再生し
、凝縮させた液状のイ′ｉ機溶剤を再び蒸発させる必要
があり、熱エネルギー的に非効率であるという問題を生
ずる。 ［＋！！＋題を解決するための手段］ 本発明は、上記問題に鑑み成されたもので、パーベーパ
レーション装置と特殊な構造を有ずろ熱気洗浄装置とを
組合せることにより、有機溶剤を効率的に循慎使用して
蒸気洗浄に供することを可能とした物品の洗浄システム
装置を提供する。 以下、本発明を添付図面によって詳細に説明するが、本
発明はこれらの添付図面に限定されるものではない。第
１図は、本発明の洗浄システム装置の代表的な態様を示
す概略図°Ｃある。川１ち、本発明の洗浄システム装置
は、隔膜３によって処理液室４と透過蒸気室５とに区画
され、該処理液室４に液供給口６および液取出ロア、該
透過蒸気室５に透過蒸気取出口Ｅ（をそれぞれ設りたパ
ーベーパレーション装置上、および充填Ｊ＝Ｚを介して
下部に蒸気発生槽９と上部ζこノベ気洗浄室１０とを有
し、該蒸気洗浄室１０に凝縮室受り１２を設けた熱気洗
浄装置２工より構成され、さらに蒸気洗浄装置λの凝縮
液受け１２とパーベーパレーション装置１の液供給口６
、パーベーパレーション装置１の液取出ロアと蒸気洗浄
装置λの蒸気発生槽９とがそれぞれ接続して構成されて
いる。 本発明の洗浄システム装置におけるパーベーパレーショ
ン装置とは、隔膜３によって区画された処理液室４と透
過蒸気室５とを有する公知の構造のパーベーパレーショ
ン装置が特に制限なく使用されろ。例えば、処理液室４
と透過蒸気室５とは、図に示すように隔膜３を水平に配
して区画してもよいし、縦方向に配して区画してもよい
。 −１−記態様のうち、隔膜を縦方向に配したパーベーパ
レーション装置にあっては、ＩＰＡ−水のように比重差
を有する液体成分よりなる液体混合物より比重の大きい
液体成分を分離する場合、液供給口６を下部に、液取出
ロアを上部に設けることが、取出液の純度を上げ、次の
蒸気洗浄装置（λでの洗浄効果をより向上することがで
き好ましい。 また、透過蒸気室５には透過蒸気取出口８に減圧装置を
取り付けて減圧するような構造や、処理液室４あるいは
処理液室１１の液供給口６に接続する配管に加２！３装
置を設け、処理液を加熱するような構造等は好ましい態
様である。また、隔膜３は有機溶剤−水の系において水
を選択的に透過し得るものＣあれば特に制限されず、一
般に透過係数が０、 ＯＪ ｋ ｇ／ｍ’ ・ＩＩ ｒ
以上好ましくは０．０５ｋｇ／イ・Ｈｒ以上、分離係数
が１０以上、好ま
浄を効率よく行うための洗浄システム装置に関する。 ［従来の技術および問題点］ シリコーンウェハーなどの半導体基材を始めとする電子
材わ１．精密機器の部品等の洗浄においては、それら被
洗浄物の表面に極めて微量の不純物が残存するだけ−Ｃ
１得られる製品の性能に著しい悪影響を与える。そのた
め、上記のような部品の洗浄に使用する有機溶剤には水
分、パーティクル。 酸分等の不純物の混入がほとんどない高い純度が要求さ
れる。また、洗浄後の有ｎ溶剤を循環使用する場合には
、洗浄によって混入した水分、パーティクル等の不純物
を除去し、該有機溶剤を高度に精製するための１１１生
方法および装置が必要である。さらに、被洗浄物の表面
に付着した水、酸分の除去能力を＾めるため、イソプロ
ピルアルコール（以下、ＩＰＡともいう）のような極性
を有する一ｆｉ機溶剤が好ましく使用され′Ｃいるが、
このような極性溶剤は、不純物として含まれる水と共沸
混合物を形成するため通常の蒸留で完全に再生すること
が困難である。 そのため、Ｊ−記のように洗浄により廃液とじて水分、
パーティクル、酸分を含む有Ｒ溶剤の再生ｔこは、第２
図に示すようなパーベーパレーション装置と蒸留装置と
を組合せた再生装置が用いられる。ｌ！ＩＩち、第２図
は洗浄装置と焦、パーベーパレーション装置１および蒸
留装置−Ｌｌ−より構成される洗浄システノ、装置υ°
Ｃあり、洗浄装置￥１１より排出される廃液をパーベー
パレーション装置上の処理液室４に供給してパーベーパ
レーションにより水分、酸分等を除き、次いて処理され
た有機溶剤を蒸留Ｒ装置１Ｌに供給して蒸留によりパー
ティクルイオン性物質等を除去し、再生した有機溶剤を
留出液として得る。 、Ｌ記の如きブ［１セスでは、充分に精製された有機溶
剤が蒸留塔の留出液として再生できるため、該有機溶剤
をそのまま液状で使用いる浸漬洗浄などの洗浄方法には
効率的である。しかしながら、洗浄方法が有夫溶剤を蒸
気の状態で洗浄装置に供する場合には、蒸留塔で再生し
、凝縮させた液状のイ′ｉ機溶剤を再び蒸発させる必要
があり、熱エネルギー的に非効率であるという問題を生
ずる。 ［＋！！＋題を解決するための手段］ 本発明は、上記問題に鑑み成されたもので、パーベーパ
レーション装置と特殊な構造を有ずろ熱気洗浄装置とを
組合せることにより、有機溶剤を効率的に循慎使用して
蒸気洗浄に供することを可能とした物品の洗浄システム
装置を提供する。 以下、本発明を添付図面によって詳細に説明するが、本
発明はこれらの添付図面に限定されるものではない。第
１図は、本発明の洗浄システム装置の代表的な態様を示
す概略図°Ｃある。川１ち、本発明の洗浄システム装置
は、隔膜３によって処理液室４と透過蒸気室５とに区画
され、該処理液室４に液供給口６および液取出ロア、該
透過蒸気室５に透過蒸気取出口Ｅ（をそれぞれ設りたパ
ーベーパレーション装置上、および充填Ｊ＝Ｚを介して
下部に蒸気発生槽９と上部ζこノベ気洗浄室１０とを有
し、該蒸気洗浄室１０に凝縮室受り１２を設けた熱気洗
浄装置２工より構成され、さらに蒸気洗浄装置λの凝縮
液受け１２とパーベーパレーション装置１の液供給口６
、パーベーパレーション装置１の液取出ロアと蒸気洗浄
装置λの蒸気発生槽９とがそれぞれ接続して構成されて
いる。 本発明の洗浄システム装置におけるパーベーパレーショ
ン装置とは、隔膜３によって区画された処理液室４と透
過蒸気室５とを有する公知の構造のパーベーパレーショ
ン装置が特に制限なく使用されろ。例えば、処理液室４
と透過蒸気室５とは、図に示すように隔膜３を水平に配
して区画してもよいし、縦方向に配して区画してもよい
。 −１−記態様のうち、隔膜を縦方向に配したパーベーパ
レーション装置にあっては、ＩＰＡ−水のように比重差
を有する液体成分よりなる液体混合物より比重の大きい
液体成分を分離する場合、液供給口６を下部に、液取出
ロアを上部に設けることが、取出液の純度を上げ、次の
蒸気洗浄装置（λでの洗浄効果をより向上することがで
き好ましい。 また、透過蒸気室５には透過蒸気取出口８に減圧装置を
取り付けて減圧するような構造や、処理液室４あるいは
処理液室１１の液供給口６に接続する配管に加２！３装
置を設け、処理液を加熱するような構造等は好ましい態
様である。また、隔膜３は有機溶剤−水の系において水
を選択的に透過し得るものＣあれば特に制限されず、一
般に透過係数が０、 ＯＪ ｋ ｇ／ｍ’ ・ＩＩ ｒ
以上好ましくは０．０５ｋｇ／イ・Ｈｒ以上、分離係数
が１０以上、好ま
【〕＜は３０以１；のものが好適に使
用される。なお、分離係数は下記の式−０表されるもの
である。 このような１Ｉｉｐ膜としＣは、例えばピリジウムＪｆ
ｚ基。 アミン塩基、第四アンモニウム塩基、スルホン酸基、カ
ルボン酸基等の交換基を有するイオン交換膜が好ましく
、水分の除去率を高くすることが出来る。 上６己パーベーバレーシミＩン装置計１−においては、
洗浄に供された後の廃有機溶剤を処理液室４に供給し、
ｌ１１う膜；３によって水分等を透過蒸気室５に透過さ
せた後、液取出ロアより有機溶剤を取り出す。 この場合、処Ｊ！ｒ条件は処理液室４に存在する有機溶
剤の温度が２０〜ＩＯ（１°ｃ 、透過蒸気室５の真空
席が０〜＋ ００ Ｔｏｒｒとなるように行うことが好
ましい。 本発明におけるノヘ気洗浄装置λ乙ｔ、蒸気発生槽ざ〕
と蒸気洗浄室１０とが充填層１１を介して連結され、該
蒸気洗浄室１０ζこ凝縮液受け】２を設けて構成される
。蒸気発生槽９は、蒸気洗浄に供する１１機溶剤の蒸気
を発生ずるために内部加熱方式、あるいはジャケットを
設けた外部加熱方式の構造を有する。また、熱気洗浄室
１０は、有機溶剤の蒸気により物品の洗浄および乾燥を
行う。蒸気法ｄ１窒１０の１１部には、有機溶剤の蒸気
が拡散するのを防上するため、一般にクーラー１９を設
け、内部には洗浄に洪り、て水分、パーティクル等を含
む有機溶剤の凝縮液を蒸気洗浄装置牙の外部に取り出す
ための凝縮液受け】２を有し、これによって、Ｍ気発生
糟９における水分等の蓄積を防＋ｔ Ｌ／、後記する充
填層】１の作用と共に常に高純度の有ｎ溶剤の蒸発によ
って蒸気洗浄を行うことができる。さらに、蒸気洗浄装
置の充填層１１は、蒸気発生槽９て発生する蒸気に同伴
されるパーティクルを衝突させてカットし、有ｎ溶剤の
蒸気のみを通過させる作用機能を有するものである。し
たがって、充填層１１はかかる機能を有するものであれ
ばその形状などは特に制限されず、一般に、蒸留塔に用
いられる公知のトレイ、充填物等を装填した層が好適に
使用される。具体的には、トレイとして泡鐘トレイ、多
孔板トレイ等が、また、充填物としてはラッシヒリング
、ベルサドル、インタロツクスサドル、レッシングリン
グ、ボールリング、網状物、繊維状物等が挙げられ、特
に充１１４物を装填して構成される充填Ｊ―が最も好適
である。 本発明の蒸気洗浄装置λと接続した蒸気発生槽９は、ラ
イン１４によってパーベーパレーション装置１の液取出
ロアと接続しているため、水分。 酸分等が除去された有機溶剤が供給される。この場合、
新たな有機溶媒液をライン１５より補給してもよい。ま
た、補給する有機溶剤が水分等を含む場合には、後記す
るライン１３に補給することが望ましい。なお、蒸気洗
浄装置−２−の蒸気洗浄室１（）に設けた凝縮液受け１
２が、ライン１３によってパーベーパレーション装置上
の液供給口６と接続されているため、洗浄に供し凝縮液
として得られる水分、パーティクル等を含む有機溶剤は
パーベーパレーション装置に供給されて水分が分離され
る。面記したうイン１３あるいはライン１４（ごパーテ
ィクルを除去するために、マクロフィルター等の濾過器
を介在させることは、循環系内でのパーティクルの蓄積
を低減でき、また、充填層１１の負担を軽減できる点て
好ましい態様である。 本発明の洗浄システム装置の適用し得る有機溶剤は、蒸
気洗浄が可能なものであれば特に制限されないが、中で
もイソプロピルアルコール、メチルアルコール、エチル
アルコール等の水と共沸物を形成するものに対して有効
である。 ［効果］ 以Ｆ−の説明より理解されるように、本発明の洗浄シス
テム装置はパーベーパレーション装置と特定の構造のノ
＾気洗浄装置を組合せることにより、パーベーパレーシ
ョン装置で精製された有機溶剤を直接使用してノＡ″Ａ
洗浄を行い、被洗浄物品の表面に水分、パーティクル等
の残存が全くない良好な洗浄効果を得ることが可能であ
る。従って、再生処理装置と蒸気洗浄装置とを組合せた
装置に対して、装置を小型化することができるばかりな
く、有機溶剤の蒸発、凝縮設備の削減によるエネルギー
コストの低減を図ることも可能であり、工業的な価（１
αは極めて高い。
用される。なお、分離係数は下記の式−０表されるもの
である。 このような１Ｉｉｐ膜としＣは、例えばピリジウムＪｆ
ｚ基。 アミン塩基、第四アンモニウム塩基、スルホン酸基、カ
ルボン酸基等の交換基を有するイオン交換膜が好ましく
、水分の除去率を高くすることが出来る。 上６己パーベーバレーシミＩン装置計１−においては、
洗浄に供された後の廃有機溶剤を処理液室４に供給し、
ｌ１１う膜；３によって水分等を透過蒸気室５に透過さ
せた後、液取出ロアより有機溶剤を取り出す。 この場合、処Ｊ！ｒ条件は処理液室４に存在する有機溶
剤の温度が２０〜ＩＯ（１°ｃ 、透過蒸気室５の真空
席が０〜＋ ００ Ｔｏｒｒとなるように行うことが好
ましい。 本発明におけるノヘ気洗浄装置λ乙ｔ、蒸気発生槽ざ〕
と蒸気洗浄室１０とが充填層１１を介して連結され、該
蒸気洗浄室１０ζこ凝縮液受け】２を設けて構成される
。蒸気発生槽９は、蒸気洗浄に供する１１機溶剤の蒸気
を発生ずるために内部加熱方式、あるいはジャケットを
設けた外部加熱方式の構造を有する。また、熱気洗浄室
１０は、有機溶剤の蒸気により物品の洗浄および乾燥を
行う。蒸気法ｄ１窒１０の１１部には、有機溶剤の蒸気
が拡散するのを防上するため、一般にクーラー１９を設
け、内部には洗浄に洪り、て水分、パーティクル等を含
む有機溶剤の凝縮液を蒸気洗浄装置牙の外部に取り出す
ための凝縮液受け】２を有し、これによって、Ｍ気発生
糟９における水分等の蓄積を防＋ｔ Ｌ／、後記する充
填層】１の作用と共に常に高純度の有ｎ溶剤の蒸発によ
って蒸気洗浄を行うことができる。さらに、蒸気洗浄装
置の充填層１１は、蒸気発生槽９て発生する蒸気に同伴
されるパーティクルを衝突させてカットし、有ｎ溶剤の
蒸気のみを通過させる作用機能を有するものである。し
たがって、充填層１１はかかる機能を有するものであれ
ばその形状などは特に制限されず、一般に、蒸留塔に用
いられる公知のトレイ、充填物等を装填した層が好適に
使用される。具体的には、トレイとして泡鐘トレイ、多
孔板トレイ等が、また、充填物としてはラッシヒリング
、ベルサドル、インタロツクスサドル、レッシングリン
グ、ボールリング、網状物、繊維状物等が挙げられ、特
に充１１４物を装填して構成される充填Ｊ―が最も好適
である。 本発明の蒸気洗浄装置λと接続した蒸気発生槽９は、ラ
イン１４によってパーベーパレーション装置１の液取出
ロアと接続しているため、水分。 酸分等が除去された有機溶剤が供給される。この場合、
新たな有機溶媒液をライン１５より補給してもよい。ま
た、補給する有機溶剤が水分等を含む場合には、後記す
るライン１３に補給することが望ましい。なお、蒸気洗
浄装置−２−の蒸気洗浄室１（）に設けた凝縮液受け１
２が、ライン１３によってパーベーパレーション装置上
の液供給口６と接続されているため、洗浄に供し凝縮液
として得られる水分、パーティクル等を含む有機溶剤は
パーベーパレーション装置に供給されて水分が分離され
る。面記したうイン１３あるいはライン１４（ごパーテ
ィクルを除去するために、マクロフィルター等の濾過器
を介在させることは、循環系内でのパーティクルの蓄積
を低減でき、また、充填層１１の負担を軽減できる点て
好ましい態様である。 本発明の洗浄システム装置の適用し得る有機溶剤は、蒸
気洗浄が可能なものであれば特に制限されないが、中で
もイソプロピルアルコール、メチルアルコール、エチル
アルコール等の水と共沸物を形成するものに対して有効
である。 ［効果］ 以Ｆ−の説明より理解されるように、本発明の洗浄シス
テム装置はパーベーパレーション装置と特定の構造のノ
＾気洗浄装置を組合せることにより、パーベーパレーシ
ョン装置で精製された有機溶剤を直接使用してノＡ″Ａ
洗浄を行い、被洗浄物品の表面に水分、パーティクル等
の残存が全くない良好な洗浄効果を得ることが可能であ
る。従って、再生処理装置と蒸気洗浄装置とを組合せた
装置に対して、装置を小型化することができるばかりな
く、有機溶剤の蒸発、凝縮設備の削減によるエネルギー
コストの低減を図ることも可能であり、工業的な価（１
αは極めて高い。
第１図は、本発明の洗浄システムＲＪｆの代表的な態様
を示す概略図、第２図は、従来の洗浄装置の概略図であ
る。 上・・・・パーベーパレーション装置、ｉ・・・・蒸気
洗浄装置、；３・・・・１ｌｌｉｉ膜、４・・・・処理
液室、５・・・・透過蒸気室、６・・・・液供給口、７
・・・・液取出口、８・・・・透過蒸気取出室、９・・
・・蒸気発生槽。
を示す概略図、第２図は、従来の洗浄装置の概略図であ
る。 上・・・・パーベーパレーション装置、ｉ・・・・蒸気
洗浄装置、；３・・・・１ｌｌｉｉ膜、４・・・・処理
液室、５・・・・透過蒸気室、６・・・・液供給口、７
・・・・液取出口、８・・・・透過蒸気取出室、９・・
・・蒸気発生槽。
Claims (1)
- １、隔膜によって区画された処理液室と透過蒸気室とを
有し、該処理液室に液供給口と液取出口を、該透過蒸気
室に透過蒸気取出口をそれぞれ設けたパーベーパレーシ
ョン装置、および充填層を介して下部に蒸気発生槽およ
び上部に蒸気洗浄室とを有し、該蒸気洗浄室に凝縮液受
けを設けた蒸気洗浄装置より構成され、蒸気洗浄装置の
凝縮液受けをパーベーパレーシヨン装置の液供給口、お
よびパーベーパレーシヨン装置の液取出口と蒸気洗浄装
置の蒸気発生槽をそれぞれ接続してなる物品の洗浄シス
テム装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27136585A JPH0718031B2 (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | 物品の洗浄システム装置 |
| US06/853,139 US4788043A (en) | 1985-04-17 | 1986-04-17 | Process for washing semiconductor substrate with organic solvent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27136585A JPH0718031B2 (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | 物品の洗浄システム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62133091A true JPS62133091A (ja) | 1987-06-16 |
| JPH0718031B2 JPH0718031B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=17499056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27136585A Expired - Fee Related JPH0718031B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-12-04 | 物品の洗浄システム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718031B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992007647A1 (en) * | 1990-11-02 | 1992-05-14 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Device for regenerating organic solvent |
-
1985
- 1985-12-04 JP JP27136585A patent/JPH0718031B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992007647A1 (en) * | 1990-11-02 | 1992-05-14 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Device for regenerating organic solvent |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0718031B2 (ja) | 1995-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR19990014837A (ko) | 이소프로필 알코올의 탈수 및 정제방법 | |
| JP2009263335A (ja) | 醗酵アルコールの精製処理方法 | |
| JPH05507914A (ja) | 気体透過法を用いた平衡反応実施方法 | |
| US5578173A (en) | Removal of dimethylterephthalate from a methanolysis vapor stream | |
| JPS62133091A (ja) | 物品の洗浄システム装置 | |
| JP2016203078A (ja) | 脱水膜分離システムおよび脱水膜分離方法 | |
| JP2601941B2 (ja) | 低級アルコールの回収法及び回収装置 | |
| KR100252222B1 (ko) | 반도체소자제조용이소프로필알콜의정제방법 | |
| JP2752001B2 (ja) | 蒸気乾燥装置 | |
| JPS61239628A (ja) | 半導体基材の洗浄方法 | |
| JP2610063B2 (ja) | 蒸気乾燥方法及びその装置 | |
| JPH0669175A (ja) | 半導体基材の洗浄方法 | |
| JPH1116873A (ja) | 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 | |
| JPS62161736A (ja) | 有機溶剤の精製方法 | |
| KR101842095B1 (ko) | 아세트산 정제 공정 및 장치 | |
| JP2610062B2 (ja) | 蒸気乾燥法及びその装置 | |
| CN109205568B (zh) | 一种净化双氧水的方法 | |
| JPH0590240A (ja) | 蒸気乾燥装置 | |
| JPH075905Y2 (ja) | 物品の洗浄装置 | |
| JPH06262042A (ja) | 液体精製装置 | |
| JPH07112166A (ja) | 溶剤を用いる洗浄・乾燥装置 | |
| JPS6359308A (ja) | 有機液体の分離装置 | |
| JPH07195045A (ja) | 超音波洗浄用洗浄液の浄化・脱酸装置 | |
| JPH0646482Y2 (ja) | 物品の洗浄装置 | |
| SU1060573A1 (ru) | Установка дл регенерации органического растворител |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |