JPS62133087A - 貴金属固着物剥離剤 - Google Patents
貴金属固着物剥離剤Info
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- JPS62133087A JPS62133087A JP27482885A JP27482885A JPS62133087A JP S62133087 A JPS62133087 A JP S62133087A JP 27482885 A JP27482885 A JP 27482885A JP 27482885 A JP27482885 A JP 27482885A JP S62133087 A JPS62133087 A JP S62133087A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、めっき等の手段によって金ｆｆ＋ ４Ｓ体の
表面に固定された貴金属固着物を選択的に！Ｌ１１離し
、しかも基体をいためることなく再使用することのでき
る貴金属固着物剥離剤に関するものである。
表面に固定された貴金属固着物を選択的に！Ｌ１１離し
、しかも基体をいためることなく再使用することのでき
る貴金属固着物剥離剤に関するものである。
従来、貴金属めっきを施しためっき製品等から貴金属を
回収する方法としては、硝酸或いは王水等を用いて金属
基体も含めて全部溶解する方法、シアンラジカルと有機
酸化剤又はチオ尿素等により錯塩を形成させる錯化法、
あるいは電解方法が用いられている。
回収する方法としては、硝酸或いは王水等を用いて金属
基体も含めて全部溶解する方法、シアンラジカルと有機
酸化剤又はチオ尿素等により錯塩を形成させる錯化法、
あるいは電解方法が用いられている。
然しなからこれらの方法の中、酸を用いて全部を溶解す
る方法は金属基体の再使用は当然不可能であり、その後
の貴金属の回収精製を複雑にし、排液の後処理、溶解時
の排ガス処理も含めて回収精製費を高価なものとしてい
た。また１１′１化法では貴金属の完全溶解は極めて困
難であり、たとえ完全溶解ができたとしても金属基体を
も再使用に耐えない程度に浸食してしまう例が多く、し
かも剥離可能な成分は金、銀に限定されるものが多かっ
た。例えば、特開昭６０−９２４８７号公報には、二！
・口安息香酸誘導体、シアンラジカル供給源化合物、タ
リウム化合物及び場合により使用される鉛化合物からな
る水溶性組成物を用いて、金、パラジウム及びパラジウ
ム／ニッケルの固着物を金属凸体から溶解除去する方法
が記載されているが、この方法では金属基体の溶解が激
しく、基体の再利用は不可能であった。
る方法は金属基体の再使用は当然不可能であり、その後
の貴金属の回収精製を複雑にし、排液の後処理、溶解時
の排ガス処理も含めて回収精製費を高価なものとしてい
た。また１１′１化法では貴金属の完全溶解は極めて困
難であり、たとえ完全溶解ができたとしても金属基体を
も再使用に耐えない程度に浸食してしまう例が多く、し
かも剥離可能な成分は金、銀に限定されるものが多かっ
た。例えば、特開昭６０−９２４８７号公報には、二！
・口安息香酸誘導体、シアンラジカル供給源化合物、タ
リウム化合物及び場合により使用される鉛化合物からな
る水溶性組成物を用いて、金、パラジウム及びパラジウ
ム／ニッケルの固着物を金属凸体から溶解除去する方法
が記載されているが、この方法では金属基体の溶解が激
しく、基体の再利用は不可能であった。
本発明の目的は、前述した問題点を解決し、基体を損傷
することなく、金属基体表面に固着した貴金属固着物を
効果的に溶解、剥離する組成物であって、貴金属の回収
が容易である貴金属固着物剥離剤を提供することにある
。
することなく、金属基体表面に固着した貴金属固着物を
効果的に溶解、剥離する組成物であって、貴金属の回収
が容易である貴金属固着物剥離剤を提供することにある
。
本発明は、前記問題点を解決するために、金属基体表面
に固着した貴金属付着物剥離剤であって、（Ａ）ニトロ
ベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩
及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも１種１〜１０
０重雇部と、（Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプ
タン系化合物から選ばれた少くとも１種０．５〜５０重
量部と、 （Ｃ） シアンラジカル供給源化合物１０〜１００重
量部と、場合によってはさらに、 （Ｄ） リチウム、ベリリウム、ランタン、セリウム
、タリウム及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも
１種０．０ Ｏ５〜０．０８重里部とを含有することを
特徴とする貴金属固着物別＾１を剤を提供するものであ
る。
に固着した貴金属付着物剥離剤であって、（Ａ）ニトロ
ベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩
及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも１種１〜１０
０重雇部と、（Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプ
タン系化合物から選ばれた少くとも１種０．５〜５０重
量部と、 （Ｃ） シアンラジカル供給源化合物１０〜１００重
量部と、場合によってはさらに、 （Ｄ） リチウム、ベリリウム、ランタン、セリウム
、タリウム及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも
１種０．０ Ｏ５〜０．０８重里部とを含有することを
特徴とする貴金属固着物別＾１を剤を提供するものであ
る。
本発明の剥離剤は、水溶液の状態で使用されるが、水溶
液の形態に限らず、各成分の粉末混合物の形態としても
提供することができる。
液の形態に限らず、各成分の粉末混合物の形態としても
提供することができる。
本発明の組成物を貴金属付着物剥離液（水溶液）として
使用する際には、該組成物は、好ましくは、（Ａ）ニト
ロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属
塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも１種１〜１
００ｇ／ｆｆ、（Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカ
プタン系化合物から選ばれた少くとも１種０．５〜５０
ｇ／（Ｃ） シアンラジカル供給源化合物１０〜１０
０ｇ／ｌ！、および場合によってはさらに、（Ｄ）
リチウム、ヘリリウム、ランタン、セリウｌいタリウム
及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも１種０．０
０５〜０．０８ｇ／／！を含有し、ｐＨが７．５以上の
水溶液状の組成物である。
使用する際には、該組成物は、好ましくは、（Ａ）ニト
ロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属
塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも１種１〜１
００ｇ／ｆｆ、（Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカ
プタン系化合物から選ばれた少くとも１種０．５〜５０
ｇ／（Ｃ） シアンラジカル供給源化合物１０〜１０
０ｇ／ｌ！、および場合によってはさらに、（Ｄ）
リチウム、ヘリリウム、ランタン、セリウｌいタリウム
及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも１種０．０
０５〜０．０８ｇ／／！を含有し、ｐＨが７．５以上の
水溶液状の組成物である。
本発明の剥離液の（Ａ）成分であるニトロヘンゼン化合
物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩及びこれらの
誘導体は、有機酸化剤として貴金属固着物を速やかに溶
解する作用を有するものである。この種の化合物として
特に好ましいものは、ｏ−、ｍ−及びｐ−ニトロ安息香
酸、及びこれらのアルカリ金属塩、ｏ−、ｍ−及びｐ−
ニトロベンゼンスルフォニルクロライド、ｍ−及びｐ−
二トロフェニルエステル等である。通常これらの化合物
のうち１種又は２種以上を１〜１００ ｇ／β、好まし
くは７〜５０ ｇ ／ ｅの濃度で含有させる。
物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩及びこれらの
誘導体は、有機酸化剤として貴金属固着物を速やかに溶
解する作用を有するものである。この種の化合物として
特に好ましいものは、ｏ−、ｍ−及びｐ−ニトロ安息香
酸、及びこれらのアルカリ金属塩、ｏ−、ｍ−及びｐ−
ニトロベンゼンスルフォニルクロライド、ｍ−及びｐ−
二トロフェニルエステル等である。通常これらの化合物
のうち１種又は２種以上を１〜１００ ｇ／β、好まし
くは７〜５０ ｇ ／ ｅの濃度で含有させる。
Ｉｇ／β未満では前記の作用効果が弱くて実用的でなく
、１００ｇ／ｆｆを超えると完全な溶解が困難あるいは
不可能となる。
、１００ｇ／ｆｆを超えると完全な溶解が困難あるいは
不可能となる。
（Ｂ）成分であるチオシアン酸塩及び含窒素メルカプタ
ン化合物は、露出した金属基体の表面に安定な不活性層
を形成し、（Ａ）成分の溶解作用から金属基体を保護し
、浸食を防止する作用を有する。この（Ｂ）成分には、
（Ａ）成分の貴金属固着物への溶解作用を妨害せず、し
かも生成する不活性層が水洗等の簡単な後処理によって
除去できることが望まれる。このような（Ｂ）成分の好
ましいものとしては、チオシアン酸として、例えば、チ
オシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム等があ
げられ、含窒素メルカプタン系化合物として、例えば、
２−メルカプトイミダプリン、２−メルカプトイミダゾ
ール、ビスムチオール、２−アミノ５−メルカプト１，
３．４−チアゾール、６−メルカプトプリン、メチマゾ
ール等があげられ、通常これらのうち１種又は２種以上
を０．１〜５０ｇ／６、好ましくは０．５〜２０ｇ／ｆ
ｆの濃度で含有させる。０．１ｇ／１未満では金属基体
の保護効果が不充分で基体の浸食がおこり、５０ｇ／ρ
を超えると、（Ａ）成分による貴金属固着物の？容解速
度が著しく遅くなって実用的でない。
ン化合物は、露出した金属基体の表面に安定な不活性層
を形成し、（Ａ）成分の溶解作用から金属基体を保護し
、浸食を防止する作用を有する。この（Ｂ）成分には、
（Ａ）成分の貴金属固着物への溶解作用を妨害せず、し
かも生成する不活性層が水洗等の簡単な後処理によって
除去できることが望まれる。このような（Ｂ）成分の好
ましいものとしては、チオシアン酸として、例えば、チ
オシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム等があ
げられ、含窒素メルカプタン系化合物として、例えば、
２−メルカプトイミダプリン、２−メルカプトイミダゾ
ール、ビスムチオール、２−アミノ５−メルカプト１，
３．４−チアゾール、６−メルカプトプリン、メチマゾ
ール等があげられ、通常これらのうち１種又は２種以上
を０．１〜５０ｇ／６、好ましくは０．５〜２０ｇ／ｆ
ｆの濃度で含有させる。０．１ｇ／１未満では金属基体
の保護効果が不充分で基体の浸食がおこり、５０ｇ／ρ
を超えると、（Ａ）成分による貴金属固着物の？容解速
度が著しく遅くなって実用的でない。
（Ｃ）成分であるシアンラジカル供給源化合物は、シア
ンラジカルを生成して溶解された貴金属を錯化すること
によりその溶解を促進する作用を有する。このシアンラ
ジカル供給源化合物としては、例えば、ナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属のシアン化物があげられる。こ
の（Ｃ）成分のン農度は１０〜１００ｇ／ｆｆが適当で
あり、１０ｇ／ｌ以下では貴金属の溶解速度が減少して
実用的ではない。またｌｏｏｇ／ｆｆを超えると金属基
体の損傷や変色がおこることがあり、金属基体の再利用
が困難となるおそれがある。
ンラジカルを生成して溶解された貴金属を錯化すること
によりその溶解を促進する作用を有する。このシアンラ
ジカル供給源化合物としては、例えば、ナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属のシアン化物があげられる。こ
の（Ｃ）成分のン農度は１０〜１００ｇ／ｆｆが適当で
あり、１０ｇ／ｌ以下では貴金属の溶解速度が減少して
実用的ではない。またｌｏｏｇ／ｆｆを超えると金属基
体の損傷や変色がおこることがあり、金属基体の再利用
が困難となるおそれがある。
（Ｄ）成分であるリチウム、ヘリリウム、ランタン、セ
リウム、タリウム及びビスマスの化合物は、必要に応じ
て組成物に配合されるものである。本発明の貴金属固着
物剥離剤は、場合により貴金属固着物を溶解、剥離する
速度が若干遅い場合があるが、このような場合にこの（
Ｄ）成分を添加すると、剥離速度を促進することができ
る。この促進作用が起る理由は明らかでないが何等かの
触媒的作用によるものと推定され、対象物によっては、
無添加の場合に比して剥離速度を５倍も高められること
もある。これらの金属の化合物としては、使用量が少な
いのでアルカリ溶液に若干溶解度のあるものであれば何
でも使用可能であるが、一般的にはこれらの金属の硝酸
塩、硫酸塩、塩酸塩等が用いられる。この（Ｄ）成分は
、０．０ Ｏ５〜０．０８ｇ／ｎの濃度で含有される。
リウム、タリウム及びビスマスの化合物は、必要に応じ
て組成物に配合されるものである。本発明の貴金属固着
物剥離剤は、場合により貴金属固着物を溶解、剥離する
速度が若干遅い場合があるが、このような場合にこの（
Ｄ）成分を添加すると、剥離速度を促進することができ
る。この促進作用が起る理由は明らかでないが何等かの
触媒的作用によるものと推定され、対象物によっては、
無添加の場合に比して剥離速度を５倍も高められること
もある。これらの金属の化合物としては、使用量が少な
いのでアルカリ溶液に若干溶解度のあるものであれば何
でも使用可能であるが、一般的にはこれらの金属の硝酸
塩、硫酸塩、塩酸塩等が用いられる。この（Ｄ）成分は
、０．０ Ｏ５〜０．０８ｇ／ｎの濃度で含有される。
この濃度が０．００５ｇ／β未満であると、剥離速度を
促進する作用が弱い。
促進する作用が弱い。
上記の剥離液は、ｐＨが７．５以上であることが必要で
、好ましくは、９．５〜１１．５の範囲である。
、好ましくは、９．５〜１１．５の範囲である。
ｐＨが７．５未満であると、調製した剥離液中に一部未
溶解物質が存在することがあり、また調製後に沈澱物が
生成することもある。このような未溶解物又は沈澱物が
剥離液中に存在すると、貴金匡の溶解速度の減少又は金
属基体の損傷や変色が生じ易くなり好ましくない。
溶解物質が存在することがあり、また調製後に沈澱物が
生成することもある。このような未溶解物又は沈澱物が
剥離液中に存在すると、貴金匡の溶解速度の減少又は金
属基体の損傷や変色が生じ易くなり好ましくない。
本発明の組成物を水溶液として所要の濃度に調製したと
きにｐＨが７．５未満である場合には、ｐＨが７．５以
上となるように、例えば、アルカリ金属の水酸化物、ア
ンモニア水等の塩基化合物の添加により調節する。
きにｐＨが７．５未満である場合には、ｐＨが７．５以
上となるように、例えば、アルカリ金属の水酸化物、ア
ンモニア水等の塩基化合物の添加により調節する。
本発明の剥離液の使用条件として、温度は特に制限はな
いが高い方が剥離速度は大で）ｍ常３０〜７０°Ｃ程度
で使用するのが好ましい。また液は攪拌しなくても剥離
は進行するが、剥離を促進する上で攪拌することが好ま
しいことは当然である。
いが高い方が剥離速度は大で）ｍ常３０〜７０°Ｃ程度
で使用するのが好ましい。また液は攪拌しなくても剥離
は進行するが、剥離を促進する上で攪拌することが好ま
しいことは当然である。
本発明の剥離剤が適用される貴金属としては、金、１艮
およびルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム
、イリジウム、白金等の白金族に属する金属及びこれら
を基とする合金があげられる。
およびルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム
、イリジウム、白金等の白金族に属する金属及びこれら
を基とする合金があげられる。
これら貴金属の固着物の形態としては、例えば、電気め
っき、無電解めっき、蒸着法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法、ペ
ーストの焼付は等により金属基体表面の全体あるいは一
部に形成された貴金属層があげられるが、これに限定さ
れず、あらゆる形態の貴金属固着物の除去に使用するこ
とができる。
っき、無電解めっき、蒸着法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法、ペ
ーストの焼付は等により金属基体表面の全体あるいは一
部に形成された貴金属層があげられるが、これに限定さ
れず、あらゆる形態の貴金属固着物の除去に使用するこ
とができる。
貴金属固着物が固定されている金属基体の金ｊ、凪の種
類は特に限定されないが、本発明のｊｙｌｌ 離削は基
体が銅、亜鉛、ニッケル、鉄、クロム、チタン。
類は特に限定されないが、本発明のｊｙｌｌ 離削は基
体が銅、亜鉛、ニッケル、鉄、クロム、チタン。
ニオブ、モリブデン又はこれら金属を基とする合金の場
合、特に、銅、亜鉛、ニッケル、鉄又はこれら金属を基
とする合金の場合に有効であり、基体を損傷することな
（貴金属固着物を剥離することができる。
合、特に、銅、亜鉛、ニッケル、鉄又はこれら金属を基
とする合金の場合に有効であり、基体を損傷することな
（貴金属固着物を剥離することができる。
また金属基体の形状、形態はまったく制限されず、金属
、セラミックス、プラスチック、ゴム等の上に形成され
た金属被覆層のごときものも包含される。
、セラミックス、プラスチック、ゴム等の上に形成され
た金属被覆層のごときものも包含される。
本発明の剥離を貴金属固着物に施す方法は特に限定され
ないが、通常、基体ごと剥離液中に浸漬する方法が一般
的である。適当時間剥離液に浸漬し、目的の貴金属が十
分溶解したならば基体を液から引揚げて水洗して剥離液
を洗いおとすと、この際基体表面に形成されていた不活
性層は水に）容けて容易に除去でき、かつその表面は直
ちに再び貴金属被覆を施すことが可能な程度に平滑な面
を保っている。
ないが、通常、基体ごと剥離液中に浸漬する方法が一般
的である。適当時間剥離液に浸漬し、目的の貴金属が十
分溶解したならば基体を液から引揚げて水洗して剥離液
を洗いおとすと、この際基体表面に形成されていた不活
性層は水に）容けて容易に除去でき、かつその表面は直
ちに再び貴金属被覆を施すことが可能な程度に平滑な面
を保っている。
使用した剥離液はこれらの剥離を繰返し、液中の有効成
分がある程度以下になったら貴金属はを（幾還元剤を力
■えて金属として析出させ、分離する等の通常の方法に
従って回収することができる。
分がある程度以下になったら貴金属はを（幾還元剤を力
■えて金属として析出させ、分離する等の通常の方法に
従って回収することができる。
（作 用〕
本発明の剥離液に、表面に貴金属固着物を有する金属基
体を浸漬すると、先ず剥離液中に含有する二１−ロヘン
ゼン系の有機酸化剤により貴金属は酸化されて、共存す
るシアン化合物により貴金属固着物が溶解してくる。こ
の際、金属基体が逐次露出してくるが、その表面及び貴
金属が固着していない基体金属の表面は、チオシアン酸
塩又は含窒素メルカプタン系化合物の作用により表面に
不活性層を形成してニトロベンゼン系有機酸化剤による
酸化作用を妨害するので基体の溶解あるいは浸食は防止
されるようになる。溶解した貴金属はシアンラジカルと
反応してイソシアニド化合物を形成するが直ちに連結異
性体である可溶性のシアノ化合物に異性化し、溶液中に
貴金属塩として〆容存する。こうして、貴金属固着物が
効果的に溶解、剥離される一方、金属基体の損傷は防止
される。
体を浸漬すると、先ず剥離液中に含有する二１−ロヘン
ゼン系の有機酸化剤により貴金属は酸化されて、共存す
るシアン化合物により貴金属固着物が溶解してくる。こ
の際、金属基体が逐次露出してくるが、その表面及び貴
金属が固着していない基体金属の表面は、チオシアン酸
塩又は含窒素メルカプタン系化合物の作用により表面に
不活性層を形成してニトロベンゼン系有機酸化剤による
酸化作用を妨害するので基体の溶解あるいは浸食は防止
されるようになる。溶解した貴金属はシアンラジカルと
反応してイソシアニド化合物を形成するが直ちに連結異
性体である可溶性のシアノ化合物に異性化し、溶液中に
貴金属塩として〆容存する。こうして、貴金属固着物が
効果的に溶解、剥離される一方、金属基体の損傷は防止
される。
実施例１
ｐ−ニトロ安息香酸０．２ｇとジニトロ安息香酸３ｇと
を８０ｍＡの水に溶解し、水酸化すトリウム水溶液を加
えてρ１１１１とした後、チオシアン酸カリウムＩｇと
シアン化カリウム４ｇを溶解し、全液量を１００ｍ６と
して剥離液を調製した。この液を４０°Ｃに加温し、こ
の中に２０ｍ＋ａ角、厚さＱ、 ５ ｍｍの鉄板に鉄を
ストライクめっきした上に厚さ５μｍの１艮スポツトめ
っきを施したものをテスＩ・ピースとして浸漬し、剥離
液はマグネチソクスクーラーにて弱い攪拌を行った。恨
めっきが完全に剥離した後テストピースを引揚げ、基体
浸食率を測定した。基体浸食率は、括体を乾燥後１５体
の厚さを測定し、浸潤前後の１７さの差から計算して求
めた。
を８０ｍＡの水に溶解し、水酸化すトリウム水溶液を加
えてρ１１１１とした後、チオシアン酸カリウムＩｇと
シアン化カリウム４ｇを溶解し、全液量を１００ｍ６と
して剥離液を調製した。この液を４０°Ｃに加温し、こ
の中に２０ｍ＋ａ角、厚さＱ、 ５ ｍｍの鉄板に鉄を
ストライクめっきした上に厚さ５μｍの１艮スポツトめ
っきを施したものをテスＩ・ピースとして浸漬し、剥離
液はマグネチソクスクーラーにて弱い攪拌を行った。恨
めっきが完全に剥離した後テストピースを引揚げ、基体
浸食率を測定した。基体浸食率は、括体を乾燥後１５体
の厚さを測定し、浸潤前後の１７さの差から計算して求
めた。
実施例２
ｍ−ニトロ安息香酸エチル５ｇと２−メルカプトへン・
ゾイミダソ゛−ル５ｇとを８０ｍβの水にン’ＦＪ解し
、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした後、
シアン化カリウム２．５ｇを溶解し全液量を１００ｍ１
として剥離液を調製した。この液を５０°Ｃに加温した
中に、２０Ｉ１１１角、厚さ０．５ｍ−のｊ同）反にニ
ッケルストライクめっきをしさらにその上に厚さ５μｍ
の恨めっきを施したものをテストピースとして浸漬し、
以下実施例１と同様に処理した。
ゾイミダソ゛−ル５ｇとを８０ｍβの水にン’ＦＪ解し
、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした後、
シアン化カリウム２．５ｇを溶解し全液量を１００ｍ１
として剥離液を調製した。この液を５０°Ｃに加温した
中に、２０Ｉ１１１角、厚さ０．５ｍ−のｊ同）反にニ
ッケルストライクめっきをしさらにその上に厚さ５μｍ
の恨めっきを施したものをテストピースとして浸漬し、
以下実施例１と同様に処理した。
実施例３
ｐ−ニトロヘンゼンスルフオン酸１．５ｇと２−メルカ
プトベンゾチアゾール０．５ｇとを８０ｍｊ？の水に溶
解し、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした
後、シアン化カリウム３ｇを溶解し、全液量を１００ｍ
ｆｆとして剥離液を調製した。この液を５０°Ｃに加／
詰した中に、２０龍角、厚さＱ、 ５ ｔｉ＋の１同板
にｔロストライクめっきをしさらにその上に厚さ５μｒ
ｎの銀めっきを施したものをテストピースとして浸漬し
、以下実施例１と同様に処理した。
プトベンゾチアゾール０．５ｇとを８０ｍｊ？の水に溶
解し、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした
後、シアン化カリウム３ｇを溶解し、全液量を１００ｍ
ｆｆとして剥離液を調製した。この液を５０°Ｃに加／
詰した中に、２０龍角、厚さＱ、 ５ ｔｉ＋の１同板
にｔロストライクめっきをしさらにその上に厚さ５μｒ
ｎの銀めっきを施したものをテストピースとして浸漬し
、以下実施例１と同様に処理した。
以上の実施例１〜３の結果を第１表に示す。この実施例
１〜３においてはいずれも銀は痕跡もなく完全に溶解す
ることができた。一方基体表面は処理前と全く同様な金
属光沢を残し、表面の顕微鏡による観察でも平滑である
ことが確認された。
１〜３においてはいずれも銀は痕跡もなく完全に溶解す
ることができた。一方基体表面は処理前と全く同様な金
属光沢を残し、表面の顕微鏡による観察でも平滑である
ことが確認された。
比較例１
ｍ−ニトロヘンゼンスルフオン酸ナトリウム５ｇとシア
ン化カリウム４ｇとを８０ｍ１の水に溶解し、水酸化ナ
トリウム水溶液を加えてｐＨＩＩとし、さらに全液量を
１００ｍｊ！として剥離液を調製した。この液を５５℃
に加温した中に、２０龍角、厚さ０，５龍のＳｎ０．５
％入り銅板に厚さ５μｍの銀めっきを施したテストピー
スを浸漬し、以下実施例１と同様に処理した。結果を第
１表に併記したが、この例では本発明剥離液のメルカプ
タン系化合物を含まないため銀は完全に剥離はされたも
のの基体表面も浸食されて黒変し、そのままでの再使用
は一見して不可能であると判断される程度にボロボロに
腐・食されていた。
ン化カリウム４ｇとを８０ｍ１の水に溶解し、水酸化ナ
トリウム水溶液を加えてｐＨＩＩとし、さらに全液量を
１００ｍｊ！として剥離液を調製した。この液を５５℃
に加温した中に、２０龍角、厚さ０，５龍のＳｎ０．５
％入り銅板に厚さ５μｍの銀めっきを施したテストピー
スを浸漬し、以下実施例１と同様に処理した。結果を第
１表に併記したが、この例では本発明剥離液のメルカプ
タン系化合物を含まないため銀は完全に剥離はされたも
のの基体表面も浸食されて黒変し、そのままでの再使用
は一見して不可能であると判断される程度にボロボロに
腐・食されていた。
実施例４
０−ニトロ安息香酸２．２ｇと２−メルカブトペンゾギ
サゾール０．８ｇとを８０ｍ１の水に溶解し、水酸化ナ
トリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした後、シアン化カ
リウム２．２ｇを溶解し全液量を１００ｍ１とした。こ
の液を５５℃に加温した中に、３０龍ＸＩＱｍｍ、厚さ
０．２ ｍｓのｉ同板にニッケルをストライクめっきし
さらにその上に厚さ２μｍの金めつきを施したテストピ
ースを浸漬し、以下実施例１と同様に処理した。
サゾール０．８ｇとを８０ｍ１の水に溶解し、水酸化ナ
トリウム水溶液を加えてｐＨｌｌとした後、シアン化カ
リウム２．２ｇを溶解し全液量を１００ｍ１とした。こ
の液を５５℃に加温した中に、３０龍ＸＩＱｍｍ、厚さ
０．２ ｍｓのｉ同板にニッケルをストライクめっきし
さらにその上に厚さ２μｍの金めつきを施したテストピ
ースを浸漬し、以下実施例１と同様に処理した。
実施例５
ｍ−ニトロヘンゼンスルフオン酸ナトリウム１．５ｇと
２−メルカプトベンゾチアゾール０．５ｇとを８０ｍ１
ｌ！の水に溶解し、水酸化ナトリウム水）容ン夜を力■
えてｐＨｌｌとした後、シアン化カリウム４．５ｇを溶
解し全液量を１００ｍｊ２として剥離液を調製した。こ
の液を６０°Ｃに加温した中に実施例４と同しテストピ
ースを浸漬して同様に試験を行った。
２−メルカプトベンゾチアゾール０．５ｇとを８０ｍ１
ｌ！の水に溶解し、水酸化ナトリウム水）容ン夜を力■
えてｐＨｌｌとした後、シアン化カリウム４．５ｇを溶
解し全液量を１００ｍｊ２として剥離液を調製した。こ
の液を６０°Ｃに加温した中に実施例４と同しテストピ
ースを浸漬して同様に試験を行った。
実施例６
ｐ−ニトロヘンゼンスルフオンＭ１．５ｇと２−アミノ
−５−メルカプト−１，３，４−チアゾール０、０５
ｇとを８０ｍ６の水に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液
を加えてｐＨｌｌとした後、シアン化カリウム４．５ｇ
を溶解し全液量を１００ｍｊｌ！とじて剥離液を調製し
た。この液を６５°Ｃに加温した中に２０璽蔵角、厚さ
０．２龍の銅板にニッケルをストライクメッキしさらに
その上に厚さ５μｍのハラジウムめっきを施したテスト
ピースを浸ン貴し、実施例１と同様に処理した。
−５−メルカプト−１，３，４−チアゾール０、０５
ｇとを８０ｍ６の水に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液
を加えてｐＨｌｌとした後、シアン化カリウム４．５ｇ
を溶解し全液量を１００ｍｊｌ！とじて剥離液を調製し
た。この液を６５°Ｃに加温した中に２０璽蔵角、厚さ
０．２龍の銅板にニッケルをストライクメッキしさらに
その上に厚さ５μｍのハラジウムめっきを施したテスト
ピースを浸ン貴し、実施例１と同様に処理した。
前記実施例４〜６の結果を第１表に併記する。
第１表
第１表の結果から、実施例１〜３では、同し恨めっきの
剥離に要する時間は比較例１に比して同等乃至それ以上
であるが基体の浸食率は比較例に比してずっと少なかっ
た。この浸食率は一般に４％程度以下であれば実用上問
題ないとされている。
剥離に要する時間は比較例１に比して同等乃至それ以上
であるが基体の浸食率は比較例に比してずっと少なかっ
た。この浸食率は一般に４％程度以下であれば実用上問
題ないとされている。
また実施例４〜６においても剥離の所要時間には大差は
ないが基体の浸食率に於ては本発明の実施例１〜３と略
々間等であった。
ないが基体の浸食率に於ては本発明の実施例１〜３と略
々間等であった。
実施例７
実施例４〜６の剥離液に白金、ロジウム、ルテニウムめ
っきを施したテストピースを浸漬したがいずれも剥離可
能で、基体表面は再使用可能であることが観察された。
っきを施したテストピースを浸漬したがいずれも剥離可
能で、基体表面は再使用可能であることが観察された。
実施例８
ｐ−ニトロベンゼンスルフォンＭｌ ５ ｇ／Ｅ。
２−メルカプトヘンジチアゾール５ ｇ ／ ｌ 、シ
アン化カリウム３０ ｇ ／ １からなるｐＨｌｌの剥
離液に硝酸ビスマスを０．３ｇ／ｅ添加した液と、添加
しない液の２種類を調製し、液温を６５℃とし、無酸素
銅上厚さ２μｍに銀又はパラジウムをめっきしたテスト
ピースを浸漬、撹拌し、めっき層が完全にｆｆ１ｌＪ離
されるまでに要する時間を測定した。
アン化カリウム３０ ｇ ／ １からなるｐＨｌｌの剥
離液に硝酸ビスマスを０．３ｇ／ｅ添加した液と、添加
しない液の２種類を調製し、液温を６５℃とし、無酸素
銅上厚さ２μｍに銀又はパラジウムをめっきしたテスト
ピースを浸漬、撹拌し、めっき層が完全にｆｆ１ｌＪ離
されるまでに要する時間を測定した。
硝酸ビスマスを添加した方の剥離液中では恨又はパラジ
ウムは３分後に完全に剥離されていたが、叫添加の剥離
液中では、４０分間要した。
ウムは３分後に完全に剥離されていたが、叫添加の剥離
液中では、４０分間要した。
実施例９
ｐ−ニトロベンゼンスルフォン！１５ｇ／７！、２−メ
ルカプトヘンジチアゾール５ｇ／β、シアン化カリウム
２０ ｇ ／ ／ｌからなるｐＨｌｌの剥離液を６５°
Ｃに加温した中に、アルミナ基板にメタライジングした
上に、下地としてニッケルめっきをしさらに厚さ１μｍ
の金めつきをしたセラミックス基板を浸漬した。５分後
にセラミックス基板を引揚げたところ、金は完全に溶解
し、下地ニッケル表面は顕微鏡観察により腐食が殆ど認
められなかった。この剥離処理したセラミックス基板に
再度金めっきを１μｍ厚さに施こしたところ、剥離処理
前の金めつき表面外観と特別な差異は認められなかった
。
ルカプトヘンジチアゾール５ｇ／β、シアン化カリウム
２０ ｇ ／ ／ｌからなるｐＨｌｌの剥離液を６５°
Ｃに加温した中に、アルミナ基板にメタライジングした
上に、下地としてニッケルめっきをしさらに厚さ１μｍ
の金めつきをしたセラミックス基板を浸漬した。５分後
にセラミックス基板を引揚げたところ、金は完全に溶解
し、下地ニッケル表面は顕微鏡観察により腐食が殆ど認
められなかった。この剥離処理したセラミックス基板に
再度金めっきを１μｍ厚さに施こしたところ、剥離処理
前の金めつき表面外観と特別な差異は認められなかった
。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように、本発明の剥離剤を使用すれ
ば、従来の剥離剤では困難であった貴金属めっき等の剥
離が完全に達成され、しかもその際に金属基体は侑傷さ
れず、再使用が可能である。
ば、従来の剥離剤では困難であった貴金属めっき等の剥
離が完全に達成され、しかもその際に金属基体は侑傷さ
れず、再使用が可能である。
さらに、剥離された貴金属の回収は容易に行うことがで
きる。
きる。
Claims (4)
- （１）金属基体表面に固着した貴金属固着物剥離剤であ
って、 （Ａ）ニトロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物ア
ルカリ金属塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも
１種１〜１００重量部と、 （Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプタン系化合物
から選ばれた少くとも１種０．５〜５０重量部と、 （Ｃ）シアンラジカル供給源化合物１０〜１００重量部 とを含有することを特徴とする貴金属固着物剥離剤。 - （２）特許請求の範囲第１項記載の剥離剤であって、 （Ａ）ニトロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物ア
ルカリ金属塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも
１種１〜１００ｇ／ｌと、 （Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプタン系化合物
から選ばれた少くとも１種０．５〜５０ｇ／ｌと、 （Ｃ）シアンラジカル供給源化合物１０〜１００ｇ／ｌ とを含有し、ｐＨ７．５以上の水溶状態である貴金属固
着物剥離剤。 - （３）金属基体表面に固着した貴金属固着物剥離剤であ
って、 （Ａ）ニトロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物ア
ルカリ金属塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも
１種１〜１００重量部と、 （Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプタン系化合物
から選ばれた少くとも１種０．５〜５０重量部と、 （Ｃ）シアンラジカル供給源化合物１０〜１００重量部
と、 （Ｄ）リチウム、ベリリウム、ランタン、セリウム、タ
リウム及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも１種
０．００５〜０．０８重量部 とを含有することを特徴とする貴金属固着物剥離剤。 - （４）特許請求の範囲第３項記載の剥離材であって、 （Ａ）ニトロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物ア
ルカリ金属塩及びこれらの誘導体から選ばれた少くとも
１種１〜１００重量部と、 （Ｂ）チオシアン酸塩及び含窒素メルカプタン系化合物
から選ばれた少くとも１種０．５〜５０重量部と、 （Ｃ）シアンラジカル供給源化合物１０〜１００重量部
と、 （Ｄ）リチウム、ベリリウム、ランタン、セリウム、タ
リウム及びビスマスの化合物から選ばれた少くとも１種
０．００５〜０．０８重量部 とを含有し、ｐＨ７．５以上の水溶液状態である貴金属
固着物剥離剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27482885A JPS62133087A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 貴金属固着物剥離剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27482885A JPS62133087A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 貴金属固着物剥離剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62133087A true JPS62133087A (ja) | 1987-06-16 |
| JPS6345463B2 JPS6345463B2 (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=17547138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27482885A Granted JPS62133087A (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 | 貴金属固着物剥離剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62133087A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001234373A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Nec Corp | ルテニウム系金属の除去液及びその使用方法 |
-
1985
- 1985-12-05 JP JP27482885A patent/JPS62133087A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001234373A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Nec Corp | ルテニウム系金属の除去液及びその使用方法 |
| JP4510979B2 (ja) * | 2000-02-23 | 2010-07-28 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | ルテニウム又は酸化ルテニウム除去液の使用方法、及びルテニウム又は酸化ルテニウムの除去方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6345463B2 (ja) | 1988-09-09 |
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