JPS62129276A - 除草性スルホンアミド類 - Google Patents
除草性スルホンアミド類Info
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- JPS62129276A JPS62129276A JP61277866A JP27786686A JPS62129276A JP S62129276 A JPS62129276 A JP S62129276A JP 61277866 A JP61277866 A JP 61277866A JP 27786686 A JP27786686 A JP 27786686A JP S62129276 A JPS62129276 A JP S62129276A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、ある種の除草性スルホンアミド、その農業的
に適当な組成物、及びその一般的又は選択的な発芽前又
は発芽後除菫剤として或いは植物生長調節剤としての使
用法に関する。 望ましくない植物の生長を抑制するのに効果的な新規な
化合物は一定の需要がある。最も普通の状態では、例示
すればワタ、イネ、トウモロコシ、コムギ及びダイズの
ような有用な作物中の雑草の生長を選択的に抑制する化
合物が探し求められている。そのような作物中の阻止さ
れない雑草の生長はかなりの損失、農夫に対する減益、
及び消費者に対する価格の上昇をもたらす。他の状態で
は、すべての植物の生長を抑制する除草剤が所望されて
いる。すべての植物の完全な重線が望ましい区域の例は
、燃料貯蔵タンク、弾薬庫及び工業の貯蔵区域である。 これらの目的には多くの生成物が市販されているが、よ
り効果的な、より安価な、また環境安全の生成物に対す
る探索が続いている。 「スルホニル尿素」除草剤は、一般に2つの芳香族又l
−i′複素環族環を連結するスルホニル尿素橋、−8o
2NHCONH−からなる最近数年内に発見された非
常に有用な種類の除草剤である。 米国特許第4.394.506号は、オルト−アルコキ
シカルボニルベンゼンスルホンアミド例えば〔式中、R
2はHX F、C1,Br、C,〜C,フルキル、NO
2,5O2CH3、OCH,、SCH,、CFs 、N
(CH3)2 、NH2又1tf、、 CN ”’Cア
’) :xif(、ct、 CH,、OCH,,0CH
2CH3又ハ0CH2CH20CH,であり; YはH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C1〜C4置
換アルキル、01〜C,アルコキシなどである〕 を開示している。 南アフリカ国特許願第Fil/4874号は式〔Aはハ
ロゲン又は種々の他の有機置換基で置換さ、tzている
C1〜C6アルキル或いは置換されていてもいなくても
よいC2〜C,アルケニル基であり; Xはo、s、so又はSO2であり: R1はH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,
アルケニル又はYR,であり;R2はH,ハロゲン、C
1〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、CI〜C,
ハロアルキル、Co2R,、YR,、No2又はC0N
R1R8であり、そして R3及びR4は互いに独立に水素、C1〜C4アルキル
、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C
2〜C4ハロアルキル、ハロケン又ハ高々炭素数4のア
ルコキシアルキルである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第8215042号は、式〔式中、
AばC3〜C,アルキニルでアリ;XはoX s、so
又はSO2であり;R1はH1ハロゲン、C、、C、ア
ルキル、C2〜C,アルケニル又はYR,であり、R2
はH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,アル
ケニル、C1〜C4ハロアルキル、Co2R,、YR,
、No2又はCONR7Rsであり、そして R3及びR4は互いに独立に水素、C0〜C4アルキル
、01〜C4アルコキシ、C3〜C4アルキルチオ、C
1〜C4ハロアルキル、01〜C4ハロアルコキシ、ハ
ロケン又は高々炭素数4のアルコキシアルキルでちる〕
の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特杵頌第8215671号は式〔式中、A
は01〜C6アルキル基或いは・・ロゲン又は種々の他
の有機置換基で置換きれているC2〜C,アルケニル基
であり;Xは0、S、SO又はSO□でちり; R1はI(、ハロゲン、C1〜C5アルキル1C2〜C
,アルケニル又はYR,であり;R2はH1ハロゲン、
C1〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、C1〜C
4ハロアルキル、Co2RいYR,、No2又はC0N
R7R,であり;R1は水素、C1〜C4アルキル、C
7〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、01〜
C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシ、ハロゲ
ン又は高々炭素数4のアルコキシアルキルであり;そし
て R4はc、〜C4ハロアルコキシ又ハC,〜C4ハロア
ルキルチオである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 〔式中、R1は水素、・・ロゲン、シアノ、ニトロ、C
8〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル、C1〜C
4アルコキシ、CORいNR7R,、S (0)rn−
C,〜C4アルキル又はSo、R,であり; R2はHXF、ClXBr、No2、CF3、NR7o
R21XC1〜C2R7上ル、C1〜C2アルコキシ又
はS(O)m−C,〜C4アルキルであり; R3はH,FXCIXBr、 NR2、No2 又は
OCH3であり; R6は水素、C8〜C4アルキル、C9〜C。 アルケニロキシ、C3〜C,アルケニロキシ、C1〜C
4ハロアルキル、CI〜C,アルキルチオ、フェノキシ
、ベンジロキシ−NRI ORI 1或いは未置換でも
、1〜3つの・・ロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ
で置換されていてもよい01〜C,アルコキシであり:
R48は水素、C3〜c、アルキル又はC0〜C。 アルコキシであり: mば0.1又は2であり、そして 。 yHc、〜C3アルキル、C1〜C,ハロアルキル、C
1〜C3アルコキシ、C3〜C、/Nロアルコキシ、0
2〜C3アルコキシアルキル、C3〜C,アルキルチオ
、ノ・ロゲン又はNR,6R17である〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第84/2245号は式A
式4 〔式中、AはC1〜C6・・ロアルキルでめり;R,U
水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜C4アルキル
、C1〜C4ハロアルキル、01〜C4アルコキシ、C
0〜C4アルキルチ、t、C,〜C4アルキルスルフィ
ニル、C1〜C4アルキルスルホニル、CORいNR,
R8、C0NR,R,。又は5o2NR,、R,2であ
り:R2は水素、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C1
〜C4アルコキシ、C3〜C4アルキルチオ、C1〜C
4アルキルスルフイニル又i”t、 C+〜C4アルキ
ルスルホニルであり;そしてR3及びR4は互いに独立
にそれぞれ水素、ハロケン、C5〜C4アルキル、C5
〜C,ハロアルキル、C2〜C4ハロアルコキシ、C7
〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオ、C
2〜C4アルコキシアルキル、C1〜C4アルコキシ又
はNR,□R13である〕の除草性スルホンアミドを開
示している。 南アフリカ国特許I!A第84./2722号は式〔式
中、Aは式CR,R7XR8、CR,R,。RII又は
CHR,5CO2R2,の基であり;R+ ij: 水
素、・・ロゲン、ニトロ、シアノ、C,〜C4アルキル
、01〜C47%口アルキル、YR14,C0NR,2
R,5、NR,、R,5,5ONRいR7゜、0SO2
R,7又はCOR18であり;R2は水素、・・ロゲン
、C1〜C4アルキル、C,−C4アルコキシ、C1〜
C4アルキルチオ、C7〜C4アルキルスルフイニル又
tIic、〜C4アルキルスルホニルテロ!l); R3及びR4は互いに独立にそれぞれ水素、ハロゲン、
C0〜C4アルキル、C1〜C4ノ・ロアルキル、C1
〜C4アルコキシ、CI〜C4ハロアルコキシ、C,、
C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオ、C7
〜C,7A/コキシアルキル又はNR,。R2゜であり
;R9は水素、ハロゲン、C3〜C4アルキル、C0〜
C,アルコキシ、01〜C4アルキルチオ、C1〜C4
アルキルスルフイニル又’ti C+〜C4アルキルス
ルホニルテアリ; RIoは水素、ハロゲン又はメチルでアリ:R,1は基
C0R2,或いは基シアン、ニトロ、ヒドロキシル、0
1〜C4アルコキシ、C8〜C4アルキルチオなどから
選択される置換基でモノ又はボIJ f換されているC
8〜C,アルキル基であり; R,@dHXC,,C4アルコキシ及び種々の他の有機
基である〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許M第8310441号は、式〔式中、
R,はHl・・ロゲン、No、、C,〜C4ハロアルキ
ル、C3〜C,フルキル、C2〜C4アルコキシ、02
〜C,アルケニル又はCI〜C4アルコキシカルボニル
でろり:R2は未置換でも、1〜3つの・・ロゲン原子
で置換されていてもよいC1〜C,アルキル又はC、、
C、アルコキシであり; R3は・・ロゲン、H,NR4R,、未置換でも、1〜
3つの・・ロゲン原子又はC7〜C4アルコキシで置換
されていてもよいC1〜C3アルキルであり、或いは未
置換でも、メトキシ、エトキシ又は1〜3の)・ロゲン
原子で置換されていてもよいC1〜C,アルコキシであ
り; Aは未置換でも、C7〜C4アルキルで置換されていて
もよいC1〜C,アルキレン又はC2〜C4アルキレン
であり; mは0又は1であり; EはN又はCI(であり; Xは酸素、硫黄、SO又はSO2であり;そして Qは一部0HXCN、 NR,R,,5o2R,、シク
ロアルキル又はCOC、〜C,アルキルである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許83/3779号は式〔式中、AはC
=CRであり; mは1又は2であり; EはCH又はNであり; 2は酸素又は硫黄であり: Rは一部f(、C,、C,アルキル又は01〜C,ハロ
アルキルであり; R,はH,・・ロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C
,アルケニル又はYR,であり;R2はHl・・ロゲン
、C7〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、C1〜
C4ハロアルキル、YR,、C02R0、N02又はC
0NR,R,でちリ: R3及びR4は互いに独立にそれぞれ)l、 C。 〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C7〜C4ア
ルキル−y−オ、c、〜C4J10アルキル、C1〜C
4ノ八ロアルコキシ、01〜04ノ\ロアルキルチオ、
ハロゲン、02〜C,アルコキシアルキル、NR,R,
。又は0CH2Cf(2NR,+R1oである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第8277439号は式〔式中、A
はC3〜C,アルキニル基、・・ロゲンで置換されたC
1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキシ、C0〜C
,アルキルチオ、C5〜C4アルキルスルフイニル、C
I+−7C4アルキルスルホニル C、−+ C、/%
ロアルコキシ、C1〜C4)10アルキルチオ、C8〜
C4ノ・ロアルキルスルフイニル、又はC7〜C4ハロ
アルキルスルホニルであり、或いはそれは上記1〃換基
の1つで置換されたC2〜C6アルケニル基であり; Xは0.5XSO又はSO2であり; R,ij水素、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜
C5アルケニル又はYR,基であり;R2は水素、・・
ロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,フルケニル、
C,、C,ハロアルキル、YR,、CO2R7、NO□
又はC0NR8R0であり: R3は水素、01〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C,、C4アルキルチオ、C8〜C4ハロアルキル
、C3〜C4ハロアルコキン、ハロゲン又は高々炭素数
4のアルコキシアルキルであり; R4は水素、メチル又はエチルであり;R3は水素、C
,、C4アルキル、C5〜C3アルコキシ、メトキシメ
チル、シアノメチル又はシアノエチルでアリ; Ro及びR7はそれぞれC3〜C,アルキル、C2>
C、アルケニル又はC2〜C,アルキニルである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第83/6449号(スイス国優先
権、1982年1月9日)は式〔式中、R1はHl・・
ロゲン、NO2、アミノ、C5〜C9フルキル、C7〜
C4ハロアルキル或いはQR7、Co2R,又は(Co
)nNRQR,。 であり: R2はH,C,〜C4アルキル、C0〜C4アルコキシ
、C1〜C4アルキルチオ、01〜C4ハロアルキル、
C1〜C4ハロアルコキシ、ハロゲン又は高々炭素数4
のアルコキシアルキルであり; R3は1つ又はそれ以上の弗素又は臭素原子で或いは1
つ又はそれ以上のヒドロキシル、シアン、ニトロ、(Y
)mCO(Z)nRい5O2NR,、R,□、5(o)
pc、、c、ハロアルキル又は5(O)nC,〜C,C
4アルキル基換され巨つ更に1つ又はそれ以上の塩素原
子で置換されていてもよいC2〜C1oアルケニルであ
り: R4は01〜C3アルキル、C1〜C3ハロアルキ/1
7、c、〜C3アルコキシ又はC1〜C3ハロアルコキ
シであり; R1ばH,/・ロゲン、NR13R14、C1〜C3ア
ルキル、C3〜C3ハロアルキル、C1〜C3アルコキ
シ又はC1〜C2ハロアルコキシであり;そして EはCH又はNである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 しかしながら農業産物に対してより効果的且つより選択
的である除草剤の発見の必要性は継続している。 本発明は、構造式 〔式中、RはH又はCH3であり; R1は01〜C8アルキル、C3〜C4アルコキシアル
キル、C2〜C,ハロアルキル、C5〜C4アルケニル
又はC5〜C4アルキニルであり; R2ばC2〜C6アルコキシ、03〜C6シクロアルコ
キシ、C4〜C,シクロアルキルアルコキシ、C1〜C
6ハロアルコキシ、C2〜C。 アルケニロキシ、C2〜C6/\ロアルケニロキシ、C
1〜C,アルケニロキシ、C3〜C6ハロアルキニロキ
シ、C2〜C,フルコキシアルコキシ、C2〜C4ハロ
アルコキシアルコキシ、02〜C4アルキルチオアルコ
キシ、02〜C4ハロアルキルチオアルコキシ、C2〜
C,フルキルスルフィニルアルコキシ、C2〜C4ハロ
アルキルスルフイニルアルコキシ、C2〜C4フルキル
スルホニルアルコキシ、C2〜C4ハロアルキルスルホ
ニルアルコキシ、C2〜C4シアノアルコキシ、OCH
2C(0)CM、、OCH,CH2C(0)CH,、C
2〜C4アミノアルコキシ、01〜C6アルキルチオ、
C3〜C,シフコアルキルチオ、04〜C,シクロアル
キルアルキルチオ、01〜C,ハロアルキルチオ、C2
〜C,アルケニルチオ、C2〜C6ハロアルケニルチオ
、C3〜C,フルキニルチオ、C5〜C,ハロアルキニ
ルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、C2〜C
4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C4アルキルチ
オアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキルチオアルキル
チオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、SCH,C(0
) CH3、SCH,CH,C(0)CH,、C,〜C
4アミノアルキルチオ、SCH,SCH,C,H,、C
,〜C8アルキルスルフィニル、C3〜C6シクロアル
キルスルフイニル、C4〜C,シクロアルキルアルキル
スルフィニル、C7〜C,ハロアルキルスルフィニル、
C2〜Cs 7 /I/ ’rニルスルフィニル、C2
〜C6ハロアルケニルスルフイニル、C3〜C,フルキ
ニルスルフイニル、C3〜C6ハロアルキニルスルフイ
ニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルフイニル、C
2〜C4ハロアルコ千シアルキルス、ルフィニル、C2
〜C4ンアノアルキルスルフイニル、5(0)CH2C
(0)CH8,5(0)CH2CH2C(0)CH3、
c2〜C4アミノアルキルスルフィニル、02〜C8フ
ルキルスルホニル、C1〜C,シクロアルキルスルホニ
ル、04〜C6シクロアルキルアルキ/L/スルホニル
、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C2〜C6アル
ケニルスルホニル、C2〜C,ハロアルケニルスルホニ
ル、C5〜C。 アルキニルスルホニル、C3〜C,ハロアルキニルスル
ホニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルホニル、C
2〜C4ハロアルコキシアルキルスルホニル、C2〜C
4ンアノアルキルスルホニル、5o2C)H2C(0)
CH3、So、CH2CH,C(0)CH3、C,〜C
4アミノアルキルスルホニル、CH2FXCHF2、C
H2Cl。 CHC12、CH,BrXCHBr、、1〜3つのFl
Cl又はBrの原子で置換されたC2〜C,アルキル、
C2〜C,アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、C
ミCH,C2〜C6ハロアルキニル、oc(o)c、〜
C4アルキル、CH2C−(0)NRaRbXNHCH
3、NRbRc或いはC1〜C4フルコキシ、C3〜C
4シクロアルコキシ、シクロプロピルメトキシ、C1〜
C4ハロアルフキシ、C2〜C4アルケニロキシ、C2
〜C4ハロアルケニロキシ、C3〜C4アルキニロキシ
、C5〜C,ハロアルキニルチオ、C2〜C4アルコキ
シアルコキシ、C2〜C4アミノアルコキシ、C1〜C
4アルキルカルボニロキシ、CI〜C4ハロアルキルカ
ルボニロキシ、CI〜C4カルパモイロキシ、C8〜C
4アルコキシカルボニロキシ、0)f。 op(o)(oc、〜C,Clキル)2、CI〜C4ア
ルキルスルホニロキシ、C3〜C2ハo 7 /l/
キルスルホニロキシ、08i(CH3)3.08i(C
H,)2C(CH,)、、C,〜C4アルキルチオ、C
1〜C4シクロアルキルチオ、シクロプロピルメチルチ
オ、C7〜C4ハロアルキルチオ、C2〜C4アルケニ
ルチオ、C2〜C4ハロアルケニルr−オ、C8〜C,
7#キニルチオ、C3〜C4ハロアルキニルチオ、C2
〜C4アルコキシアルキルチオ、C2〜C,アミノアル
キルチオ、SH,5P(0)−(OC,−C2フル#ル
)2. C,−C47に*にスルフィニル、C8〜C4
シクロアルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスル
フィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフイニル、C7
〜C4アルケニルスルフイニル、C6〜C4ハロアルケ
ニルスルフイニル、C5〜C4アルキニルスルフイニル
、C3〜C4ハロアルキニルスルフイニル、C2〜C4
フルコキシアルキルスルフイニル、C2〜C4アミノア
ルキルスルフイニル、C8〜C4アルキルスルホニル、
C3〜C4シクロアルキルスルホニル、シクロフロヒル
メチルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル
、C2〜C,フルケニルスルホニル、C2〜C4ハロア
ルケニルスルホニル、C3〜C4アルキニルスルホニル
、C8〜C4ハロアルキニルスルホニル、C2〜C4ア
ルコキシアルキルスルホニル又ケC2〜C4アミノアル
キルスルホニルで置換されたC1〜C4アルキルであり
; R2’ u C+〜C3アルキル、シクロプロピル、C
1〜C3アルコキシ、01〜C3アルキルチオ、C1〜
C,アルキルスルフィニル、す〜C,Clキルスルホニ
ル、アリロキシ、アリルチオ、アリルスルフィニル、ア
リルスルホニル、プロパーギルチオ、プロパーギルチオ
、フロバーキルスルフィニル、フロパーキルスルホニル
、C2〜C,ハロアルコキシ、1〜3つのF又はCIの
原子で置換された01〜C3アルキル、C1〜C2アル
コキシ、01〜C2ハロアルコキシ、C3〜C2アルキ
ルチオ、Cl−02ハロアルキルチオ、C7〜C,フル
キルスルフィニル、C3〜C。 ハロアルキルスルフィニル、C1〜C,フルキルスルホ
ニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、OH又はo
c(o)c、〜C2アルキルで置換されたC7〜C2ア
ルキル、C1〜C27/l/ =r *シ、C7〜C2
ハロアルコキシ、C1〜C2アルキルチオ、CI〜C2
ハロアルキルチオ、C8〜C2アルキルスルフイニル、
C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C1〜C2アルキ
ルスルホニル、C2〜C2ハロアルキルスルホニル又は
CNで置換されたC1〜C2アルコキシ、0CH2CH
2NH2、OCH,CH2−NHCH3,0C)12C
H2N(C)I3)2、C,〜C2アルコキシ、C1〜
C2ハロアルコキシ、CI〜C,フルキルチオ、Cl−
5−02ハロアルキルチオ又はCNで置換されたC、、
C2アルキルチオ、CI〜C,ハロアルキルチオ、C1
〜C,ハロアルキルスルフィニル、C1〜C3ハロアル
キルスルホニル、C2〜Cs 7 /l/ ケニル、C
==CH,NRbノRe’或いは0C(O)C0〜C2
アルキルであり;Ra及びRbは独立にH又はC3〜C
,アルキルであり;町はC2〜C4アルキル、シクロプ
ロピルメチル、02〜C4シアノアルキル、CH2C−
(0)CH3、CH2CH2C(0)CH3、C1〜C
4/、ロアルキル、C5〜C4アルケニル、C3〜C4
ハロアルケニル、C3〜C4アルキニル、C3〜C4ハ
ロアルキニル、C2〜C,フルコキシ、C,〜C4アル
キルチオ、C8〜C4アルキルスルフイニル、C8〜C
4アルキルスルホニル、0HXNH,、NHCH3又社
N (CHM ) 2で置換されたC1〜C4アルキル
でアリ;Rb′はH又はC1〜C2アルキルであり;R
c tはHXC,〜C2アルキル又はC、、C2ハロア
ルキルであり; Y/はCH,、OCH,又は0CF2Hであり;XはC
H,、OCH,,0C2H3、C1又はBrであり; YはC8〜C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、0C
H2Cf(2F、0CH2CHF2、OCH,−CF8
、NHCH,又はN(CH3)2であり;そして 2はCH又はNであり、但し 1) XがCI又はBrノとき、2はCHであり巨つ
YはC1〜C2アルコキシ、NHCH3又はN(CH3
)2であり;そして 2) R2がSCH,のとき、RはHであり、R1はC
H,であり、XはOCH,であり、YはOCH3であり
、そして2はCHである〕ある種の化合物に関する。 上記定義において、単独で或いは「アルキルチオ」又は
「ハロアルキル」のような連語で使用される「アルキル
」とは、直鎖又は分岐鎖アルキル、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、インプロピル又は異なるブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチル異性体基を示
す。 アルコキシはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ及び異なるブトキシ、ペントキシ又はヘキ
シニル異性体基を示す。 アルケニルは直鎖又は分岐鎖の、例えばビニル、1−7
’ロペニル、2−7”ロベニル、、 3−7’ロペニ
ル、及ヒ異なるブテニル、ペンテニル及びヘキセニル異
性体基を示す。 アルキニルは直鎖又は分岐鎖アルキン、例えばエチニル
、1−7’ロビニル、2−7’ロピニル及ヒ異なるブチ
ニル、ペンチニル及びヘキシニル異性体基を示す。 シクロアルキルはシクロプロピル、シクロ7”チル、シ
クロペンチル及びシクロアキルヲ示ス。 C3〜C8シクロアルキルアルキルはシクロプロピルメ
チル−シクロプロピルプロピル又はシクロペンチルメチ
ルを意味する。 単独で或いは「・・ロアルキル」のような連語で使用さ
れる「ハロゲン」は弗素、塩素、臭素又はヨウ素を示す
。更に「・・ロアルキル」のような連語で用いる場合、
該アルキルは同一の又は異なる・・ロゲン原子で部分的
に又は完全に置換されていてもよい。ハロアルキルの例
はCH2CH,FXCF、−CF2及びCH,CHFC
lを含む。 置換基における炭素数の全数は前置語Ci%Cj(但し
i及びjは1〜8の数)で示される。例えrd C+〜
C3アルキルスルホニルはメチルスルホニル〜プロピル
スルホニルを示し、C2アルコキシアルコキシは0CH
20CH3を示す。C4アルコキシアルコキシは第2の
アルコキシで置換されたアルコキシ、の、全炭素数4の
種々の異性体基を示し、例えば0CI−I20CH2C
H2CH,及び0CH2C1(,0CR2−CH,を含
む。C2シアノアルキルはCH,CNを示し、またC3
シアノアルキルはCH2CH2CN及びCH−(CN)
CH3全3ヲ示C4アミノアルコキシはアミン、アルキ
ルアミノ又はジアルキルアミノ基で置換されたアルコキ
シ基の、全炭素数が4の種々の異性体基を示し、例えば
OCH,CH2CH2CH2NH,及び ′0CH2C
H2N(CH,) 2を含む。更なる例としてCH−(
HXC,、C,アルキル)OC1〜C2アルキルはC0
〜C2アルコキシ基で置換された及び随時アルキル基で
置換されたメチル基の種々の異性体基を示し、例えばC
H20CH5及びCf((CH2CH2CH8) −O
CH,CH8を含む。 高除草活性、大きい植物生長調節活性及び/又はより好
ましい合成の容易さのために好適である本発明の化合物
は以下の通りである: 1) R2がC2〜C6アルコキシ、C1〜C。 アルキルチオ、C1〜C,アルキルスルフィニル、C2
〜Csアルキルスルホニル、C3〜C6アルケニロキシ
、C8〜C6アルキニロキシ、C3〜C,アルケニルチ
オ、C5〜C6アルケニルスルフイニル、C3〜C,ア
ルケニルスルホニル、C5〜C6アルキニルチオ、C8
〜C6アルキニルスルフイニル、C3〜C,フルキニル
スルホニル、0CH2CH,OCH3,0CH2CH,
−8C)(、,0CHtCH,5(0)CH,、QC)
I2CH,So、 −CH,,1〜3つのFXCl又は
Br C7)原子で置換されたC2〜C6アルキル、
CH,F 。 CHF2、C1〜C2アルコキシ、C1〜C2アルキル
チオ、C,〜C2アルキルスルフィニル又rd、 C+
〜C2アルキルスルホニルで11換さレタc、〜C4ア
ルキル、0CF2H,OCH,CH2F、 OCH,−
CHF、、OCH2CF、、0CH2CH2C1、S−
シクロヘキシル、SC,H,或いは5CH2C,I(。 である、 弐Iの化合物。 2) R2がCH,5XC3〜C6アルケニロキシ、C
1〜C6アルキニロキシ、C5〜C6アルケニルチオ、
C3〜C6アルケニルスルフイニル、C5〜C6フルケ
ニルスルホニル、C1〜C,フルキニルチオ、03〜C
6アルキニルスルフイニル、C3〜C,フルキニルスル
ホニル、1〜3つのF、C1又はBrで置換されたC2
〜C6アルキル、非ベンジル位が01〜C2アルコキシ
、CI〜C2アルキルチオ、C0〜C2アルキルスルフ
イニル又はC5〜C,アルキルスルホニルで置換された
C1〜C4アルキル、0C)(、−Cf(20Cf(5
,0CH2CH2SCH,、OCH,CH25−(0)
CH,,0CH2CH2So、CH3,0CF2H。 0CH2CH2F、OCH,CHF2、OCH,CF3
.0CH2−CH2CH3S−シクロヘキシル、5C6
H,又は5CH2C,H,である、 好適(1)の化合物。 3) RがHである好適(2)の化合物。 4) R2がCH35XC3〜C4アルケニロキシ、C
3〜C4アルケニルチオ、C3〜C4アルケニルスルフ
イニル、C3〜C4アルケニルスルホニル、1〜3つの
F又はCIで置換されたC2〜C,アルキル、CH2F
、、CHF’2、QC)(F2.0CH2CH2F、
OCH・2CF3又は0CH2CH2CIである、好適
(3)の化合物。 5) R1がCH3又はCH2CH3であり:XがCH
3,0CR3又はciであり;そしてYがCH,、OC
H,、C2H,又はQC,H,である、好適(4)の化
合物。 6) R2がアリロキシ、アリルチオ、プロパーギル
チオ、プロパーギルチオ、CH,F。 0CHF2.0CH2CH2F又はCH,Sである、好
適(5)の化合物。 7) R2がC2〜C,アルコキシ、02〜Caアルキ
ルチオ、C2〜C,アルキルスルホニル、C7〜C8ア
ルキルスルフイニル、CH(HXC。 〜C3アルキル)OC1〜C2アルキル、CH(H。 C1〜C3アルキル)SC,〜C2アルキル、CH(H
XC,〜C,C2アルキル(0)C1〜C2アルキル又
はCH(H,C,−C,アルキル)SO。 C8〜C2アルキルである、好適(1)の化合物。 R) RがHである好適(7)の化合物。 9) R2がC2〜C,アルコキシ、C2〜C。 アルキルチオ、C2〜C4アルキルスルホニル、C7〜
C4アルキルスルフイニル、CH20CI〜C,アルキ
ル、CH28C,、C2アルキル、CH25−(0)
Ct” C2アルキル又はCH,So、C,〜C2アル
キルである、 好適(8)の化合物。 10)R,がC1(、又はC2H,であり、XがCH3
、OCH3又はC1であり;そしてYがCf(、、OC
H3、C2H,又はQC,H,である、好適(9)の化
合物。 11)R,がC2〜C3アルコキシ、02〜C。 アルキルチオ、C1〜C3アルキルスルフイニル、CH
20CH3、CH2SCH3、CH,5(0)CH。 又B CH,5o2CH,cア;!:、、好適(10)
の化合物。 12)R,がC1〜C,シクロアルキル、C4〜C,シ
クロアルキルアルコキシ、0CF2−C1,OCF B
rX0CF3.0CF2CF2HXOCF2−
・CHFClX0CF、CI(FBr、 OCF C
F 0CH2−23X CH2B r、 0CH2CC18、C3〜C,ハロア
ルコキシ、ヒニロキシ、C2〜C,ハロアルケニロキシ
、C3〜C,ハロアルケニロキシ、0C)(,0−CH
3,0CH20CH2CH,,0CH(CH3)OCH
3、C,アルコキシアルコキシ、C2〜C4ハロアルコ
キシアルコキシ、0CH2SCJj、、0CH2S−C
H,CH3,0CH(CHl)SCHいC4アルキルチ
オアルコキシ、02〜C4ハロアルキルチオアルコキソ
、QC)(,5(0)CI(3,0CR2S(0)CH
2−CH,,0CR(CHl)S(0)CH,、C4ア
ルキルスルフイニルアルコキシ、C2〜C4ハロアルキ
ルスルフイニルアルコキシ、0CH2So、CH3,0
CH2802CH2CH,,0CH(C)f、) 5o
2CH3、C4アルキルスルホニルアルコキシ、C2〜
C4ハロアルキルスルホニルアルコキシ、C2〜C4シ
アノアルコキシ、0CH2C(0) CH,,0CR2
CH2C(0)CH3、C2〜C4アミノアルコキシ、
C3〜C,シクロアルキルチオ、04〜C6シクロアル
キルアルキルチオ、5CF2HXSCF2C1,5CF
2Br、 5CF3、C2〜C8ハロアルキルチオ、ビ
ニルチオ、C2〜C6ハロアルケニルチオ、C1〜C,
ハロアルキニルチオ、02〜C4アルコキシアルキルチ
オ、C2〜C4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C
,アルキルチオアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキル
チオアルキルチオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、S
CH,C(0)CH3,5CH2CH2C(O)CH3
,02〜C4アミノアルキルチオ、C3〜C6シクロア
ルキルスルフイニル、C4〜C6シクロアルキルアルキ
ルスルフイニル、CI〉C8ハロアルキルスルフィニル
、ビニルスルフィニル、02〜CI、ハロアルケニルス
ルフィニル、C3〜C6ハロアルキニルスルフイニル、
02〜C,フルコキシアルキルスルフィニル、C2〜C
4ハロアルコキシアルキルスルフイニル、C2〜C4シ
アノアルキルスルフイニル、5(0)CH2−C(0)
Cf(、,5(0)CH2CH2C(0)C)(5、C
,〜C4アミノアルキルスルフィニル、C8〜C6シク
ロアルキルスルホニル、C4〜C6シクロアルキルアル
キルスルホニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、
ビニルスルホニル、C2〜C,ハoフルケニルスルホニ
ル、C3〜C6ハロアルキニルスルホニル、C2〜C4
アルコキシアルキルスルホニル、C2〜C4ハロアルコ
キシスルホニル、02〜C4シアノアルキルスルホニル
、5o2CH2C(0)CH,、SO,CH2CH2−
C(0)CH3、C2〜C4アミノアルキルスルホニル
、CH2ClXCHCl2、CH2BrXCHBr2、
C2〜C,フルケニル、C6〜C1l八ロアルケニル、
C==CH,C,〜C,CIアルキニル、QC(0)C
。 〜C、7A/ キ/l/、CH,C(0)NRaRb、
MHCH,、NRbRo 或いはC3〜C4アルコキ
シ、c、〜C4シクロアルコキシ、シクロプロピルメト
キシ、C0〜C4ハロアルコキシ、C2〜C4アルケニ
ロキシ、C7〜C4ハロアルケニロキシ、C3〜C,フ
ルキニロキシ、C5〜C4ハロアルキニロキシ、C7〜
C,アルコキシアルコキシ、C2〜C4アミノアルコキ
シ、C1〜C4アルキルカルボニロキシ、CIA−C4
ハロアルキルカルボニロキシ、01〜C4カルパモイロ
キシ、C1〜C4アルコキシカルボニロキシ、OH。 0P(O)(OC1〜C2アルキル)2.01〜c4ア
ルキルスルホニロキシ、C,〜C2ハロアルキルスルホ
ニロキシ、O8i (CH3)a 、O81(CH,)
2C(CH3)3、C5〜C4アルキルチオ、C5〜c
4シクロアルキルチオ、シクロプロピルメチルチオ、C
1〜C4ハロアルキルチオ、02〜c4アルケニルチオ
、C〜C4ハロアルケニルチオ、C3〜C4アルキニル
チオ、C3,C,、、。 アルキニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、
02〜C4アミノアルキルチオ、SH。 5P(0)(OC1〜C2アルキル)2、c、〜c4ア
ルキルスルフィニル、C〜C4シクロアルキルスルフィ
ニル、シクロプロピルメチルスルフィニル、C1〜C4
ハロアルキルスルフイニル、C2〜C4アルケニルスル
フイニル、C7〜C4ハロアルケニルスルフイニル、c
3〜C4フルキニルスルフィニル、C5〜C,ハコアル
キニルスルフィニル、C2〜C4フルコキシアルキルス
ルフイニル、02〜C4アミノアルキルスルフイニル、
C3〜C4アルキルスルホニル、C8〜C4シクロアル
キルスルボニル、シクロプロピルメチルスルホニル、C
IS+c4ハロアルキルスルホニル、C〜C4アルケニ
ルスルホニル、C〜C4ハロアルケニルスルホニル、C
3〜C4アルキニルスルホニル、c、〜C4ハロアルキ
ニルスルホニル、C2〜c4アルコキシアルキルスルホ
ニル又はC2〜c4アミノアルキルスルホニルで置換さ
れたC1〜c4アルキルである、 式(1)の化合物。 x3)R,がC1〜C,シクロアルコキシ、04〜C,
シクロアルキルアルコキシ、OCF、C1゜OCF、
Br 、 OCF、 、OCF、 CF2H,0CF2
CHFC1、OCF、CHFBr、 0CF2CF、、
OCR,C)(、B r 。 OCH,CCI、 、C,〜C6ハロアルコキシ、ビニ
ロキシ、C2〜C,ハロアルケニロキシ、0CH20C
H,,0CH20CH,CH3,0CH(CH8)−O
CH、、C4アルコキシアルコキシ、02〜C4ハロア
ルコキシアルコキシ、OCR,5C)I3、OCH,S
CH,CH3,0CH(CH,)SCH,、C4アルキ
ルチオアルコキシ、C6〜C4ハロアルキルチオアルコ
キシ、0CH2S(0)C)(、、OCH,−8(0)
CH,CH,,0CH(CH3)S(0)CH,、C4
アルキルスルフィニルアルコキシ、C2〜C4ハロアル
キルスルフイニルアルコキシ、OCH,−802CH3
,0CH2SO□Cf(、CH8,0CR(CH3)
−8O2CH3、C4アルキルスルホニルアルコキシ、
C7〜C4ハロアルキルスルホニルアルコキシ、C2〜
C4シアノアルコキシ、0CH2C(0)CH3,0C
R2CH,C(0)CH,、C2〜C4アミノアルコキ
シ、C5〜C,シクロアルキルチオ、5CF4.5CF
2CIXSCF2BrX弱ヤhC4〜C,シクロアルキ
ルアルキルチオ、SCF、H,C2〜C6ハロアルキル
チオ、ビニルチオ、C7〜C。 ハロアルケニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチ
オ、02〜C4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C
4アルキルチオアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキル
チオアルキルチオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、5
CH2C(0) CI(、、SCH,CH,C(0)C
f(3,02〜C4アミノアルキルチオ、C1〜C,シ
クロアルキルスルフィニル、C4〜C,シクロアルキル
アルキルスルフィニル、C1〜C6ハロアルキルスルフ
イニル、ビニルスルフィニル、C2〜C,ハロアルケニ
ルスルフィニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルフ
イニル、C2〜C4ハロアルコキシアルキルスルフイニ
ル、C2〜C4シアノアルキルスルフイニル、5(0)
CH,C(0)CH8,5(O)−CH2CH2C(0
)CH3、C2〜C4アミノアルキルスルフイニA/、
C,〜C,シクロアルキルスルホニル、04〜C6シク
ロアルキルアルキルスルホニル、C8〜C,ハロアルキ
ルスルホニル、ビニルスルホニル、C2〜C6ハロアル
ケニルスルホニル、C2〜C,アルコキシアルキルスル
ホニル、C2〜C4ハロアルコキシスルホニル、C2〜
C4シアノアルキルスルホニル、5o2CH,C(0)
C)f、 、So□CH,CH2C(0)CH5、C2
〜C4アミノアルキルスルホニル、CHBr、、1つ又
はそれ以上の弗素又は臭素原子で置換されたC2〜C,
アルケニル、C=CH,c、〜C6ハロアルキニル、N
RbR,1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH(H
,C,〜C3アルキル)OC4〜C4ハロアルキル、C
H(FI、C,〜C3アルキル)OC2〜C4ハロアル
ケニル、CH(HXC,、C,アルキル) OC3〜C
,アルキニル、CH(HXC,〜C3アルキル)OC2
〜C4アルコキシアルキル、1又は2つのハロゲン原子
を有するCH(H,C,〜C3アルキル) SC。 〜C4ハロアルキル、CH(HXC,〜C,アルキル)
SC2〜C4ハロアルケニル、CH(H,C。 〜C,アルキル) SC,〜C4アルキニル、C)((
H。 C3〜C3アルキル) SC,〜C4アルコキシアルキ
ル、1又は2つのハロゲン原子を有するCM(H,C1
〜C,アルキル)S(0)C1〜C4ハロアルキル、C
H(HXC,〜C,アルキル)S(0)C1〜C4ハロ
アルケニル、CH(H,C,〜C。 アルキル)S(0)C3〜C4アルキニル、CH(H。 C,、C,アルキル”) 5(o)c2〜C4アルコキ
シアルキル、1又は2つのハロゲン原子を有スるCH(
f(、C,〜C,アルキル) 5o2c、、c4ハロア
ルキル、CH(HXC,〜C3アルキル)SO2C2〜
C,ハロアルケニル、CH(H,C,〜C3アルキル)
SO2C5〜C4アルキニル、CH(HXC,〜C,ア
ルキル) SO,C,〜C4アルコキシアルキル、或い
は非ベンジル位がC9〜C4アルコキシ、01〜C4ハ
ロアルコキシ、C1〜C4アルキルカルボニロキシ、C
1〜C4ハロアルキルカルボニロキシ、C1〜C4カル
パモイロキシ、アルコキシカルボニロキシ、C1〜C,
アルキルスルホニロキシ、C1〜C2ハロアルキルスル
ホニロキシ、C3〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロ
アルキルチオ、C3〜C4アルキルスルフイニル又はC
3〜C4アルキルスルホニルで置換されたC3〜C4ア
ルキルであり;そして Roが02〜C4シアノアルキル、CH2C(0)CM
、 、′CH2CH2C(0)C)I3、C,〜C4ハ
ロアルキル、C4〜C,フルケニル、C3〜C4ハロア
ルケニル、C1〜C4アルキニル又はC3〜C4ハロア
ルキニルである、 好適(12)の化合物。 14) RがHである好適(13)の化合物。 15)R2が0CF3.0CF2CF3.0CH2−C
H2B rXC,ハo 7/l/ コ−IF シ、OC
H,CH2O−CH2CH3,5CF2HXSCF、、
C2ハロアルキルチオ、C2〜C,アルコキシアルキル
チオ、C0〜C2ハロアルキルスルフイニル、C8〜C
、ハロアルキルスルホニル、C=CH,1又ハ2 ツの
・・ロゲン原子を有するCH2QC,、C2・・ロアル
キル、1又は2のハロゲン原子を有するCHSC,〜C
2ハロアルキル、1又は2のハロゲン原子を有するCH
,5(0)C,〜C2ハロアルキル、或いはl又は2つ
のハロゲン原子を有するCH2502C7〜C2ハロア
ルキルである、好適(14)の化合物。 16)R,がCH,又はCH2CH,であり;XがCH
,、OCR,又はCIであり;そしてY7’fiCH,
、、OCR,、C,H,又BOc2H,−chる、好適
(15)の化合物。 17)R2が0CF2CF、、、5CF2HXSCH2
−CH20CH,,5(0)CF’、HXSo、CH2
0CH。 CH,OCH2CF2F又はCH20CH2CHF2で
ある、好適(16)の化合物。 18 ) R2カC3〜C,ハロアルキニルチオ、C
7〜C,ハロアルキルチオ、C3〜C,ハロアルキニル
チオ、C9〜C,ハロアルキニルスルフィニル、C3〜
C,ハロアルキニルスルフィニル、C7〜C8ハロアル
キルスルホニル、C1〜C6ハ0 フルキニルスルホニ
ル、C)(、C1゜CHCl2、CH7Br11ツ又は
それ以上+7)塩素原子で置換されたC2〜C,アルケ
ニル、C2ハロアルキニル、oc(o)c、、c、アル
キル、CH2C(0)NRaRbXNHCH,、NRb
R,3つ又はそれ以上の・・ロゲン原子を有するCH(
H。 C5〜C,フルキル)OC,〜C4ハロアルキル、CM
(HXC,〜C,アルキル)QC(0)C,〜C。 アルキル、CH()fXC,〜C3アルキル)OC−(
O)C1〜C3ハロアルキル、C)(()(、C,〜C
。 アルキル)OC,〜C4カルバモイル、CH(H。 C3〜C,アルキル)QC(0)QC,〜C,アルキル
、CH(H,C,〜C3アルキル) O8O□C7〜C
4アルキル、CH(HXC,〜C,アルギル)O8O□
−C1〜C2ハロアルキル、CH(HXC,〜C,アル
キル)SC,〜C4アルキル、3つ又はそれ以上の・・
ロゲン原子を有するCH(HXC,〜C3アルキル)S
C,〜C4ハロアルキル、CH(H。 C4〜C3アルキル)S(υ)C3〜C,アルキル、3
つ又はそれ以上の・・ロゲン原子を有するCH(HXC
,〜C,アルキル) 5o2C,、C4,、ロアルキル
、非ベンジル位がC2〜C4ハロアルケニロキシ、C5
〜C4アルキニロキシ、02〜C4アルコキシアルコキ
シ、C2〜C4ハロアルケニルチオ、C3〜C4アルキ
ニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、CI〜
C4ハロアルキルスルフィニル、C2〜C4ハロアルケ
ニルスルフイニル、C3〜C4アルキニルスルフイニル
、C2〜C4アルコキシアルキルスルフイニル、C1〜
C4ハロアルキルスルホニル、C2〜C4ハロアルケニ
ルスルホニル、03〜C4アルキニルスルホニル又ハC
2〜C4アルコキシアルキルスルホニルで置換されたC
1〜C4アルキル、或いはC8〜C4シクロアルコキシ
、シクロプロピルメトキシ、C2〜C4アルケニロキシ
、C3〜C4ハロアルキニロキシ、C2〜C4アミノア
ルコキシ、O)(、0P(0) −(OC1〜C2アル
キル)2.08I(CH3)3.08i(CH,、)2
C(C1(、、)、q、シクロアルキルチオ、シクロプ
ロピルメチルチオ、C2〜C4アルケニルチオ、C1〜
C4ハロアルキニルチオ、C2〜C4アミノアルキルチ
オ、5HXSP(0)−(OC1〜C2アルキル)2、
C8〜C4シクロアルキルスルフイニル、シクロプロピ
ルメチルスルフィニル、C2〜C4アルケニルスルフイ
ニノペC5〜C4ハロアルキニルスルフイニル、C2〜
C4アミノアルキルスルフイニル、C8〜C4シクロア
ルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスルホニル、
C2〜04アルケニルスルホニル、03〜C4ハロアル
コキシスルホニル又は02〜C4アミノアルキルスルホ
ニルで置換されたC、、C4アルキルであす;ソシて Rcが02〜C4アルキル、シクロプロピルメチル、或
いはC1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C)〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキル
スルホニル、0HXNH2、NHCH3又はN(CH3
)2で置換されたC1〜C4アルキルである、 好適(17)の化合物。 19) RがHである好適(18)の化合物。 2o) R2が0CF2CF2H,、C2〜C,シアノ
アルコキシ、02〜C3アミノアルコキシ、C2〜C,
シアノアルキルチオ、C2〜C3アルケニル、CH=
C(0)NRa RB、NHCH3、NR,Ro。 3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH2QC,
、C2ハロアルキル、CH2QC(0)C。 〜C2アルキル、CH20SO2C,〜C2アルキル、
3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH25C,
〜C2ハロアルキル、3つ又はそれ以上の・・ロゲン原
子を有するCH25(0)C,、C2ハロアルキル、或
いは3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH,5
O2C,〜C2ハロアルキルである、 好適(19)の化合物。 21)R,がCH8又はC2H,であり;XがCH,、
OCH3又はC1であり;そしてYがCH8、OCH3
、C2H!又はQC2H,である、好適(20)の化合
物。 22) R,が0CF2CF2H,0CH2CH2C
N。 5CH2CH2CN、 CH=CH2、CH,C(0)
NR2、NHCH3、C)f20CH2CF 、、CH
2QC(0)CH3又はCH20SO2CH8である、 好適(21)の化合物。 23)R2’がC,、C3アルキル、シクロプロピル、
C1〜C,アルコキシ、C4〜C3アルキルチオ、C1
〜C,アルキルスルフィニル、C1〜C3アルキルスル
ホニル、アリロキシ、アリルチオ、アリルスルフィニル
、アリルスルホニルプロパーギロキシ、プロパーギルチ
オ、プロパーギルスルフィニル、プロパーギルスルホニ
ル、OCF、HXOCH2CH2F。 0CH2CHF、 0CR2CF、 、0CH2CH2
Cl 、 或いは1〜3つのF又はC1の原子で置換さ
れたC0〜C,アルキル、OCH3又は5Cf(3で置
換されたC3〜C2アルキルである、 式■の化合物。 24)R2′がC,、、C2アルキル、C1〜C2アル
コキシ、C1〜C3アルキルチオ、C8〜C。 アルキルスルフィニル、C1〜C3アルキルスルホニル
、CF3、プロパーギルチオ、 プロバーキルチオ、フ
ロパーギルスルフィニル、プロパーギルスルホニル、0
CF2H,0CH2−CH2F、 0CH2CHF、
OCH,CF3、QC)(2CH2C1、CH2CH2
0C1(3又はCH2C1(2SC)(、である、好適
(23)の化合物。 25) RがHであり: R1がC1〜C2アルキルであり; R2/が01〜C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、
01〜C,アルキルチオ、CF、又は0CF2Hであり
;そして Y/がCH,又は0C1(3である、 好適(24)の化合物。 26)R2’がCHl、OCRい0CH2CH3又はC
F3である、 好適(25)の化合物。 27)R2’がプロピル、゛イソプロピノペ シクロプ
ロピル、プロポキシ、インプロポキシ、アリロキシ、ア
リルチオ、アリルスルフィニル、アリルスルホニル、C
H20CI−(3、C)((C)i 3) −OCH,
、CH2SCH3、CI((CI−I、 ) SCH3
、CH2F。 CHF2.1〜3つのF原子で置換されたC2=C3ア
ルキル、或いは1〜3つのC1原子で置換された01〜
C,アルキルである、好適(26)の化合物。 28) RがHであり; R3がC1〜C2アルキルであり; R21がCH2F又はCH,CH2F’であり;そして
Y’がCH8又はOCR,である、 好適(27)の化合物。 29) R21がQC2H,、C、=C2ハロアルコキ
シ、5C2H1、C1〜C2ハロアルキルチオ・C1〜
C2アルキルスルフイニル、C1=C2/%ロアルキル
スルフイニル、CI〜C2アルキルスルホニル、CI+
+C2ハロアルキルスルホニル、OH又はoc(o)c
、=C2アルキルで置換されたC1〜C2アルキル、C
!〜C2アルコキシ、C1〜C2ハロアルコキシ、C1
〜C2アルキルチオ、C1〜C2ノ−ロアルキルチオ、
C1〜C2アルキルスルフイニル、CI〜C,/%ロア
ルキルスルフイニル、C1〜C2アルキルスルホニル、
C1〜C2ハロアルキルスルホニル又はCNで置換され
たC7〜C2アルコキシ、0CH2−CH2NH2,0
CH2CH2NHCH3,0CH2CH2N−(CH3
)2、C8〜C2アルコキシ、C4〜C2ハロアルコキ
シ、01〜C2アルキルチオ、01〜C2ハロアルキル
チオ又はCNで置換さh fc C、=C2アルキルチ
オ、C7〜C,ハロアルキルチオ、C1〜C3ハロアル
キルスルフイニル、C1〜C3ハロアルキルスルホニル
、C2〜C3アルケニル、CミCHXNRb’Rざ、0
CF2C1,0CF2−Br10CF3、C3ハロアル
コキシ或いは0C(O)C,、C2アルキルである、 式「の化合物。 30) R2’カCH2CH20CH2CH,,1又
は2つの・・ロゲン原子を有するCH,、QC、=C2
・・ロアルキル、1又は2つのハロゲン原子を有するC
H(CH3)QC,=C2ハロアルキル、CH2CH2
−0C,=C2ハロアルキル、CH2CH25CH2C
H3,1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH25C
。 =C2・・ロアルキル、1又は2つのノ・ロゲン原子を
有するCH(CH3)5C,=C2/・ロアルキル、C
H2CH25C、=C2ハロアルキル、CH2CH25
−(O)CI−C2アルキル、1又は2つのハロゲン原
子を有するCH25(0)C,=C2/・ロアルキル、
1又は2つのハロゲン原子を有するCH−(CH3)S
(0)C1〜C2ハロアルキル、CH2CH2−8O□
C0〜C2アルキル、1又は2つのハロゲン原子を有す
るCH25o2C、=C2ハロアルキル、■又は2つの
ハロゲン原子を有するCH(CH3)−5O2C,=C
2/・ロアルキル、CH2CH20H%qH2CH2Q
C(0)C,=C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、
C,”yC2ハロアルコキシ、C1〜C2アルキルチオ
、C1〜C2ハロアルキルチオ、C2〜C2フルキルス
ルフイニル、C1〜C2ハロアルキルスルフイニル、C
1〜C2アルキルスルホニル、C1〜C2ハロアルキル
スルホニル又はCN、 OCH2CH,NH2,0(J
(2CH2NHCHい0Cf(2C)I2N(CH3)
2、C,=C2アルコキシ、01〜C2ハロアルコキシ
、C1〜C2アルキルチオ、C0〜C2ハロアルキルチ
オ又はCN で置換されたC1〜C2アルキルチオ、
C7〜C1ハロアルキルチオ、C1〜C3ハロアルキル
スルフイニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C
−=CH,NRb’ Rol、 OCF 2C1、0C
F2B r。 OCF、或いはC,ハロアルコキシであり;そして R’がC,〜C,ハロアルキルである、好適(29)の
化合物。 31) RがHであり; R1がC1〜C2アルキルであり; R2′が1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH2Q
C、=C2ハロアルキル、1又は2つのハロゲン原子を
有するCH,SC,=C2ハロアルキル、c、、C2,
・ロアルキルチオ、C〒CH。 NRb′Rc′或いは0CF3であり;そしてY′がC
H3又はOCH3である、 ・好適(30)の化合物
。 32)R2’がCH20CH,’ CH2F、 CH2
0CH2−CHF2、NT(2、N)LCH3又はN(
CH3)2である、好適(31)の化合物。 33)R2’がCH20CH,CH,、CH(CH3)
−QC)(2CHい 3〜5つの−・ロゲン原子を有す
ルCH20C1〜C,ハロアルキル、3〜5つのハロゲ
ン原子を有するCH(CH3) QC,−C2・・ロア
ルキル、CH25CH2CH,、CH(CH,) 5C
H2−CH3,3〜5つのノ・ロゲン原子を有するCH
2−8C1〜C2ハロアルキル、3〜5つのノ\ロケン
原子を有するCH2(CH,) SC,〜C2・・ロア
ルキル、CH,S (0) C、〜C2アルキル、CH
(CH,)−S(O)C,〜C2アルキノペ CH,C
H,5(0)C,〜C2ハロアルキル、3〜5つのノ・
ロゲンi子を有するcH2s(o)c、〜C2・・ロア
ルキル、3〜5つのハロゲン原子を有するCH(CH3
)5(0)C8〜C2ハロアルキル、CM2S02C、
〜C2アルキル、CH(CH3)5o、 C、〜C2ア
ルキル、CH2CH25o2C、〜C2ハロアルキル、
3〜5つの・・ロゲン原子を有するCM2S02C,、
C,、・ロアルキル、3〜5つのハロゲン原子を有スる
CH(CI(、)SO2C,〜C2ノ・ロアルキル、C
H20HXCH(CH,)OH,CH,C(0) C,
〜C2アルキル、CH(CI(、)oc(o)c、、c
2アルキル、C2〜C,アルケニル、NRb′Rら、又
は0C(O)C1〜C2アルキルであり;そして R5がH又はC、、C2アルキルである、好適(32)
の化合物。 34) RがHであり; R1がC1〜C2アルキルであり; R2/がC)f20CH,CH3、CH20CH2CF
、、CH25CH2CH8,0CH2CN、 0CH
2CH,CN。 5CH2CNXSCH2CFI2CN、 C,−C,ア
ルケニル又はNRb’R0’であり、そして YノがCI(、又はOCH3である、 好適(33)の化合物。 35)R,’がCf(20CH,CH,、CH20CH
2−CF3、CH=CH2、NH2、NHCf(3又は
N(CH3)2である、 好適(34)の化合物。 更に本発明は、イネ特に日本種のイネ又は水稲に対する
選択性、及び望ましくない植物の生長に対する活性があ
ることに基づいてイネ作物における雑草駆除のために化
合物 を使用する方法、またコムギ及びオオムギ作物には安全
性を有してそれに対するブラックグラス(blackg
rass)に対して使用する方法に関する。 合成 式Iの化合物は方程式1〜3及び14に記述される方法
の1つ又はそれ以上によって製造することができる。 方程式1に示されるように、式1の化合物は式(1)の
適当に償換されたスルホニルイソシアネートを式(2)
の適当なアミノ又はメチルアミノ複素環化合物と反応さ
せることによって製造することができる。 XXY及び2は前述の通りである〕。 この反応は不活性な適当な有機溶媒例えばジクロルメタ
ン、1.2−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン又は
アセトニトリル中において20〜85℃の温度で最良に
行なわれる。添加の順序は厳密でないが、スルホニルイ
ソシアネート又はその反応溶媒中の溶液を、アミンの攪
拌i濁液に添加することはしばしば簡便である。 いくつかの場合、所望の生成物は基部において反応溶媒
に不溶であり、溶媒から純粋形で結晶化する。反応溶媒
に可溶な生成物は溶媒の蒸発によって単離される。この
時代rの化合物は、蒸発残渣の1−クロルブタン又はエ
チルエーテルのような溶媒でのそしゃく及び濾過により
、溶媒例えば1.2−ジクロルエタン、1−クロルフタ
ン及ヒヘブタンの混合物からの再結晶により、或いはシ
リカゲルでのクロマトグラフィーにより精製することが
できる。 式■の化合物の多くは方程式2で示した方法によって製
造することができる。 方程式2 〔式中、AXR,R,、及びR2は前述の通りである〕
。 ? 方程式2で示される反応は、式(3)のフェニルカーバ
メートを、不活性な有機溶媒例えば、ジオキサン又はテ
トラヒドロフラン巾約20〜100℃の温度において約
捧〜24時間、式(2)のアミノ複素環族化合物と接触
させることによって行なわれる。生成物は反応溶媒の蒸
発によって単離し、そして前述の方法によって精製する
ことができる。 式(3)のフェニルカーバメートは、1982年1月2
7日公開のヨーロッパ特許願第81810282.4号
(公開第44,808号)或いは南アフリカ国特許願第
8215042号に記述されている方法又は同業者には
公知のその改変法によって製造することができる。 他に式Iの化合物の多くは方程式3に記述される方法に
よって製造することができる。 方程式3 〔式中、AXR,及びR7は前述の通りであり、そして
RはHである〕。 方程式3の反応は、式(4)のスルホンアミドを、等モ
ル量の1,8−ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデク
−7−エン(DBU)の存在下に、南アフリカ国特許願
第8370441号に記述されているものと同様の方法
に従い式(5)の複素環族フェニルカーバメートと等モ
ル量で反応させることによって行なうことができる。式
(5)のフェニルカーバメートは南アフリカ国特許願第
8215671号及び第8215045号に記述されて
いる方法或いは同業者には公知のその改変法によって製
造することができる。 式1の化合物のいくつかは、R2が0)IXNRbH又
はSHである式1の化合物から製造することができる。 この方法の虜論に対しては方程式14を参照。 式■の化合物は方程式IA〜3A及び14Aに記述され
ている方法の1つ又はそれ以上によって製造することが
できる。 方程式IAに示すように、式「の化合物は式(IA)の
適当に置換されたスルホニルイソシアネートを式(2A
)の適当なアミノ又はメチルアミノ複素環族化合物と反
応させることによって製造できる。 方程式IA (2人) 〔式中、Y′、RXR,及びR2′は前述の通りである
〕。 この反応は不活性な適当な有機溶媒例えばジクロルメタ
ン、1.2−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン又は
アセトニトリル中、20〜85℃の温度において最良に
行なわれる。添加順序は厳密でないが、スルホニルイン
シアネート又はその反応溶媒中溶液を、アミンの攪拌懸
濁液に添加することはしばしば簡便である。 いくつかの場合には、所望の生成物は室温で反応溶媒に
不溶であり、それから純粋形で晶出する。 反応溶媒に可溶な生成物は溶媒の蒸発によって単離しう
る。この場合式■の化合物は、蒸発残漬の1−クロルブ
タン又はエチルエーテルのような溶媒でのそしゃく及び
濾過により、溶媒例えば1゜2−ジクロルエタン、1−
クロルブタン及びヘプタンの混合物からの再結晶により
、或いはシリカゲルでのクロマトグラフィーにより才育
製することができる。 式■の化合物の多くは方程式2Aに示される方法によっ
て製造することができる: 方程式2A 〔式中、Y′、RXR,、及びR2′ は前述の通りで
ある〕。 方程式2Aで示される反応は、式(3A)のフェニルカ
ーバメートを、ジオキサン又はテトラヒドロフランのよ
うな不活性な有機溶媒中において約1/2〜24時間、
式(2A)のアミン複素環族化合物と約20〜100℃
の温度で接触させることによって行々われる。生成物は
反応溶媒の蒸発によって単離され且つ先に記述した方法
によって精製することができる。 式(3A)のフェニルカーバメートは、1982年1月
27日付けのヨーロッパ特許願第44.808号又は南
アフリカ国特許願第8215042号に記述されている
方法、或いは同業者には公知のその改変法によって製造
することができる。 他に式■の化合物の多くは方程式3Aに記述する方法で
製造できる: 方程式3A (■、g=)() 〔式中、Y′、R1、及びR’ は前述と同義であり
、そして RはHである〕。 方程式3Aの反応は、南アフリカ国特許願第83104
41号に記述されているものと同様の方法に従い、式(
4A)のスルホンアミドを、等モル量の1,8−ジアザ
ビシクロ〔5・4・0〕 ウンデク−7−二ン(DBU
)の存在下に式(5A)の複素環族フェニルカーバメー
トと等モル量で接触させることによって行なうことがで
きる。式(5A)のフェニルカーバメートは南アフリカ
国特許願第8215671号及び第F!215045号
に記述きれている方法或いは同業者には公知のその改変
法によって製造することができる。 式1及び11の固化合物に対して、次の一般法の1つ又
はそれ以上により、未置換の及び置換されたアルコキシ
、アリロキシ及びプロパーギロキシベンゼンスルホンア
ミド中間体が製造できる。 方程式4に示すように、1つの非常に有用な一般的合成
経路はフェノール(6)を出発物質とする。 方程式4 〔式中、R1は前述の通りであり、そしてR1はC7〜
C6アルキル、C5〜C,シクロアルキル、C4〜C,
シクロアルキルアルキル、C7〜C,ハロアルキル、C
1〜C,フルヶニル、C1〜Cllハロアルケニ/l/
、C,〜C,ハロアルキニ/L=、C,〜C,−フルキ
ニル、02〜C4アルコキシアルキル、02〜C4ハロ
アルコキシアルキル、C2〜C4アルキルチオアルキル
、C7〜C4ハロアルキルチオアルキル、CH2C(0
)CH,1、CH,CH,C(0) −CH,、又はベ
ンジルであり、またM、けNa又は■(であり、そして OO ある〕。 4−ヒドロキシ−2−二トロ安息香酸(6)の、適当な
極性の中性溶媒例えばジクロルメタン又はN。 N−ジメチルホルムアミド(DMF)中溶液又は懸濁液
を、少くとも2等量の適当な塩基例えばN。 N−ジイソプロピルエチルアミン又は炭酸カリウムの存
在下に20〜155℃の温度において4〜16時間、少
くとも2当量のR4N+ (7)で処理する。 溶媒が水と混和しうるならば、これを蒸発させ、残渣を
ジクロルメタン中に入れる。この生成物の溶液を水性炭
酸ナトリウム又はカリウム溶液及び水性塩酸で洗浄し、
硫酸マグネシウムのような適当な乾燥剤で乾燥する。次
いで濾過し且つ溶媒を蒸発させることにより(8)を準
純粋形で得る。これは再結晶或いはシリカゲルでのカラ
ムクロマトグラフィーによって更に精製することができ
る。必要とされるアルキル化、アルケニル化及びアルキ
ニル化剤R,X、(7)は公知であり、又は技術的に公
知の多くの方法によって裏造しうる。 R1がR1と同一でない場合、エステル(8)は水及び
適当な有機共溶媒例えばエタノール又はp−ジオキサン
の混合物中において4〜16時間、20〜100℃の温
度下に少くとも1当量の水酸化ナトリウム又はカリウム
で処理される。次いで反応混合物を濃塩酸で酸性にする
。生成物が結晶形で分離する場合には、これを集める。 さもなければこの水溶液をエーテルで抽出する。次いで
エーテル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そし
て溶媒を蒸発させてカルボン酸(10)を得る。 カルボンf−ffJ (10)をエステル(12)へ転
化するだめには、続いてそのピリジン溶液を、J、 H
,ブリュースター(Brewster)及びC,J、シ
オツチ(Ciotti)、Jr、、ジャナ/l/ ・オ
プ・アメリカン・ケミカル・ンサイエテイ−(J、Am
、Chem。 Soc、)、1955.77.6214 の一般的方
法ニ従ってp−トルエンスルホニルクロライド及びR,
0H(11)で処理す・る。 他に、カルボン酸(10)は、C,A、ピュエラー(B
uehler)及びり、 E、ビア −7ン(Pear
sOn)、サーベイ・オプ・オーガニック・シンセンス
(Survey of Organic 5ynthe
sis)、ウィリー−インターサイxンス(Wiley
−Intersci−ence 、New York)
、 1970.802〜807頁に参照されているよう
に過剰のR,0f((11)及び強酸触媒例えば塩化水
素を用いることによってエステル(12)に転化するこ
とができる(方程式ニトロベンゼンa2)u、C,A、
ビュエラー 及びl)、 E、ビアーソン(上掲、41
;3〜4]4頁)によって参照きれている如く鉄を酢酸
中で用いることにより或いは硫化白金を触媒として及び
F、S。 ドベル(Dovel)及び比グリーンフィールド(Gr
eenf 1eld)、ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサイエテイー、87.2767(196
5) の条件を用いることによりアニリンに還元され
る(方程式4d)。存在する他の置換基が水素化又は水
素化分解に元素敏感でない場合には、パラジウムを竹化
白金の代りに触媒として用いることができる。 アニリン(13)は、H,メールワイン(Meer−w
ein)、G、デイシトマ−(1)ittmer)、R
,コールナー(G(+1lner)、K、ハフナー(H
afner)、F、メンシュ(Mensch)、0.ス
タインフォート(Steinfort)、ヘミツシエ・
ベリヒテ(Chem。 Ber、 ) 90、l’141(1957)の一般的
方法を用いることによりスルホニルクロライド(14)
に転化される(方程式4e)。カップリング工程中の生
成物の加水分解を制限するためには、ジクロルメタンを
共溶媒として用いることが有利である。 最後に、2当量のアンモニアをジクロルメタン溶液中に
おいて−30〜−10℃の温度で用いることによりスル
ホニルクロライド(14)をアミン化して(4a)を製
造する(方程式4f)。 他に、式(4a)又は(4(!’)のスルホンアミドの
多くは、方程式5に示す経路で製造することができる。 方程式5 %式%(16) 〔式中、M、 、R,XRa、 Rb、及びXlは前述
の通りであり; R3はC1〜C,アルキル、C1〜C6ハロアルキル、
又はCH2C(0)NRaRbであり1そしてR8は前
述の通り、或いは02〜C4アミノアルキルであり、但
しC2〜C6アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、
C3〜C。 アルキニル又n Cs〜C6ハロアルキニルである〕。 フェノール(15)は、無水メタノール、エタノール又
はアミルアルコール中2当量のナトリウムの溶液に添加
される。1当寸より少し多いR3X。 (7)を添加し、この混合物を還流温度に4〜24時間
加熱する。溶媒を真空下に除去し、残渣をIN塩酸及び
エーテル間に分配する。このエーテル相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。エーテルの蒸発後にフェノール
(16)を得る (方程式5a)。 方程式5bX (!Xd、e及びfにおいて、化合物1
7a、18a% 19a、21a及び14aは、OR
,Isz換基がR3で置換された以外それぞれ17、1
8.19.21及び14と同一の構造を有する。 カルボ7酸(16/l 6 a )は、C,A、ビュエ
ラー(Bueler)及びり、 E、ピアーソ7 (P
earson)(止揚、802〜807頁)に参照され
ているように過剰のR,OHと強酸触媒を用いることに
よってエステル(17/17a)に転化される(方程式
5b)。 フェノール(17/17a )はM、 S 、= 、:
x−−7ン(Newman)及びH,A、カーネス(K
arne s )、ジャーナル・オブ・オーガニック・
ケミストリー(J、 Org、Chem、 )、196
6.31.3980の一般的な方法に従い、ジメチルチ
オカルバモイルクロライド及び1,4−ジアザビシクロ
〔2・2・2〕オクタン(DABCO)をN、N−ジメ
チルホルムアミド中で用いることによってチオカーバメ
ート(18,/1sa)に転化される(方程式5c)。 他にフェノール(17/17a)、少くとも1当量のジ
メチルチオカルバモイルクロライド、少くとも1当量の
トリエチルアミン(Et3N)、及び触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジン(DMAP)のジクロルメタン中混
合物を、還流下に1〜7日間加熱する。この反応混合物
をIN塩酸及び109g水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。次い
で溶媒を蒸発させることにより粗生成物(18/18a
)を得る。これはシリカゲルでのクロマトグラフィーに
より又は結晶の場合には再結晶により精製することがで
きる。 チオカーバメート(18/18a)は、M、S。 ニューマン及びH,A、カーネス(止揚)の一般的な方
法に従って加熱してその異性体(19719a)に添加
される。 (19/19 a )+7)無水R,0H(11)中溶
液に、1当量よりも少し多いNaOR,(20)を添加
する。 この混合物を60〜70℃に0.5〜1時間加熱する。 溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロルメタン及び大間
に分配する。この水性層をジクロルメタンで洗浄し、1
2N塩酸で酸性にし、ジクロルメタンで抽出する。ジク
ロルメタン抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する
。溶媒を蒸発させることによりチオール(21/21a
)を得る(方程式5e)。 チオール(21721a)及び少くとも1当量のぎ醸ナ
トリウムのぎ酸中混合物に、温度を40〜50℃に保つ
ような速度で少くとも3当量の過酸化水素を添加する。 次いで反応混合物を45〜55℃に1〜5時間加熱する
。過剰なパーオキサイドを亜硫酸ナトリウムで分解し、
溶媒を蒸発させる。残渣を過剰の塩化チオニルに添加し
、触媒量のN、N−ジメチルホルムアミド(1)MF
) %” m加する。この混合物を還流温度に8〜24
時間加熱し、次いで溶媒を蒸発させる。この残渣を水と
エーテル間に分配させる。エーテル溶液を炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
する。そして溶媒を蒸発させることによりスルホニルク
ロライド(14,/14a)を得る(14./14a)
(方程式5f)。 最後に、スルホニルクロライド(14)をアミン化して
スルホンアミド(4a)を得、まだ同様に(14a)は
方程式4f(方程式5g)に対してすでに記述したよう
に(4(!’)を与える。 スルホンアミド(4a)の多くは方程式6に示す経路に
従い、6−ヒトロキシサツカリン(22)e出発物質と
して製造することができる。 方程式6 %式%(23) 〔式中、R1及びXは前述通りであり、またR、は方程
式4に定義した通りであり又はC2〜C4シアノアルキ
ルである〕。 6−ヒドロキノサッカリン(22)は、C,フインチ(
Finzi)及びM、 コo :、yす(C+)l□n
na)、アッチ・アカド・リンセイ・クラッセ・サイ・
フイス(Atti、Acad、Lincei、C1as
se、Sci、fis、)、マ ト−’7 ト (m
at、 +nat、 ) 、 1937 、
26.19〔ケミカル、アブストラフ:、/ (Che
m、Abst、 )1938.32.3762] に
記述されているように製造することができる。他に1嶋
−=CH,、R,=C,H,C)I2の4(a)は方程
式5に記述した経路に従って製造しうる。このスルホン
アミドのジクロルメタン中溶液を1当′@sの1,8−
ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデク−7−二ン(D
BU)で処理する。溶媒を蒸発させ、残渣を最小量の水
に溶解し、塩酸で処理して6−ベ/シロキシサツカリン
を沈殿きせる。これをパラジウム触媒を含有するエタノ
ールに溶解する。この混合物を水素の吸収が終るまで2
0〜40℃及び1〜10 psiで水素化する。濾過と
溶媒の蒸発により6−ヒトロキシサツカリン(22)を
得る。 方程式6aに記述されている方法において、6−ヒトロ
キシサツカリン(22)を無水メタノール、エタノール
又−はアミルアルコール中2当量のナトリウムの溶液に
添加する。次いで1当量よりも少し多いR,X、(’;
+)を添加し、混合物を還流温度で4〜24時間加熱す
る。溶媒を真空下に除去し、残渣を最小量の水に溶解す
る。これを濃塩酸で酸性にする。生成物が結晶化する場
合には、これを集め、希塩酸で洗浄し、乾燥する。結晶
化しない場合には、水性混合物をジクロルメタンで抽出
する。 このジクロルメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。溶媒の蒸発によりサッカリン(23)を得る(方
程式5a)。 サッカリン(23)のR,0H(11)中溶液又は懸濁
液を塩化水素で飽和させる。この混合物を1〜6時間6
5〜80℃に加熱する。次いで溶媒と塩化水素を蒸発さ
せる。残渣をジクロルメタンに溶解し、炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾
過する。溶媒の蒸発によりスルホンアミド(4a)を得
る(方程式6b)。 他に、サッカリン(22)は方程式6b (方程式5
c)において、(23)の(4a)への転化に対してす
でに記述した条件を用いることによってスルホンアミド
(24)に開裂しつる。スルホンアミド(24)の無水
メタノール、エタノーノペ アミルアルコール、又は適
当な中性溶媒例えばN、N−ジメチルホルムアミド中の
溶液に、1当量のナトリウム又はカリウムメトキシド、
エトキシド又はtert−メトキシド、次いでアルキル
化剤R,X。 (7)を添加する。この混合物を1〜8時間20〜80
℃に、維持する。溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロ
ルメタンに溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
、Na2SO4で乾燥し、テ遇する。 溶媒の蒸発によりスルホンアミド(4a)を得る(方程
式fed)。 式(ll a )、(4b)及び(4e)の多くのスル
ホンアミドは方程式7に示す方法によって製造すること
ができる。 方程式7 %式%) (30) (W、=NR
b)(29b>、 (W−=O) (f) (4a)、(W−〇) (4b)、(W=S) (4e)、(W=NRb) 汗M (32)、(W=S、) (32a)、(W=NRb) 〔式中、M4、R1及びX、は前述の通りであり、X2
ばF、C1,Br又は■であり、〜VはO,S又はNR
bであり、Rbは前述の通りであり、そしてR4は方程
式6に対して定義した如きR3或いはH,、CHl、
シクロヘキシル又はフェニルでアル〕。 ヒドロキシサッカリン(22)u、tVl、 S、ニュ
ーマン及びH,A、カーネス(上掲)の一般的な方法又
は同業者には公知のその改変法に従ってジメチルチオカ
ルバモイルクロライド及び1.4−ジアザビシクロ〔2
・2・2〕オクタン(DABCO)をN。 N−ジメチルホルムアミド中で用いることによりチオカ
ーバメート(25)へ転化される(方程式7このチオカ
ーバメート(25)は、M、S、ニューマン及びH,A
、カーネス(上掲)の一般的な方法又は同業者には公知
のその改変法に従って加熱することによりその異性体(
26)に転化される(方程式7b)。 (26)の無水メタノール中溶液に、2当量よりも少し
多いナトリウムメトキシドを添加する。この混合物を0
.5〜1時間60〜70℃に加熱する。 溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロルメタン及び水量
に分配させる。水性相をジクロルメタンで洗浄し、濃塩
酸で酸性にする。サッカリン(27)が結晶化する場合
には、これを集め、冷希塩酸でゆすぎ、乾燥する。結晶
化しない場合には、水性相をジクロルメタンで抽出する
。ジクロルメタン抽出物を硫酸す) IJウムで乾燥し
、濾過する。溶媒の蒸発後にサッカリン(27)を得る
(方程式7メルカプタン(27)を、無水メタノール
、エタノール又はアミルアルコール中2当量のナトリウ
ムの溶液に添加する。1当量より少し多いR4X。 (28)を添加し、混合物を1〜8時間還流下に加熱す
る。必要とされるアルキル化、アルケニル化及びアルキ
ニル化剤R4X1 (28)は技術的に公知であり、或
いは技術的に公知の多くの方法によって製造することが
できる。 次いで溶媒を見学下に除去し、残渣を最小量の水に溶解
する。これを濃塩酸で酸性にする。サッカリン(29)
が結晶化する場合には、これを集め、冷希塩酸で洗浄し
、乾燥する。結晶化しない場合には、水性混合物をジク
ロルメタンで抽出する。 このジクロルメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。溶媒の蒸発によりサッカリン(29)を得る(方
程式7d)。 能に多くの場合、式(29)又は(29b)のサッカリ
ンは、ハロサッカリン(30)を極性の中性溶媒例えば
N、N−ジメチルホルムアミド中において4〜24時間
、少くとも20〜100℃下に少くとも2当量の式(3
1)の対応するチオレート又はアルコキシドで処理する
ことによって製造できる。 この反応物は溶媒の蒸発によって処理される。残渣を最
小量の水に溶解し、濃塩酸で酸性にする。 サッカリン(29/29 b )が結晶化する場合にば
、これを濾過する。さもなければ水溶液をジクロルメタ
ンで抽出し、溶媒を蒸発させることによってサッカリン
(29/29b)を得る(方程式多くの5−アミノサッ
カリン(29a)(l−1l:、N。 N−ジメチルホルムアミド中ハロサッカリン(30)を
アミンの存在下及び加圧下に125〜190℃で8〜1
6時間加熱することによって製造することができる。反
応物は上に記述したように処理される。 更にR4がHであるアミノサッカリン(29a)は方程
式(6a)及び(7d)においてアルコキシ及びメルカ
プトサッカリンに対して前述したものと同一の方法でア
ルキル化することができる。アミンサッカリン(29a
)のアミノスルホンアミド(4e)又は(32e)への
転化は方程式(6b及びC)に前述した条件下に行なう
ことができる(方程式7f)。 式(30)の必要とされる前駆体ハロサッカリンは、方
程式4に対して記述したものと同様の方法を用いること
によって対応する4−・・ロー2−二トロ安息香酸を2
−(アミノスルホニル)−4−・・口安息香酸に添加す
ることにより製造することができる。これらのエステル
は6−ベンジロキシサッカリンの製造に対してすでに記
述した一般的方法に従ってDBUで処理することにより
式(30)の対応するサッカリンに転化される。 サッカリン(29/29b)は方程式6bにおける(2
3)の(4a)への転化に対してすでに記述した条件を
用いて、同様に対応するスルホンアミド(4b/4 a
)へ開環される。 他に、サッカリン(29/29a)は方程式6bにおけ
る(23)の(4a)への転化に対してすでに記述した
条件を用いてスルホンアミド(32/32a)へ開環し
うる(方程式7g)。チオール(32)又はアニリン(
32a)は、続いて方程式6dにおける(24)の(4
a)への転化に対してすでに記述した方法を用いて(4
b/4e)へ転化される(方程式式(4b) (R1及
びR2は前述の通り)の多くのスルホンアミドは実施例
9〜16においてR,=R4=CH3に対して記述した
ものと同様の合成経路によっても製造することができる
。 式(4C)のスルホンアミドは方程式8に示す方法によ
って製造しつる。 方程式8 %式%) R7 (4C)又は(4” 、R?=R5) (i) (4C′、R,=S iMe 2−t−Bu )(4c
、R,=SiMe2−t−Bu)〔式中、R1け前述の
通りであり;R5はアルキル、ハロアルキル、アルケニ
ル、ハロアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル又は
CH2C(0)NRaR,であり;Ra及びRbは前述
の通りであり;W、はO又はSであり;M2はNa又は
Kであり;RoはHXC,〜C4アルキル、C1〜C4
ハロアルキル、C2〜C4シクロアルキル、シクロプロ
ピルメチル、C1〜C4アルケニル、C3〜C4ハロア
ルケニ/l/、C,〜C4アルキニル、C3〜C4ハロ
アルキニル、02〜C4フルコキシアルキル、又はC7
〜C4アミノアルキルであり;そしてR2はW、R,で
置換されだC8〜C4アルキルである〕。 出発物質のニトロベンゼン(33)は技術的に公知であ
り、或いは技術的に公知の多くの方法によって製造しう
る。これらの方法のいくつかは、適当なハライドのジフ
ェニルキュプレートとの反応〔例えば、W、G、ダウベ
ン(Dauben)編、オーガニック・リアクションズ
(Organic Reacti−ons )、22巻
(Wfley社、New YOr k )、1975年
のG、 H,ボスナー(Posner)、「サブステイ
チューション・リアクションズ・ユージング・オーガノ
ーカッパー・リエージエンツ(Substitutio
n Reactions UsingOrgano−C
opper Reagents) を参照〕カら得ら
れるカップリング生成物のニトロ化〔例えば、G、ヒル
ゲタグ(Hilgetag)、A、?−チ=(Mart
ini)編、プレパラテイプ・オーガニック・ケミスト
リー(Preparative Organic
Che−mistry) (Wfley−Inters
cience社、NewYork)、1972年のG、
L/−77(Lehrnann)、H,フイヒ?7(
Eichmann)、[フォーメーション・オブ・カー
ボンーナイトロジエン・ポンド(For−mation
of Carbon−Nitrogen Bonds
)Jを参照〕を含む。 他の方法は、適当な酸・・ライド又は無水物を用いるベ
ンゼンのフリーデル−クラ7ツ・アンル化〔例えば、G
、 A、 、t ツー(01ah )、フリーデル−ク
ラフッ・アンド・リレイテツド・リアクションズ(Fr
idel−Crafts and Re1ated R
ea−cttons)、第1−IV巻(Wiley−I
nterscie−nce社、New Yo rk )
、1963〜1965)、続くカルボニル酸化の遺元的
除去〔例えば、C。 ヒショツ7 (Bischoff )、P、−G、デイ
ートリツヒ(Dietrich)、E、ヘット(H’o
’ f t )、D、ムo ウスキー(Mu r □w
s k i )、 [フォーメーション・オブ・カーボ
ン・ハイドロジエン・ボンダ(F□ rme −tio
n of Carbon−Hydrogen Bond
s)、G。 ヒルゲタグ(Hi Ige tag )、A、 −r−
f= (Marti−ni)編、プレパラテイプ・オー
ガニック・ケミスト リ − (Wiley−Inte
rsience 、New York)、1972
年〕、及び続くニトロ化である。 更に他の方法は、G、 A、ポスウx ル(B□ sw
e 11 )、Jr、、 W、 C,リプ、17 (R
ipka)、RoM、 スクリプナ−(Scribne
r)、C,W、 7 # Oツク(Tullrock)
、「フルオリネーション・パイ・サルファー・テトラフ
ルオリド、(Flu□rinatfon by 5ul
ferTetrafluoride)J及びC,M、シ
ャーン(Sharts)、W、 A、 シxバード(S
he ppard )、[モダン・メソツズ・ツー・フ
リペア・モノフルオルアリファテイツク・コンパウンダ
(ModernMethods to Prepar
e Monofluoroali−phatic Co
mpounds)J、W、G、ダウベン(Dauben
)i、オーガニック・リアクションズ、21巻(Wil
e:7社、New York)、1974年〕に参照さ
れている条件を用いることにより、適当な4−ニトロベ
ンジルアルコール、アルデヒド又はケトンをそのモノ又
はジフルオルアルキル同族体へ転化することを含む。 ニトロベンゼン(33)は方程式4dにおける(12)
の(13)への転化に対してすでに記述した条件を用い
てアニリン(34)に還元される。 次いで適当な溶媒中アニリン(34)を少くとも1当量
の無水酢酸で処理し、還流下に8〜24時間加熱する。 この反応混合物を冷却し、そしてアセトアニリド(35
)が結晶化するならばこれを集め、乾燥する。結晶化し
ない場合にはIN塩酸及び炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。溶媒を蒸
発させることによりアセトアニリド(35)を得る(方
程式3b)。 次イテG、レーマン及びH,タイヒマン(上m)による
一般的な条件を用いることによりニトロアセトアニリド
(36)を製造する(方程式8c)。 固体のすべてが溶解するまでIN塩酸中のアセトアニリ
ド(36)のスラリーを加熱する。次いでこの溶液を炭
酸水素ナトリウムで僅かに塩基性とし、ジクロルメタン
で抽出する。このジクロルメタン抽出物を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。溶媒の蒸発によりアニリン(3
7)を得る (方程式8R1に含まれる置換基の多くは
、置換基W、R6を配置すべき位置において置換しうる
ハロゲン原子を含むR3置換基を有するアニリン(37
)から製造される。斯くして適当な溶媒例えばN 、
N−ジメチルホルムアミド中ハライド(37)を1当量
よりも少し多い適当なナトリウム又はカリウム塩(38
)で処理する。 この混合物を20〜100℃に1〜8時間保つ。 次いで溶媒を蒸発させ、残渣を水及びジクロルメタン間
に分配させる。このジクロルメタン溶液を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。蒸発により所望の化合物(39
)を得る(方程式8e)。 次いでアニリン(39/37 )をジアゾ化し、そしテ
G、 T、 モー カン(IVIOrgan )及びE
、 A、クールソン(Coulson)、ジャーナル・
オブ・ケミ力k ・ソ+イエティー (J、 Chem
、Soc、 )、1929.2551に従ってサンドマ
イヤー反応に供し、ニトリル(40/40a)を得る(
方程式8f)。 更に75〜80%水性硫酸中ニトリル(40/40a)
の懸濁液を95〜100℃に2〜5時間加熱する。次い
で1〜2時間にわたり巨つ80〜100℃の温度におい
て、1.5〜2.5当喰の亜硝酸ナトリウムを少量ずつ
添加する。加熱を0.5〜1時間続け、次いで混合物を
冷却し、過剰の氷上に注ぐ。カルボン酸(41/41
a )が結晶化する場合には、これを集め、氷水でゆす
ぎ、そして乾燥する。結晶化しない場合には、水性混合
物をジクロルメタンで抽出する。このジクロルメタン溶
液を10イ炭酸ナトリウム水溶液で抽出する。 水性抽出物を濃塩酸で酸性にする。この時カルボン酸(
41/41a)が結晶化するならば、これを集め、氷水
でゆすき゛、乾燥する。結晶化しない場合には水溶液を
エーテルで抽出する。このエーテル抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濾過する。溶媒を蒸発させることによ
りカルボン酸(41/41 a )を得る(方程式8g
)。 前述した方法を用いることにより、カルボン酸(41)
はスルホンアミド(4C)に転化でき、同様に(41a
)は(4c’)を生成する(方程式Bh)。 スルホンアミド(4C)のR7置換基が方程式8gに記
述した強酸性条件に適合しない場合には、別の経路を使
用する。 R1がClXBr又は■で置換された01〜C4アルキ
ルである式(4C’)のスルホンアミドを、適当な溶媒
例えばアセトニドl)ル中において穏和な塩基例えばピ
リジンの存在下及び15〜25℃下に1当量のtert
−ブチルジメチルシリルクロライドで1〜8時間処理す
る。反応が薄層クロマトグラフィーで完結したと判断さ
れるならば、混合物を氷水上に注ぐ。シリルスルホンア
ミドが結晶化するならばこれを集め、水でゆすぎ、乾燥
する。 結晶化しないならば、水溶液をエーテルで抽出する。こ
のエーテル抽出物を乾燥し、濃縮し、(4Q’>のシリ
ルスルホンアミドを得る(方程式81)。 (4C’)のシリルスルホンアミドの、DMFのような
溶媒中の攪拌溶液を少くとも1尚量の(38)で0〜8
0℃下に1〜8時間処理する。反応が薄層クロマトグラ
フィーで完結したと判断されるならば、混合物を氷水上
に注ぎ、反応物を前述のように処理する(方程式8j)
。 次いで(4C)のシリルスルホンアミドは、テトラ−n
−プチルアンモニウムフルオリドを1゜8−ジアザビシ
クロ〔5・4・0〕 ウンデク−7−二ン(DBU)の
代りに塩基として用いることを除いて方程式3に記述し
たものと同一の条件を用いることにより、スルホニル尿
素(1)に直接転化することができる。 R7がスルフィニル又はスルホニル基である式(4)の
スルホンアミドは、方程式9における式(4dX n=
1)のスルフィニルスルホンアミド及ヒ式(4d、n=
2)のスルホニルスルホンアミドの製造に対して記述さ
れるものと同様の方法を用いて、対応するメルカプトス
ルホンアミドを過酸酸化することにより製造することが
できる。 例jハ式(4dXn = 1 )のスルフィニルスルホ
ンアミド及び式(4dX n=2)のスルホニルスルホ
ンアミドは方程式9に示す如き対応するチオスルホンア
ミドから製造することができる:方程式9 〔式中、RI及びR4は前述の通りであり、但しR4は
アルキルチオアルキル又ハノ10アルキルチオアルキル
ではなく、そしてnば1又は2である〕。 式(4dX n=1 )のスルフィニルスルホンアミド
を製造するためには、不活性な溶媒例えばジクロルメタ
ン及びテトラヒドロフランの混合物中の適当なチオスル
ホンアミド(4b)の攪拌溶液に、不活性な溶媒例えば
ジクロルメタン中1当量の過酸例えば3−クロルパーオ
キシ安息香酸を0〜5℃で添加する。次いでこの混合物
を20〜40℃に暖める。薄層クロマトグラフィーによ
りスルホンアミド(4b)が酸化されたことを確認した
ならば、混合物を順次59イ亜硫酸ナトリウム水溶液、
飽和炭酸水素すl−IJウム水溶液、水、及び食塩水で
洗浄し、乾燥(MgS04)する。次いで溶媒を蒸発さ
せることにより式(4dX n=1)のスルフィニルス
ルホンアミドラ得る。 式(4dX n=2)のスルホニルスルホンアミドを製
造するためには、1〜5モル%のラジカル禁止剤例えば
4,4−チオビス(6−tert−ブチル−m−クレゾ
ール)を含有する不活性な溶媒例えば1,2−ジクロル
エタン中の適当なチオスルホンアミド(=l b ’)
の攪拌混合物に、不活性な溶媒例えば1,2−ジクロル
エタン中の2当量より多い(R4がアルケニル又はアル
キニルの時には2当量の)過酸例えば3−クロルパーオ
キシ安息香酸の溶液を添加する。この混合物を50〜8
0℃に加熱する。薄層クロマトグラフィーがチオスルホ
ンアミド(4b)及び中間体のスルフィニルスルホンア
ミド(4dX n=1)の消費されたことを示したなら
ば混合物を冷却し、テトラヒドロフランで希釈してスル
ホンアミドを溶解させておく。 次いでスルフィニルスルホンアミ)’(、ld、n=1
)の製造に対してすでに記述したものと同一・の処理方
法を用いることにより、式(4d、n=2)のスルホニ
ルスルホンアミドを得る。 R1がアルキルチオアルキル又はノ\ロアルキルチオア
ルキルであり且つnが1又は2である式(4d)のスル
ホンアミドは、アルキルチオアルキル又ハハロアルキル
チオアルキル基を配置する位置に置換しうる・・ロゲン
原子を有する、R4モノ・・ロアルキル置換基をもつ式
(4d)の同族体スルホンアミドから製造することがで
きる。これらのモノハロアルキルスルホンアミドは先ず
第一に6−ベンジロキシサッカリンの製造に対して前述
したようにDBUを用いて対応するサッカリンに転化さ
れる。次いで・・ロゲン原子を、方程式8におけるハラ
イド(37)のチオエーテル(39)への転化に対して
前述した置換の条件を用いて適当なアルキルチオ又はハ
ロアルキルチオ基に置換スる。 適当なハロアルキルチオレート試薬が自己縮合に不安定
であるならば、対応するヒドロキシ−、カルボニル−1
及ヒ/又はカルボキシ含有アルキルチオレートが使用で
きる。チオエーテル橋の生成後、これらの含酸素基は技
術的に公知の多くの方法を用いて所望のハロゲン置換形
に添加することができる。最後に、方程式6bにおける
(23)から(4a)への転化に対してすでに記述した
方法により、サッカリンをR4がアルキルチオアルキル
又ハハロアルキルチオアルキルであり且つnが1又は2
である式(4d)の所望のスルホンアミドに開環する。 式(4e)のアミノスルホンアミドは方程式9.1に示
すように且つ下に議論する如く製造される。 方程式9.1 (41,2) (4e) 〔式中、R1及びX2は前述した通りであり、Rb′は
H又はアルキルであり、そしてR(′はH1アルキル、
又は・・ロアルキルである〕。 多くの場合、式(41,2)のアミンサッカリンは式(
30)のハロサッカリンを、公知の実験条件の1つ又は
それ以上を用いて1当量又はそれ以上の式(41,1)
の対応するアミン誘導体で処理することにより製造され
る。いくつかの場合、反応はアミン誘導体(41,1)
の過剰量を唯一の溶媒として用い、混合物を大気圧下に
或いはアミン誘導体の沸点、が必要とさせるならば過圧
下に30〜200℃まで加熱することによって行なうこ
とができる。他の場合には、極性の不活性な溶媒、例え
ばN、N−ジメチルホルムアミドを用いることが有利で
ある。アミン誘導体それ自体が製造しにくい或いは費用
がかかる場合、反応混合物に少くとも1当量の他の塩基
例えばトリエチルアミン、N、N−ジイソプロピル−N
−エチルアミン、ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデ
ク−7−オン、水素化ナトリウム、又はn−ブチルリチ
ウムが添加されるならば、アミン誘導体の使用量は1当
量より少し多めまで減することができる。更にアミン誘
導体を脱プロトンしつる非常に強塩基例えばn−ブチル
リチウム又は水素化ナトリウムを少くとも2当量使用す
れば、アミン誘導体の必要量が減るほかにtit換反応
の速度が促進され、技術的に良く知られる如くそれが低
温で進行するようになる。必要とされるアミン誘導体は
公知であり或いは公知の方法で製造しつる。 置換反応が完結した後、溶媒と過剰量のいずれかの揮発
性アミン誘導体(41,1’)を蒸発させ、残渣を5%
水酸化ナトリウム溶液に溶解する。そしてpHが7とな
るまで濃塩酸を添加する。サッカリンが結晶化する場合
にはこれを濾過する。さもなければ水溶液を塩で飽和さ
せ、次いでジクロルメタンで抽出し、そして多くの場合
にはこのジクロルメタンを蒸発させてサッカリン(41
,2)を得る。そうできなければ、水溶液を蒸発乾固し
、残渣をテトラヒドロフランで連続的に抽出する。 次いで溶媒を蒸発させることによりサッカリン(41,
2)を得る(方程式9.1a)。 いくつかの場合、式(41,2)のサッカリンは、アミ
ン基における置換基の少ない式(41,2)のサッカリ
ンから製造することができる。アニリンアミノ基及びそ
の誘導体のアルキル化に対しては種々の方法が技術的に
公知である。 式(4e)のスルホンアミドを製造するためには、適当
なアルコールR,0H(11)中のサッカリン(41,
2)の溶液又は忍濁液を塩化水素で飽和する。この混合
物を65〜80℃に1〜12時間加熱する。次いで溶媒
と塩化水素を蒸発させる。この残渣を食塩水及び5:1
(容量)ジクロルメタン−テトラヒドロフランの混合物
に溶解する。この激しく攪拌した混合物に、これが塩基
性となるまで炭酸ナトリウムを添加する。ジクロルメタ
ン−テトラヒドロフラン相を分離し、溶媒を蒸発させて
式(4e)のスルホンアミドを得る(方程式9、1 b
)。 スルホニルインシアネート(1)又は(IA)は、次の
2つの一般法の1つに従い、適合するR2 (R2′)
置換基を有する対応するスルホンアミ直4)又は(4A
)から1遺される。 方程式10 %式%() 〔式中、R1及びR2(R2’)は前述の通りである〕
。 キシレン又は他の135℃以上で沸とうする溶媒中のス
ルホンアミド(4)又は(4A)及びアルキルイソシア
ネート(例えばn−ブチルイソシアネート )を触媒量
の1,4−ジアザ〔2・2・2〕ビシクロオクタン(D
ABCO)の存在又は不存在下に混合し、135〜14
oc−=で加熱する。5〜10分後、この加熱した混合
物に温度が133〜135℃のままであるような速度で
ホスゲンをゆっくり添加する。ホスゲンの吸収が止まっ
た時、混合物を冷却し、濾過し、不溶性物質を除去する
。 最後に溶媒、アルキルイソシアネート及び過剰のホスゲ
ンを蒸発させて、スルホニルイソシアネート(1)又は
(IA)を残留させる。 所望によす、アルキルイソシアネート−スルホンアミド
付加物を製造し、ホスゲンとの反応前にこれを単離する
こともできる。この場合には、中性溶媒(例えばアセト
ン、ブタノン又はアセトニトリル)中においてスルホン
アミド(4)又は(4A)、アルキルイソシアネート、
及び無水の塩基(例えばに、 Co3)を混合し、そし
て還流下に1〜6時間加熱する。次いで反応混合物を水
で希釈し、pHを酸(例えばHCIXM2So4) で
約3に調節する。 そして生成物を炉別し、乾燥し、上述の如くホスゲンと
反応させる。この方法の態様は、スルホンアミド(4)
又は(4A)が高融点であり且つホスゲン化溶媒への溶
解度が低い場合に特に有用である。 スルホニルイソシアネート(1)又は(IA)は次の方
法でも製造しうる。 方程式11 〔式中、R1及びL(R#)は前述の通りである〕。 スルホンアミド(4)又は(4A)を過剰量の塩化チオ
ニル中において還流下に加熱する。この反応を、NMR
スペクトルにおいてスルホンアミドのプロトンが最早や
検出されなくなるまで継続する。チオニルアミド(42
)への完全な転化には、典型的には16時間〜5日間で
十分である(方程式11次いで塩化チオニルを蒸発させ
、そして残渣を、少くとも1当量(典型的には2〜3当
量)のホスゲンを含む不活性な溶媒(例えばトルエン)
で処理する。触媒量(典型的には0.1当量)のピリジ
ンを添加し、混合物を約60〜140℃に加熱する。こ
の時80〜100℃が好適である。インシアネート(1
)又は(IA)への転化は普通15分〜3時間以内に実
質的に完了する(方程式1 lb)。 次いで混合物を冷却し、濾過し、溶媒を蒸発させ、スル
ホニルイソシアネート(1)又は(IA)を得る。 下記式(2)の複素環族アミンは、公知であり、本明B
J書に開示され、或いは同業者には明白な方法によって
製造することができる。 2−アミン及び2−メチルアミノピリミジン(2、Z、
=CH)の合成及び反応に対しては、ザ・ケミストリー
・オプ・ヘテロサイクリック・コンパウンダ(The
Chemistry of Heterocy−cli
c Compounds)、16巻(Wi 1 e y
−I n t e −racience社、New Y
ork) (1962)を参照のこと。2−アミノ−及
び2−メチルアミノ−3−トリアジン(2,Z=N)の
合成及び反応に対しては、ザ・ケミストリー・オプ・ヘ
テロサイクリック・コンパウンダ(The Chemi
stry ofHeterocyclic Compo
unds)、第13巻(Wi ley −1nters
c fence 、 New York)(1959)
、F、 C,シx−77−(Schaefer)、米国
特許第3.154.537号、及びF、 C,シエー7
7−及びに、 B、 ハフーrン(Huffman)、
ジャーナル・オプ・オーガニック・ケミストリー、28
.1812(1963)を参照のこと。 いくつかの場合には、式(2)の複素環族化合物は、R
がC1(、の場合よりもHの時に容易に製造しつる。 多くの複素環族化合物(2,R=CH3)は次の2つの
方法の1つ又はそれ以上によって対応する複素環族化合
物(2、R=H)から製造することができる。 方程式12 %式%(43) 〔式中、Aは前述の通りである〕。 この方法の場合には、適当な複素環族化合物(2,R=
H)の、適当な中性溶媒(例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサン、グライム)中溶液又はスラリーを、0〜3
0℃下に2等量の水素化ナトリウムで処理する。気体の
発生が終った後、反応混合物を1当量のジメチルカーボ
ネートで処理し、20〜30℃で8〜24時間攪拌し、
ナトリウム塩(43)の懸濁液とする(方程式12a)
。 (43)を含む反応混合物を少くとも2当量のヨードメ
タンで処理し、次いで60〜80℃で8〜24時間加熱
する。この混合物を冷却し、濾過し、溶媒を蒸発させる
。残渣をジクロルメタン中に入れ、水洗し、そして溶媒
を蒸発させて、N−メチルカーバメート(44、R=C
H3)を得る(方程式カーバメート(44、R=CH,
)を、プロピレンガスで飽和した無水の、アルコールを
含まないクロロホルムに溶解する。1当量よシ僅かに多
い(典型的には1.1〜1.2当量の)ヨード) I)
メチルシランを添加し、この攪拌した溶液を50〜60
℃に2〜4時間加熱する。混合物を冷却し、2当食のメ
タノールを添加する。溶媒を蒸発させ、残渣をメタノー
ル中に入れる。この混合物をメタノール中10%ナトリ
ウムメトキシドで注意深く中和し、次いで溶媒を蒸発さ
せる。次いで残渣を氷水で中和する。沈殿が生成する場
合には、これを戸別し、氷水−でゆすぎ、乾燥して(2
、R=cn3)を得る。沈殿が生成しない場合には、溶
液に塩化す) IJウムを飽和させ、酢酸エチルで中和
する。溶媒の蒸発によシ複素環族化合物(2、R=CH
,)を得る(方程式12C)。 他に多くの場合には次の2段階法が有用である。 方程式13 〔式中、Aは前述の通りである〕。 アミン(2,R=H)の製塩酸中溶液を亜硝酸ナトリウ
ム溶液で処理し、そして酸性溶液の濾過による常法でク
ロル化合物(45)を分離する(方程式13a)。代表
的な方法は、Z=C1(及びx=y==QCH,の事例
に関して、ビー(Bee)及びローズ(Rose)、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエテイー、C0,1
966,2031に記述されている。 次いで複素環族化合物(45)を、適当な不活性な溶媒
(例えばテトラヒドロフラン、グライム又はジグライム
)中の少くとも2当量のメチルアミンで20〜80℃の
温度下に1〜18時間処理する(方程式13b)。そし
て反応混合物を冷却し、濾過する。溶媒の蒸発により、
少量のCH,NH3−C1−塩で汚れた(2 、 R=
CH3)を得る。この生成物は氷水でそしゃくすること
によって或いはジクロルメタンに溶解し、次いで少量の
水で洗浄し、乾燥し、溶媒を蒸発させることによって精
製することができる。更なる精製は再結晶又はシリカゲ
ルでのカラムクロマトグラフィーによって行なう。 下記の式(2a)〜(2C)の複素環族アミンは米国特
許第4.478.635号に教示されている。 (2a) (2b) (20)
いくつかの場合には、式(2)の複素環族化合物は、R
がCH,よりもRがHの時に容易に製造することができ
る。多くの複素環族化合物(2A 、 R=CH,)は
、次の2つの方法の1つ又はそれ以上によって対応する
複素環族化合物(2A、R=H)から製造しうる。 方程式12A (2,R=H) (43)(4
4,R=CH3) (C) (2A、R=Cf(、) この方法では、適当な中性溶媒(例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、グライム)中適轟な複素環族化合物
(2、R=H)の溶液又はスラリーを、0〜30℃下に
2当量の水素化ナトリウムで処理する。気体の発生後、
反応混合物を1当量のジメチルカーボネートで処理し、
20〜30℃で8〜24時間攪拌してナトリウム塩(4
3)の懸濁液を得る(方程式12Aa )。 次いで(43)を含有する反応混合物を少くとも2当量
のヨードメタンで処理し、60〜80℃に8〜24時間
加熱する。この残渣をジクロルメタンに捕捉させ、水洗
し、溶媒を蒸発させ、N−メチルカーバメー) (44
、R=C)(、)を得る(方程式12Ab )。 カーバメート(44,R=C)I、)を、プロピレンガ
スで飽和した無水の、アルコールを含まないクロロホル
ムに溶解する。1当量より僅かに多い(特ニ1.1〜1
.2当量の)ヨードトリメチルシランを添加し、攪拌し
た溶液を50〜60℃に2〜4時間加熱する。次いで混
合物を冷却し、2当量のメタノールを添加する。溶媒を
蒸発させ、残渣をメタノール中に入れる。混合物をメタ
ノール中10%ナトリウムメトキシドで注意深く中和し
、次いで溶媒を蒸発させる。この残渣を氷水でそしゃく
する。沈殿が生成する場合にはこれを戸別し、氷水でゆ
すぎ、乾燥して(2A 、 R=CH3)を得る。沈殿
が生成しない場合には、溶液を塩化すl−IJウムで飽
オロさせ、酢酸エチルで抽出する。溶媒の蒸発後に複素
環族化合物(2A 、 R=CH3)を得る(方和式1
2AC)。 他に多くの場合に次の2段階法が有用である。 方程式13A (a) (2A、、R=H) (45’)(b
) (2A、 R=CH,) 〔式中、Aは前述の通りである〕。 アミン(2A、R=H) の績塩酸溶液を亜硝酸ナトリ
ウム溶液で処理し、そして酸性溶液の濾過による常法に
従ってクロル化合物(45)を単離する(方程式13A
a )。代表的な方法はビー及びローズ、ジャーナル・
オブ・ケミカル・ソサイエテイー、C,,1966,2
031に記述されている。 次いで複素環族化合物(45)を、20〜80℃の温度
下に1〜18時間、適当な不活性な溶媒(例えばテトラ
ヒドロフラン、グライム、又はジグライム)中の少くと
も2当量のメチルアミンで処理する(方程式12b)。 この反応混合物を冷却し、濾過する。次いで溶媒の蒸発
により少量のCH,NH4+CI−塩で汚れた(2A、
R=CH,)を得る。 この生成物は氷水でのそしゃくによって、或いはジクロ
ルメタンへの溶解、少量の水での洗浄、乾燥及び溶媒の
蒸発によって精製しうる。再なる精製は再結晶又はシリ
カゲルでのカラムクロマトグラフィーによって行なうこ
とができる。 式(4a)、(4b)、(4d)、及び(4e)のスル
ホンアミドを、式I又は■の化合物の未素橋の構成前に
完全に処理するすでに記述した方法の別法として、式1
a又はllaの多くの化合物は方程式14又は14Aに
記述した方法によって製造することができる。 方程式14 〔式中、R1、XXX′5、Y及びZは前述の通りであ
り;WはS10又はNRbであり;Rbは前述の通りで
あり;R8はC4〜C6シクロアルキルアルキル、C2
〜C6アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、C1〜
C,フルキニル、Cs〜C6ハロアルキニル、C2〜C
IIアルコキシアルキル、C2〜C4ハロアルコキシア
ルキル、C2〜C8アルキルチオアルキル、C7〜C4
ハロアルキルチオアルキル、C2〜C4シアノアルキル
、CM、C(0)−CH,、CH,CH2C(0)CH
3又はC1〜C6アルキルである〕。 この方法においては、アセトニトリル及びN。 N−ジメチルホルムアミドの混合物のような極性溶媒中
の式(46)の適当な化合物の溶液を、2当量の強塩基
例えばナトリウムメトキシド又は触媒量のメタノールを
含む水素化す) IJウムで処理し、続いて1当量より
少し多い適当なアルキル化剤、アルケニル化剤又はアル
キニル化剤(47)で処理する。混合物を2〜24時間
20〜60℃に保つ。 次いで混合物を過剰の塩酸中に注ぐ。式1aの化合物が
結晶化する場合にはこれを濾過する。さもなければ、水
性混合物をジクロルメタンで抽出し、この溶媒を蒸発さ
せて式1a の化合物を得る。式(46)の化合物は順
次方穆式3に対して記述した一般的な方法に従い、式(
4a、 4b又は4c) の適当なスルホンアミドを
式(5,R=H)の適当な複素環族フェニルカーバメー
トとカップリングさせることによって製造される。 R8がアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアル
キル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、ア
ルキニル、ハロアルキニル、アルコキシアルキル、ハロ
アルコキシアルキル、シアノアルキル、−CH2C(0
)C)I3又は−〇)i2CH2C−(0)CH3であ
り、またWが5(0)又は5(0)2である式1aの化
合物の多くは、方程式9における(46)の(4d)へ
の転化
に適当な組成物、及びその一般的又は選択的な発芽前又
は発芽後除菫剤として或いは植物生長調節剤としての使
用法に関する。 望ましくない植物の生長を抑制するのに効果的な新規な
化合物は一定の需要がある。最も普通の状態では、例示
すればワタ、イネ、トウモロコシ、コムギ及びダイズの
ような有用な作物中の雑草の生長を選択的に抑制する化
合物が探し求められている。そのような作物中の阻止さ
れない雑草の生長はかなりの損失、農夫に対する減益、
及び消費者に対する価格の上昇をもたらす。他の状態で
は、すべての植物の生長を抑制する除草剤が所望されて
いる。すべての植物の完全な重線が望ましい区域の例は
、燃料貯蔵タンク、弾薬庫及び工業の貯蔵区域である。 これらの目的には多くの生成物が市販されているが、よ
り効果的な、より安価な、また環境安全の生成物に対す
る探索が続いている。 「スルホニル尿素」除草剤は、一般に2つの芳香族又l
−i′複素環族環を連結するスルホニル尿素橋、−8o
2NHCONH−からなる最近数年内に発見された非
常に有用な種類の除草剤である。 米国特許第4.394.506号は、オルト−アルコキ
シカルボニルベンゼンスルホンアミド例えば〔式中、R
2はHX F、C1,Br、C,〜C,フルキル、NO
2,5O2CH3、OCH,、SCH,、CFs 、N
(CH3)2 、NH2又1tf、、 CN ”’Cア
’) :xif(、ct、 CH,、OCH,,0CH
2CH3又ハ0CH2CH20CH,であり; YはH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C1〜C4置
換アルキル、01〜C,アルコキシなどである〕 を開示している。 南アフリカ国特許願第Fil/4874号は式〔Aはハ
ロゲン又は種々の他の有機置換基で置換さ、tzている
C1〜C6アルキル或いは置換されていてもいなくても
よいC2〜C,アルケニル基であり; Xはo、s、so又はSO2であり: R1はH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,
アルケニル又はYR,であり;R2はH,ハロゲン、C
1〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、CI〜C,
ハロアルキル、Co2R,、YR,、No2又はC0N
R1R8であり、そして R3及びR4は互いに独立に水素、C1〜C4アルキル
、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C
2〜C4ハロアルキル、ハロケン又ハ高々炭素数4のア
ルコキシアルキルである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第8215042号は、式〔式中、
AばC3〜C,アルキニルでアリ;XはoX s、so
又はSO2であり;R1はH1ハロゲン、C、、C、ア
ルキル、C2〜C,アルケニル又はYR,であり、R2
はH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,アル
ケニル、C1〜C4ハロアルキル、Co2R,、YR,
、No2又はCONR7Rsであり、そして R3及びR4は互いに独立に水素、C0〜C4アルキル
、01〜C4アルコキシ、C3〜C4アルキルチオ、C
1〜C4ハロアルキル、01〜C4ハロアルコキシ、ハ
ロケン又は高々炭素数4のアルコキシアルキルでちる〕
の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特杵頌第8215671号は式〔式中、A
は01〜C6アルキル基或いは・・ロゲン又は種々の他
の有機置換基で置換きれているC2〜C,アルケニル基
であり;Xは0、S、SO又はSO□でちり; R1はI(、ハロゲン、C1〜C5アルキル1C2〜C
,アルケニル又はYR,であり;R2はH1ハロゲン、
C1〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、C1〜C
4ハロアルキル、Co2RいYR,、No2又はC0N
R7R,であり;R1は水素、C1〜C4アルキル、C
7〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、01〜
C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシ、ハロゲ
ン又は高々炭素数4のアルコキシアルキルであり;そし
て R4はc、〜C4ハロアルコキシ又ハC,〜C4ハロア
ルキルチオである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 〔式中、R1は水素、・・ロゲン、シアノ、ニトロ、C
8〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル、C1〜C
4アルコキシ、CORいNR7R,、S (0)rn−
C,〜C4アルキル又はSo、R,であり; R2はHXF、ClXBr、No2、CF3、NR7o
R21XC1〜C2R7上ル、C1〜C2アルコキシ又
はS(O)m−C,〜C4アルキルであり; R3はH,FXCIXBr、 NR2、No2 又は
OCH3であり; R6は水素、C8〜C4アルキル、C9〜C。 アルケニロキシ、C3〜C,アルケニロキシ、C1〜C
4ハロアルキル、CI〜C,アルキルチオ、フェノキシ
、ベンジロキシ−NRI ORI 1或いは未置換でも
、1〜3つの・・ロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ
で置換されていてもよい01〜C,アルコキシであり:
R48は水素、C3〜c、アルキル又はC0〜C。 アルコキシであり: mば0.1又は2であり、そして 。 yHc、〜C3アルキル、C1〜C,ハロアルキル、C
1〜C3アルコキシ、C3〜C、/Nロアルコキシ、0
2〜C3アルコキシアルキル、C3〜C,アルキルチオ
、ノ・ロゲン又はNR,6R17である〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第84/2245号は式A
式4 〔式中、AはC1〜C6・・ロアルキルでめり;R,U
水素、ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜C4アルキル
、C1〜C4ハロアルキル、01〜C4アルコキシ、C
0〜C4アルキルチ、t、C,〜C4アルキルスルフィ
ニル、C1〜C4アルキルスルホニル、CORいNR,
R8、C0NR,R,。又は5o2NR,、R,2であ
り:R2は水素、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C1
〜C4アルコキシ、C3〜C4アルキルチオ、C1〜C
4アルキルスルフイニル又i”t、 C+〜C4アルキ
ルスルホニルであり;そしてR3及びR4は互いに独立
にそれぞれ水素、ハロケン、C5〜C4アルキル、C5
〜C,ハロアルキル、C2〜C4ハロアルコキシ、C7
〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオ、C
2〜C4アルコキシアルキル、C1〜C4アルコキシ又
はNR,□R13である〕の除草性スルホンアミドを開
示している。 南アフリカ国特許I!A第84./2722号は式〔式
中、Aは式CR,R7XR8、CR,R,。RII又は
CHR,5CO2R2,の基であり;R+ ij: 水
素、・・ロゲン、ニトロ、シアノ、C,〜C4アルキル
、01〜C47%口アルキル、YR14,C0NR,2
R,5、NR,、R,5,5ONRいR7゜、0SO2
R,7又はCOR18であり;R2は水素、・・ロゲン
、C1〜C4アルキル、C,−C4アルコキシ、C1〜
C4アルキルチオ、C7〜C4アルキルスルフイニル又
tIic、〜C4アルキルスルホニルテロ!l); R3及びR4は互いに独立にそれぞれ水素、ハロゲン、
C0〜C4アルキル、C1〜C4ノ・ロアルキル、C1
〜C4アルコキシ、CI〜C4ハロアルコキシ、C,、
C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオ、C7
〜C,7A/コキシアルキル又はNR,。R2゜であり
;R9は水素、ハロゲン、C3〜C4アルキル、C0〜
C,アルコキシ、01〜C4アルキルチオ、C1〜C4
アルキルスルフイニル又’ti C+〜C4アルキルス
ルホニルテアリ; RIoは水素、ハロゲン又はメチルでアリ:R,1は基
C0R2,或いは基シアン、ニトロ、ヒドロキシル、0
1〜C4アルコキシ、C8〜C4アルキルチオなどから
選択される置換基でモノ又はボIJ f換されているC
8〜C,アルキル基であり; R,@dHXC,,C4アルコキシ及び種々の他の有機
基である〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許M第8310441号は、式〔式中、
R,はHl・・ロゲン、No、、C,〜C4ハロアルキ
ル、C3〜C,フルキル、C2〜C4アルコキシ、02
〜C,アルケニル又はCI〜C4アルコキシカルボニル
でろり:R2は未置換でも、1〜3つの・・ロゲン原子
で置換されていてもよいC1〜C,アルキル又はC、、
C、アルコキシであり; R3は・・ロゲン、H,NR4R,、未置換でも、1〜
3つの・・ロゲン原子又はC7〜C4アルコキシで置換
されていてもよいC1〜C3アルキルであり、或いは未
置換でも、メトキシ、エトキシ又は1〜3の)・ロゲン
原子で置換されていてもよいC1〜C,アルコキシであ
り; Aは未置換でも、C7〜C4アルキルで置換されていて
もよいC1〜C,アルキレン又はC2〜C4アルキレン
であり; mは0又は1であり; EはN又はCI(であり; Xは酸素、硫黄、SO又はSO2であり;そして Qは一部0HXCN、 NR,R,,5o2R,、シク
ロアルキル又はCOC、〜C,アルキルである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許83/3779号は式〔式中、AはC
=CRであり; mは1又は2であり; EはCH又はNであり; 2は酸素又は硫黄であり: Rは一部f(、C,、C,アルキル又は01〜C,ハロ
アルキルであり; R,はH,・・ロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C
,アルケニル又はYR,であり;R2はHl・・ロゲン
、C7〜C,アルキル、C2〜C,アルケニル、C1〜
C4ハロアルキル、YR,、C02R0、N02又はC
0NR,R,でちリ: R3及びR4は互いに独立にそれぞれ)l、 C。 〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C7〜C4ア
ルキル−y−オ、c、〜C4J10アルキル、C1〜C
4ノ八ロアルコキシ、01〜04ノ\ロアルキルチオ、
ハロゲン、02〜C,アルコキシアルキル、NR,R,
。又は0CH2Cf(2NR,+R1oである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第8277439号は式〔式中、A
はC3〜C,アルキニル基、・・ロゲンで置換されたC
1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキシ、C0〜C
,アルキルチオ、C5〜C4アルキルスルフイニル、C
I+−7C4アルキルスルホニル C、−+ C、/%
ロアルコキシ、C1〜C4)10アルキルチオ、C8〜
C4ノ・ロアルキルスルフイニル、又はC7〜C4ハロ
アルキルスルホニルであり、或いはそれは上記1〃換基
の1つで置換されたC2〜C6アルケニル基であり; Xは0.5XSO又はSO2であり; R,ij水素、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜
C5アルケニル又はYR,基であり;R2は水素、・・
ロゲン、C1〜C,アルキル、C2〜C,フルケニル、
C,、C,ハロアルキル、YR,、CO2R7、NO□
又はC0NR8R0であり: R3は水素、01〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C,、C4アルキルチオ、C8〜C4ハロアルキル
、C3〜C4ハロアルコキン、ハロゲン又は高々炭素数
4のアルコキシアルキルであり; R4は水素、メチル又はエチルであり;R3は水素、C
,、C4アルキル、C5〜C3アルコキシ、メトキシメ
チル、シアノメチル又はシアノエチルでアリ; Ro及びR7はそれぞれC3〜C,アルキル、C2>
C、アルケニル又はC2〜C,アルキニルである〕 の除草性スルホンアミドを開示している。 南アフリカ国特許願第83/6449号(スイス国優先
権、1982年1月9日)は式〔式中、R1はHl・・
ロゲン、NO2、アミノ、C5〜C9フルキル、C7〜
C4ハロアルキル或いはQR7、Co2R,又は(Co
)nNRQR,。 であり: R2はH,C,〜C4アルキル、C0〜C4アルコキシ
、C1〜C4アルキルチオ、01〜C4ハロアルキル、
C1〜C4ハロアルコキシ、ハロゲン又は高々炭素数4
のアルコキシアルキルであり; R3は1つ又はそれ以上の弗素又は臭素原子で或いは1
つ又はそれ以上のヒドロキシル、シアン、ニトロ、(Y
)mCO(Z)nRい5O2NR,、R,□、5(o)
pc、、c、ハロアルキル又は5(O)nC,〜C,C
4アルキル基換され巨つ更に1つ又はそれ以上の塩素原
子で置換されていてもよいC2〜C1oアルケニルであ
り: R4は01〜C3アルキル、C1〜C3ハロアルキ/1
7、c、〜C3アルコキシ又はC1〜C3ハロアルコキ
シであり; R1ばH,/・ロゲン、NR13R14、C1〜C3ア
ルキル、C3〜C3ハロアルキル、C1〜C3アルコキ
シ又はC1〜C2ハロアルコキシであり;そして EはCH又はNである〕 の除草性ベンゼンスルホンアミドを開示している。 しかしながら農業産物に対してより効果的且つより選択
的である除草剤の発見の必要性は継続している。 本発明は、構造式 〔式中、RはH又はCH3であり; R1は01〜C8アルキル、C3〜C4アルコキシアル
キル、C2〜C,ハロアルキル、C5〜C4アルケニル
又はC5〜C4アルキニルであり; R2ばC2〜C6アルコキシ、03〜C6シクロアルコ
キシ、C4〜C,シクロアルキルアルコキシ、C1〜C
6ハロアルコキシ、C2〜C。 アルケニロキシ、C2〜C6/\ロアルケニロキシ、C
1〜C,アルケニロキシ、C3〜C6ハロアルキニロキ
シ、C2〜C,フルコキシアルコキシ、C2〜C4ハロ
アルコキシアルコキシ、02〜C4アルキルチオアルコ
キシ、02〜C4ハロアルキルチオアルコキシ、C2〜
C,フルキルスルフィニルアルコキシ、C2〜C4ハロ
アルキルスルフイニルアルコキシ、C2〜C4フルキル
スルホニルアルコキシ、C2〜C4ハロアルキルスルホ
ニルアルコキシ、C2〜C4シアノアルコキシ、OCH
2C(0)CM、、OCH,CH2C(0)CH,、C
2〜C4アミノアルコキシ、01〜C6アルキルチオ、
C3〜C,シフコアルキルチオ、04〜C,シクロアル
キルアルキルチオ、01〜C,ハロアルキルチオ、C2
〜C,アルケニルチオ、C2〜C6ハロアルケニルチオ
、C3〜C,フルキニルチオ、C5〜C,ハロアルキニ
ルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、C2〜C
4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C4アルキルチ
オアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキルチオアルキル
チオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、SCH,C(0
) CH3、SCH,CH,C(0)CH,、C,〜C
4アミノアルキルチオ、SCH,SCH,C,H,、C
,〜C8アルキルスルフィニル、C3〜C6シクロアル
キルスルフイニル、C4〜C,シクロアルキルアルキル
スルフィニル、C7〜C,ハロアルキルスルフィニル、
C2〜Cs 7 /I/ ’rニルスルフィニル、C2
〜C6ハロアルケニルスルフイニル、C3〜C,フルキ
ニルスルフイニル、C3〜C6ハロアルキニルスルフイ
ニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルフイニル、C
2〜C4ハロアルコ千シアルキルス、ルフィニル、C2
〜C4ンアノアルキルスルフイニル、5(0)CH2C
(0)CH8,5(0)CH2CH2C(0)CH3、
c2〜C4アミノアルキルスルフィニル、02〜C8フ
ルキルスルホニル、C1〜C,シクロアルキルスルホニ
ル、04〜C6シクロアルキルアルキ/L/スルホニル
、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C2〜C6アル
ケニルスルホニル、C2〜C,ハロアルケニルスルホニ
ル、C5〜C。 アルキニルスルホニル、C3〜C,ハロアルキニルスル
ホニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルホニル、C
2〜C4ハロアルコキシアルキルスルホニル、C2〜C
4ンアノアルキルスルホニル、5o2C)H2C(0)
CH3、So、CH2CH,C(0)CH3、C,〜C
4アミノアルキルスルホニル、CH2FXCHF2、C
H2Cl。 CHC12、CH,BrXCHBr、、1〜3つのFl
Cl又はBrの原子で置換されたC2〜C,アルキル、
C2〜C,アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、C
ミCH,C2〜C6ハロアルキニル、oc(o)c、〜
C4アルキル、CH2C−(0)NRaRbXNHCH
3、NRbRc或いはC1〜C4フルコキシ、C3〜C
4シクロアルコキシ、シクロプロピルメトキシ、C1〜
C4ハロアルフキシ、C2〜C4アルケニロキシ、C2
〜C4ハロアルケニロキシ、C3〜C4アルキニロキシ
、C5〜C,ハロアルキニルチオ、C2〜C4アルコキ
シアルコキシ、C2〜C4アミノアルコキシ、C1〜C
4アルキルカルボニロキシ、CI〜C4ハロアルキルカ
ルボニロキシ、CI〜C4カルパモイロキシ、C8〜C
4アルコキシカルボニロキシ、0)f。 op(o)(oc、〜C,Clキル)2、CI〜C4ア
ルキルスルホニロキシ、C3〜C2ハo 7 /l/
キルスルホニロキシ、08i(CH3)3.08i(C
H,)2C(CH,)、、C,〜C4アルキルチオ、C
1〜C4シクロアルキルチオ、シクロプロピルメチルチ
オ、C7〜C4ハロアルキルチオ、C2〜C4アルケニ
ルチオ、C2〜C4ハロアルケニルr−オ、C8〜C,
7#キニルチオ、C3〜C4ハロアルキニルチオ、C2
〜C4アルコキシアルキルチオ、C2〜C,アミノアル
キルチオ、SH,5P(0)−(OC,−C2フル#ル
)2. C,−C47に*にスルフィニル、C8〜C4
シクロアルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスル
フィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフイニル、C7
〜C4アルケニルスルフイニル、C6〜C4ハロアルケ
ニルスルフイニル、C5〜C4アルキニルスルフイニル
、C3〜C4ハロアルキニルスルフイニル、C2〜C4
フルコキシアルキルスルフイニル、C2〜C4アミノア
ルキルスルフイニル、C8〜C4アルキルスルホニル、
C3〜C4シクロアルキルスルホニル、シクロフロヒル
メチルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル
、C2〜C,フルケニルスルホニル、C2〜C4ハロア
ルケニルスルホニル、C3〜C4アルキニルスルホニル
、C8〜C4ハロアルキニルスルホニル、C2〜C4ア
ルコキシアルキルスルホニル又ケC2〜C4アミノアル
キルスルホニルで置換されたC1〜C4アルキルであり
; R2’ u C+〜C3アルキル、シクロプロピル、C
1〜C3アルコキシ、01〜C3アルキルチオ、C1〜
C,アルキルスルフィニル、す〜C,Clキルスルホニ
ル、アリロキシ、アリルチオ、アリルスルフィニル、ア
リルスルホニル、プロパーギルチオ、プロパーギルチオ
、フロバーキルスルフィニル、フロパーキルスルホニル
、C2〜C,ハロアルコキシ、1〜3つのF又はCIの
原子で置換された01〜C3アルキル、C1〜C2アル
コキシ、01〜C2ハロアルコキシ、C3〜C2アルキ
ルチオ、Cl−02ハロアルキルチオ、C7〜C,フル
キルスルフィニル、C3〜C。 ハロアルキルスルフィニル、C1〜C,フルキルスルホ
ニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、OH又はo
c(o)c、〜C2アルキルで置換されたC7〜C2ア
ルキル、C1〜C27/l/ =r *シ、C7〜C2
ハロアルコキシ、C1〜C2アルキルチオ、CI〜C2
ハロアルキルチオ、C8〜C2アルキルスルフイニル、
C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C1〜C2アルキ
ルスルホニル、C2〜C2ハロアルキルスルホニル又は
CNで置換されたC1〜C2アルコキシ、0CH2CH
2NH2、OCH,CH2−NHCH3,0C)12C
H2N(C)I3)2、C,〜C2アルコキシ、C1〜
C2ハロアルコキシ、CI〜C,フルキルチオ、Cl−
5−02ハロアルキルチオ又はCNで置換されたC、、
C2アルキルチオ、CI〜C,ハロアルキルチオ、C1
〜C,ハロアルキルスルフィニル、C1〜C3ハロアル
キルスルホニル、C2〜Cs 7 /l/ ケニル、C
==CH,NRbノRe’或いは0C(O)C0〜C2
アルキルであり;Ra及びRbは独立にH又はC3〜C
,アルキルであり;町はC2〜C4アルキル、シクロプ
ロピルメチル、02〜C4シアノアルキル、CH2C−
(0)CH3、CH2CH2C(0)CH3、C1〜C
4/、ロアルキル、C5〜C4アルケニル、C3〜C4
ハロアルケニル、C3〜C4アルキニル、C3〜C4ハ
ロアルキニル、C2〜C,フルコキシ、C,〜C4アル
キルチオ、C8〜C4アルキルスルフイニル、C8〜C
4アルキルスルホニル、0HXNH,、NHCH3又社
N (CHM ) 2で置換されたC1〜C4アルキル
でアリ;Rb′はH又はC1〜C2アルキルであり;R
c tはHXC,〜C2アルキル又はC、、C2ハロア
ルキルであり; Y/はCH,、OCH,又は0CF2Hであり;XはC
H,、OCH,,0C2H3、C1又はBrであり; YはC8〜C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、0C
H2Cf(2F、0CH2CHF2、OCH,−CF8
、NHCH,又はN(CH3)2であり;そして 2はCH又はNであり、但し 1) XがCI又はBrノとき、2はCHであり巨つ
YはC1〜C2アルコキシ、NHCH3又はN(CH3
)2であり;そして 2) R2がSCH,のとき、RはHであり、R1はC
H,であり、XはOCH,であり、YはOCH3であり
、そして2はCHである〕ある種の化合物に関する。 上記定義において、単独で或いは「アルキルチオ」又は
「ハロアルキル」のような連語で使用される「アルキル
」とは、直鎖又は分岐鎖アルキル、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、インプロピル又は異なるブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチル異性体基を示
す。 アルコキシはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ及び異なるブトキシ、ペントキシ又はヘキ
シニル異性体基を示す。 アルケニルは直鎖又は分岐鎖の、例えばビニル、1−7
’ロペニル、2−7”ロベニル、、 3−7’ロペニ
ル、及ヒ異なるブテニル、ペンテニル及びヘキセニル異
性体基を示す。 アルキニルは直鎖又は分岐鎖アルキン、例えばエチニル
、1−7’ロビニル、2−7’ロピニル及ヒ異なるブチ
ニル、ペンチニル及びヘキシニル異性体基を示す。 シクロアルキルはシクロプロピル、シクロ7”チル、シ
クロペンチル及びシクロアキルヲ示ス。 C3〜C8シクロアルキルアルキルはシクロプロピルメ
チル−シクロプロピルプロピル又はシクロペンチルメチ
ルを意味する。 単独で或いは「・・ロアルキル」のような連語で使用さ
れる「ハロゲン」は弗素、塩素、臭素又はヨウ素を示す
。更に「・・ロアルキル」のような連語で用いる場合、
該アルキルは同一の又は異なる・・ロゲン原子で部分的
に又は完全に置換されていてもよい。ハロアルキルの例
はCH2CH,FXCF、−CF2及びCH,CHFC
lを含む。 置換基における炭素数の全数は前置語Ci%Cj(但し
i及びjは1〜8の数)で示される。例えrd C+〜
C3アルキルスルホニルはメチルスルホニル〜プロピル
スルホニルを示し、C2アルコキシアルコキシは0CH
20CH3を示す。C4アルコキシアルコキシは第2の
アルコキシで置換されたアルコキシ、の、全炭素数4の
種々の異性体基を示し、例えば0CI−I20CH2C
H2CH,及び0CH2C1(,0CR2−CH,を含
む。C2シアノアルキルはCH,CNを示し、またC3
シアノアルキルはCH2CH2CN及びCH−(CN)
CH3全3ヲ示C4アミノアルコキシはアミン、アルキ
ルアミノ又はジアルキルアミノ基で置換されたアルコキ
シ基の、全炭素数が4の種々の異性体基を示し、例えば
OCH,CH2CH2CH2NH,及び ′0CH2C
H2N(CH,) 2を含む。更なる例としてCH−(
HXC,、C,アルキル)OC1〜C2アルキルはC0
〜C2アルコキシ基で置換された及び随時アルキル基で
置換されたメチル基の種々の異性体基を示し、例えばC
H20CH5及びCf((CH2CH2CH8) −O
CH,CH8を含む。 高除草活性、大きい植物生長調節活性及び/又はより好
ましい合成の容易さのために好適である本発明の化合物
は以下の通りである: 1) R2がC2〜C6アルコキシ、C1〜C。 アルキルチオ、C1〜C,アルキルスルフィニル、C2
〜Csアルキルスルホニル、C3〜C6アルケニロキシ
、C8〜C6アルキニロキシ、C3〜C,アルケニルチ
オ、C5〜C6アルケニルスルフイニル、C3〜C,ア
ルケニルスルホニル、C5〜C6アルキニルチオ、C8
〜C6アルキニルスルフイニル、C3〜C,フルキニル
スルホニル、0CH2CH,OCH3,0CH2CH,
−8C)(、,0CHtCH,5(0)CH,、QC)
I2CH,So、 −CH,,1〜3つのFXCl又は
Br C7)原子で置換されたC2〜C6アルキル、
CH,F 。 CHF2、C1〜C2アルコキシ、C1〜C2アルキル
チオ、C,〜C2アルキルスルフィニル又rd、 C+
〜C2アルキルスルホニルで11換さレタc、〜C4ア
ルキル、0CF2H,OCH,CH2F、 OCH,−
CHF、、OCH2CF、、0CH2CH2C1、S−
シクロヘキシル、SC,H,或いは5CH2C,I(。 である、 弐Iの化合物。 2) R2がCH,5XC3〜C6アルケニロキシ、C
1〜C6アルキニロキシ、C5〜C6アルケニルチオ、
C3〜C6アルケニルスルフイニル、C5〜C6フルケ
ニルスルホニル、C1〜C,フルキニルチオ、03〜C
6アルキニルスルフイニル、C3〜C,フルキニルスル
ホニル、1〜3つのF、C1又はBrで置換されたC2
〜C6アルキル、非ベンジル位が01〜C2アルコキシ
、CI〜C2アルキルチオ、C0〜C2アルキルスルフ
イニル又はC5〜C,アルキルスルホニルで置換された
C1〜C4アルキル、0C)(、−Cf(20Cf(5
,0CH2CH2SCH,、OCH,CH25−(0)
CH,,0CH2CH2So、CH3,0CF2H。 0CH2CH2F、OCH,CHF2、OCH,CF3
.0CH2−CH2CH3S−シクロヘキシル、5C6
H,又は5CH2C,H,である、 好適(1)の化合物。 3) RがHである好適(2)の化合物。 4) R2がCH35XC3〜C4アルケニロキシ、C
3〜C4アルケニルチオ、C3〜C4アルケニルスルフ
イニル、C3〜C4アルケニルスルホニル、1〜3つの
F又はCIで置換されたC2〜C,アルキル、CH2F
、、CHF’2、QC)(F2.0CH2CH2F、
OCH・2CF3又は0CH2CH2CIである、好適
(3)の化合物。 5) R1がCH3又はCH2CH3であり:XがCH
3,0CR3又はciであり;そしてYがCH,、OC
H,、C2H,又はQC,H,である、好適(4)の化
合物。 6) R2がアリロキシ、アリルチオ、プロパーギル
チオ、プロパーギルチオ、CH,F。 0CHF2.0CH2CH2F又はCH,Sである、好
適(5)の化合物。 7) R2がC2〜C,アルコキシ、02〜Caアルキ
ルチオ、C2〜C,アルキルスルホニル、C7〜C8ア
ルキルスルフイニル、CH(HXC。 〜C3アルキル)OC1〜C2アルキル、CH(H。 C1〜C3アルキル)SC,〜C2アルキル、CH(H
XC,〜C,C2アルキル(0)C1〜C2アルキル又
はCH(H,C,−C,アルキル)SO。 C8〜C2アルキルである、好適(1)の化合物。 R) RがHである好適(7)の化合物。 9) R2がC2〜C,アルコキシ、C2〜C。 アルキルチオ、C2〜C4アルキルスルホニル、C7〜
C4アルキルスルフイニル、CH20CI〜C,アルキ
ル、CH28C,、C2アルキル、CH25−(0)
Ct” C2アルキル又はCH,So、C,〜C2アル
キルである、 好適(8)の化合物。 10)R,がC1(、又はC2H,であり、XがCH3
、OCH3又はC1であり;そしてYがCf(、、OC
H3、C2H,又はQC,H,である、好適(9)の化
合物。 11)R,がC2〜C3アルコキシ、02〜C。 アルキルチオ、C1〜C3アルキルスルフイニル、CH
20CH3、CH2SCH3、CH,5(0)CH。 又B CH,5o2CH,cア;!:、、好適(10)
の化合物。 12)R,がC1〜C,シクロアルキル、C4〜C,シ
クロアルキルアルコキシ、0CF2−C1,OCF B
rX0CF3.0CF2CF2HXOCF2−
・CHFClX0CF、CI(FBr、 OCF C
F 0CH2−23X CH2B r、 0CH2CC18、C3〜C,ハロア
ルコキシ、ヒニロキシ、C2〜C,ハロアルケニロキシ
、C3〜C,ハロアルケニロキシ、0C)(,0−CH
3,0CH20CH2CH,,0CH(CH3)OCH
3、C,アルコキシアルコキシ、C2〜C4ハロアルコ
キシアルコキシ、0CH2SCJj、、0CH2S−C
H,CH3,0CH(CHl)SCHいC4アルキルチ
オアルコキシ、02〜C4ハロアルキルチオアルコキソ
、QC)(,5(0)CI(3,0CR2S(0)CH
2−CH,,0CR(CHl)S(0)CH,、C4ア
ルキルスルフイニルアルコキシ、C2〜C4ハロアルキ
ルスルフイニルアルコキシ、0CH2So、CH3,0
CH2802CH2CH,,0CH(C)f、) 5o
2CH3、C4アルキルスルホニルアルコキシ、C2〜
C4ハロアルキルスルホニルアルコキシ、C2〜C4シ
アノアルコキシ、0CH2C(0) CH,,0CR2
CH2C(0)CH3、C2〜C4アミノアルコキシ、
C3〜C,シクロアルキルチオ、04〜C6シクロアル
キルアルキルチオ、5CF2HXSCF2C1,5CF
2Br、 5CF3、C2〜C8ハロアルキルチオ、ビ
ニルチオ、C2〜C6ハロアルケニルチオ、C1〜C,
ハロアルキニルチオ、02〜C4アルコキシアルキルチ
オ、C2〜C4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C
,アルキルチオアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキル
チオアルキルチオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、S
CH,C(0)CH3,5CH2CH2C(O)CH3
,02〜C4アミノアルキルチオ、C3〜C6シクロア
ルキルスルフイニル、C4〜C6シクロアルキルアルキ
ルスルフイニル、CI〉C8ハロアルキルスルフィニル
、ビニルスルフィニル、02〜CI、ハロアルケニルス
ルフィニル、C3〜C6ハロアルキニルスルフイニル、
02〜C,フルコキシアルキルスルフィニル、C2〜C
4ハロアルコキシアルキルスルフイニル、C2〜C4シ
アノアルキルスルフイニル、5(0)CH2−C(0)
Cf(、,5(0)CH2CH2C(0)C)(5、C
,〜C4アミノアルキルスルフィニル、C8〜C6シク
ロアルキルスルホニル、C4〜C6シクロアルキルアル
キルスルホニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、
ビニルスルホニル、C2〜C,ハoフルケニルスルホニ
ル、C3〜C6ハロアルキニルスルホニル、C2〜C4
アルコキシアルキルスルホニル、C2〜C4ハロアルコ
キシスルホニル、02〜C4シアノアルキルスルホニル
、5o2CH2C(0)CH,、SO,CH2CH2−
C(0)CH3、C2〜C4アミノアルキルスルホニル
、CH2ClXCHCl2、CH2BrXCHBr2、
C2〜C,フルケニル、C6〜C1l八ロアルケニル、
C==CH,C,〜C,CIアルキニル、QC(0)C
。 〜C、7A/ キ/l/、CH,C(0)NRaRb、
MHCH,、NRbRo 或いはC3〜C4アルコキ
シ、c、〜C4シクロアルコキシ、シクロプロピルメト
キシ、C0〜C4ハロアルコキシ、C2〜C4アルケニ
ロキシ、C7〜C4ハロアルケニロキシ、C3〜C,フ
ルキニロキシ、C5〜C4ハロアルキニロキシ、C7〜
C,アルコキシアルコキシ、C2〜C4アミノアルコキ
シ、C1〜C4アルキルカルボニロキシ、CIA−C4
ハロアルキルカルボニロキシ、01〜C4カルパモイロ
キシ、C1〜C4アルコキシカルボニロキシ、OH。 0P(O)(OC1〜C2アルキル)2.01〜c4ア
ルキルスルホニロキシ、C,〜C2ハロアルキルスルホ
ニロキシ、O8i (CH3)a 、O81(CH,)
2C(CH3)3、C5〜C4アルキルチオ、C5〜c
4シクロアルキルチオ、シクロプロピルメチルチオ、C
1〜C4ハロアルキルチオ、02〜c4アルケニルチオ
、C〜C4ハロアルケニルチオ、C3〜C4アルキニル
チオ、C3,C,、、。 アルキニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、
02〜C4アミノアルキルチオ、SH。 5P(0)(OC1〜C2アルキル)2、c、〜c4ア
ルキルスルフィニル、C〜C4シクロアルキルスルフィ
ニル、シクロプロピルメチルスルフィニル、C1〜C4
ハロアルキルスルフイニル、C2〜C4アルケニルスル
フイニル、C7〜C4ハロアルケニルスルフイニル、c
3〜C4フルキニルスルフィニル、C5〜C,ハコアル
キニルスルフィニル、C2〜C4フルコキシアルキルス
ルフイニル、02〜C4アミノアルキルスルフイニル、
C3〜C4アルキルスルホニル、C8〜C4シクロアル
キルスルボニル、シクロプロピルメチルスルホニル、C
IS+c4ハロアルキルスルホニル、C〜C4アルケニ
ルスルホニル、C〜C4ハロアルケニルスルホニル、C
3〜C4アルキニルスルホニル、c、〜C4ハロアルキ
ニルスルホニル、C2〜c4アルコキシアルキルスルホ
ニル又はC2〜c4アミノアルキルスルホニルで置換さ
れたC1〜c4アルキルである、 式(1)の化合物。 x3)R,がC1〜C,シクロアルコキシ、04〜C,
シクロアルキルアルコキシ、OCF、C1゜OCF、
Br 、 OCF、 、OCF、 CF2H,0CF2
CHFC1、OCF、CHFBr、 0CF2CF、、
OCR,C)(、B r 。 OCH,CCI、 、C,〜C6ハロアルコキシ、ビニ
ロキシ、C2〜C,ハロアルケニロキシ、0CH20C
H,,0CH20CH,CH3,0CH(CH8)−O
CH、、C4アルコキシアルコキシ、02〜C4ハロア
ルコキシアルコキシ、OCR,5C)I3、OCH,S
CH,CH3,0CH(CH,)SCH,、C4アルキ
ルチオアルコキシ、C6〜C4ハロアルキルチオアルコ
キシ、0CH2S(0)C)(、、OCH,−8(0)
CH,CH,,0CH(CH3)S(0)CH,、C4
アルキルスルフィニルアルコキシ、C2〜C4ハロアル
キルスルフイニルアルコキシ、OCH,−802CH3
,0CH2SO□Cf(、CH8,0CR(CH3)
−8O2CH3、C4アルキルスルホニルアルコキシ、
C7〜C4ハロアルキルスルホニルアルコキシ、C2〜
C4シアノアルコキシ、0CH2C(0)CH3,0C
R2CH,C(0)CH,、C2〜C4アミノアルコキ
シ、C5〜C,シクロアルキルチオ、5CF4.5CF
2CIXSCF2BrX弱ヤhC4〜C,シクロアルキ
ルアルキルチオ、SCF、H,C2〜C6ハロアルキル
チオ、ビニルチオ、C7〜C。 ハロアルケニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチ
オ、02〜C4ハロアルコキシアルキルチオ、C2〜C
4アルキルチオアルキルチオ、C2〜C4ハロアルキル
チオアルキルチオ、C2〜C4シアノアルキルチオ、5
CH2C(0) CI(、、SCH,CH,C(0)C
f(3,02〜C4アミノアルキルチオ、C1〜C,シ
クロアルキルスルフィニル、C4〜C,シクロアルキル
アルキルスルフィニル、C1〜C6ハロアルキルスルフ
イニル、ビニルスルフィニル、C2〜C,ハロアルケニ
ルスルフィニル、C2〜C4アルコキシアルキルスルフ
イニル、C2〜C4ハロアルコキシアルキルスルフイニ
ル、C2〜C4シアノアルキルスルフイニル、5(0)
CH,C(0)CH8,5(O)−CH2CH2C(0
)CH3、C2〜C4アミノアルキルスルフイニA/、
C,〜C,シクロアルキルスルホニル、04〜C6シク
ロアルキルアルキルスルホニル、C8〜C,ハロアルキ
ルスルホニル、ビニルスルホニル、C2〜C6ハロアル
ケニルスルホニル、C2〜C,アルコキシアルキルスル
ホニル、C2〜C4ハロアルコキシスルホニル、C2〜
C4シアノアルキルスルホニル、5o2CH,C(0)
C)f、 、So□CH,CH2C(0)CH5、C2
〜C4アミノアルキルスルホニル、CHBr、、1つ又
はそれ以上の弗素又は臭素原子で置換されたC2〜C,
アルケニル、C=CH,c、〜C6ハロアルキニル、N
RbR,1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH(H
,C,〜C3アルキル)OC4〜C4ハロアルキル、C
H(FI、C,〜C3アルキル)OC2〜C4ハロアル
ケニル、CH(HXC,、C,アルキル) OC3〜C
,アルキニル、CH(HXC,〜C3アルキル)OC2
〜C4アルコキシアルキル、1又は2つのハロゲン原子
を有するCH(H,C,〜C3アルキル) SC。 〜C4ハロアルキル、CH(HXC,〜C,アルキル)
SC2〜C4ハロアルケニル、CH(H,C。 〜C,アルキル) SC,〜C4アルキニル、C)((
H。 C3〜C3アルキル) SC,〜C4アルコキシアルキ
ル、1又は2つのハロゲン原子を有するCM(H,C1
〜C,アルキル)S(0)C1〜C4ハロアルキル、C
H(HXC,〜C,アルキル)S(0)C1〜C4ハロ
アルケニル、CH(H,C,〜C。 アルキル)S(0)C3〜C4アルキニル、CH(H。 C,、C,アルキル”) 5(o)c2〜C4アルコキ
シアルキル、1又は2つのハロゲン原子を有スるCH(
f(、C,〜C,アルキル) 5o2c、、c4ハロア
ルキル、CH(HXC,〜C3アルキル)SO2C2〜
C,ハロアルケニル、CH(H,C,〜C3アルキル)
SO2C5〜C4アルキニル、CH(HXC,〜C,ア
ルキル) SO,C,〜C4アルコキシアルキル、或い
は非ベンジル位がC9〜C4アルコキシ、01〜C4ハ
ロアルコキシ、C1〜C4アルキルカルボニロキシ、C
1〜C4ハロアルキルカルボニロキシ、C1〜C4カル
パモイロキシ、アルコキシカルボニロキシ、C1〜C,
アルキルスルホニロキシ、C1〜C2ハロアルキルスル
ホニロキシ、C3〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロ
アルキルチオ、C3〜C4アルキルスルフイニル又はC
3〜C4アルキルスルホニルで置換されたC3〜C4ア
ルキルであり;そして Roが02〜C4シアノアルキル、CH2C(0)CM
、 、′CH2CH2C(0)C)I3、C,〜C4ハ
ロアルキル、C4〜C,フルケニル、C3〜C4ハロア
ルケニル、C1〜C4アルキニル又はC3〜C4ハロア
ルキニルである、 好適(12)の化合物。 14) RがHである好適(13)の化合物。 15)R2が0CF3.0CF2CF3.0CH2−C
H2B rXC,ハo 7/l/ コ−IF シ、OC
H,CH2O−CH2CH3,5CF2HXSCF、、
C2ハロアルキルチオ、C2〜C,アルコキシアルキル
チオ、C0〜C2ハロアルキルスルフイニル、C8〜C
、ハロアルキルスルホニル、C=CH,1又ハ2 ツの
・・ロゲン原子を有するCH2QC,、C2・・ロアル
キル、1又は2のハロゲン原子を有するCHSC,〜C
2ハロアルキル、1又は2のハロゲン原子を有するCH
,5(0)C,〜C2ハロアルキル、或いはl又は2つ
のハロゲン原子を有するCH2502C7〜C2ハロア
ルキルである、好適(14)の化合物。 16)R,がCH,又はCH2CH,であり;XがCH
,、OCR,又はCIであり;そしてY7’fiCH,
、、OCR,、C,H,又BOc2H,−chる、好適
(15)の化合物。 17)R2が0CF2CF、、、5CF2HXSCH2
−CH20CH,,5(0)CF’、HXSo、CH2
0CH。 CH,OCH2CF2F又はCH20CH2CHF2で
ある、好適(16)の化合物。 18 ) R2カC3〜C,ハロアルキニルチオ、C
7〜C,ハロアルキルチオ、C3〜C,ハロアルキニル
チオ、C9〜C,ハロアルキニルスルフィニル、C3〜
C,ハロアルキニルスルフィニル、C7〜C8ハロアル
キルスルホニル、C1〜C6ハ0 フルキニルスルホニ
ル、C)(、C1゜CHCl2、CH7Br11ツ又は
それ以上+7)塩素原子で置換されたC2〜C,アルケ
ニル、C2ハロアルキニル、oc(o)c、、c、アル
キル、CH2C(0)NRaRbXNHCH,、NRb
R,3つ又はそれ以上の・・ロゲン原子を有するCH(
H。 C5〜C,フルキル)OC,〜C4ハロアルキル、CM
(HXC,〜C,アルキル)QC(0)C,〜C。 アルキル、CH()fXC,〜C3アルキル)OC−(
O)C1〜C3ハロアルキル、C)(()(、C,〜C
。 アルキル)OC,〜C4カルバモイル、CH(H。 C3〜C,アルキル)QC(0)QC,〜C,アルキル
、CH(H,C,〜C3アルキル) O8O□C7〜C
4アルキル、CH(HXC,〜C,アルギル)O8O□
−C1〜C2ハロアルキル、CH(HXC,〜C,アル
キル)SC,〜C4アルキル、3つ又はそれ以上の・・
ロゲン原子を有するCH(HXC,〜C3アルキル)S
C,〜C4ハロアルキル、CH(H。 C4〜C3アルキル)S(υ)C3〜C,アルキル、3
つ又はそれ以上の・・ロゲン原子を有するCH(HXC
,〜C,アルキル) 5o2C,、C4,、ロアルキル
、非ベンジル位がC2〜C4ハロアルケニロキシ、C5
〜C4アルキニロキシ、02〜C4アルコキシアルコキ
シ、C2〜C4ハロアルケニルチオ、C3〜C4アルキ
ニルチオ、C2〜C4アルコキシアルキルチオ、CI〜
C4ハロアルキルスルフィニル、C2〜C4ハロアルケ
ニルスルフイニル、C3〜C4アルキニルスルフイニル
、C2〜C4アルコキシアルキルスルフイニル、C1〜
C4ハロアルキルスルホニル、C2〜C4ハロアルケニ
ルスルホニル、03〜C4アルキニルスルホニル又ハC
2〜C4アルコキシアルキルスルホニルで置換されたC
1〜C4アルキル、或いはC8〜C4シクロアルコキシ
、シクロプロピルメトキシ、C2〜C4アルケニロキシ
、C3〜C4ハロアルキニロキシ、C2〜C4アミノア
ルコキシ、O)(、0P(0) −(OC1〜C2アル
キル)2.08I(CH3)3.08i(CH,、)2
C(C1(、、)、q、シクロアルキルチオ、シクロプ
ロピルメチルチオ、C2〜C4アルケニルチオ、C1〜
C4ハロアルキニルチオ、C2〜C4アミノアルキルチ
オ、5HXSP(0)−(OC1〜C2アルキル)2、
C8〜C4シクロアルキルスルフイニル、シクロプロピ
ルメチルスルフィニル、C2〜C4アルケニルスルフイ
ニノペC5〜C4ハロアルキニルスルフイニル、C2〜
C4アミノアルキルスルフイニル、C8〜C4シクロア
ルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスルホニル、
C2〜04アルケニルスルホニル、03〜C4ハロアル
コキシスルホニル又は02〜C4アミノアルキルスルホ
ニルで置換されたC、、C4アルキルであす;ソシて Rcが02〜C4アルキル、シクロプロピルメチル、或
いはC1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C)〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキル
スルホニル、0HXNH2、NHCH3又はN(CH3
)2で置換されたC1〜C4アルキルである、 好適(17)の化合物。 19) RがHである好適(18)の化合物。 2o) R2が0CF2CF2H,、C2〜C,シアノ
アルコキシ、02〜C3アミノアルコキシ、C2〜C,
シアノアルキルチオ、C2〜C3アルケニル、CH=
C(0)NRa RB、NHCH3、NR,Ro。 3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH2QC,
、C2ハロアルキル、CH2QC(0)C。 〜C2アルキル、CH20SO2C,〜C2アルキル、
3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH25C,
〜C2ハロアルキル、3つ又はそれ以上の・・ロゲン原
子を有するCH25(0)C,、C2ハロアルキル、或
いは3つ又はそれ以上のハロゲン原子を有するCH,5
O2C,〜C2ハロアルキルである、 好適(19)の化合物。 21)R,がCH8又はC2H,であり;XがCH,、
OCH3又はC1であり;そしてYがCH8、OCH3
、C2H!又はQC2H,である、好適(20)の化合
物。 22) R,が0CF2CF2H,0CH2CH2C
N。 5CH2CH2CN、 CH=CH2、CH,C(0)
NR2、NHCH3、C)f20CH2CF 、、CH
2QC(0)CH3又はCH20SO2CH8である、 好適(21)の化合物。 23)R2’がC,、C3アルキル、シクロプロピル、
C1〜C,アルコキシ、C4〜C3アルキルチオ、C1
〜C,アルキルスルフィニル、C1〜C3アルキルスル
ホニル、アリロキシ、アリルチオ、アリルスルフィニル
、アリルスルホニルプロパーギロキシ、プロパーギルチ
オ、プロパーギルスルフィニル、プロパーギルスルホニ
ル、OCF、HXOCH2CH2F。 0CH2CHF、 0CR2CF、 、0CH2CH2
Cl 、 或いは1〜3つのF又はC1の原子で置換さ
れたC0〜C,アルキル、OCH3又は5Cf(3で置
換されたC3〜C2アルキルである、 式■の化合物。 24)R2′がC,、、C2アルキル、C1〜C2アル
コキシ、C1〜C3アルキルチオ、C8〜C。 アルキルスルフィニル、C1〜C3アルキルスルホニル
、CF3、プロパーギルチオ、 プロバーキルチオ、フ
ロパーギルスルフィニル、プロパーギルスルホニル、0
CF2H,0CH2−CH2F、 0CH2CHF、
OCH,CF3、QC)(2CH2C1、CH2CH2
0C1(3又はCH2C1(2SC)(、である、好適
(23)の化合物。 25) RがHであり: R1がC1〜C2アルキルであり; R2/が01〜C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、
01〜C,アルキルチオ、CF、又は0CF2Hであり
;そして Y/がCH,又は0C1(3である、 好適(24)の化合物。 26)R2’がCHl、OCRい0CH2CH3又はC
F3である、 好適(25)の化合物。 27)R2’がプロピル、゛イソプロピノペ シクロプ
ロピル、プロポキシ、インプロポキシ、アリロキシ、ア
リルチオ、アリルスルフィニル、アリルスルホニル、C
H20CI−(3、C)((C)i 3) −OCH,
、CH2SCH3、CI((CI−I、 ) SCH3
、CH2F。 CHF2.1〜3つのF原子で置換されたC2=C3ア
ルキル、或いは1〜3つのC1原子で置換された01〜
C,アルキルである、好適(26)の化合物。 28) RがHであり; R3がC1〜C2アルキルであり; R21がCH2F又はCH,CH2F’であり;そして
Y’がCH8又はOCR,である、 好適(27)の化合物。 29) R21がQC2H,、C、=C2ハロアルコキ
シ、5C2H1、C1〜C2ハロアルキルチオ・C1〜
C2アルキルスルフイニル、C1=C2/%ロアルキル
スルフイニル、CI〜C2アルキルスルホニル、CI+
+C2ハロアルキルスルホニル、OH又はoc(o)c
、=C2アルキルで置換されたC1〜C2アルキル、C
!〜C2アルコキシ、C1〜C2ハロアルコキシ、C1
〜C2アルキルチオ、C1〜C2ノ−ロアルキルチオ、
C1〜C2アルキルスルフイニル、CI〜C,/%ロア
ルキルスルフイニル、C1〜C2アルキルスルホニル、
C1〜C2ハロアルキルスルホニル又はCNで置換され
たC7〜C2アルコキシ、0CH2−CH2NH2,0
CH2CH2NHCH3,0CH2CH2N−(CH3
)2、C8〜C2アルコキシ、C4〜C2ハロアルコキ
シ、01〜C2アルキルチオ、01〜C2ハロアルキル
チオ又はCNで置換さh fc C、=C2アルキルチ
オ、C7〜C,ハロアルキルチオ、C1〜C3ハロアル
キルスルフイニル、C1〜C3ハロアルキルスルホニル
、C2〜C3アルケニル、CミCHXNRb’Rざ、0
CF2C1,0CF2−Br10CF3、C3ハロアル
コキシ或いは0C(O)C,、C2アルキルである、 式「の化合物。 30) R2’カCH2CH20CH2CH,,1又
は2つの・・ロゲン原子を有するCH,、QC、=C2
・・ロアルキル、1又は2つのハロゲン原子を有するC
H(CH3)QC,=C2ハロアルキル、CH2CH2
−0C,=C2ハロアルキル、CH2CH25CH2C
H3,1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH25C
。 =C2・・ロアルキル、1又は2つのノ・ロゲン原子を
有するCH(CH3)5C,=C2/・ロアルキル、C
H2CH25C、=C2ハロアルキル、CH2CH25
−(O)CI−C2アルキル、1又は2つのハロゲン原
子を有するCH25(0)C,=C2/・ロアルキル、
1又は2つのハロゲン原子を有するCH−(CH3)S
(0)C1〜C2ハロアルキル、CH2CH2−8O□
C0〜C2アルキル、1又は2つのハロゲン原子を有す
るCH25o2C、=C2ハロアルキル、■又は2つの
ハロゲン原子を有するCH(CH3)−5O2C,=C
2/・ロアルキル、CH2CH20H%qH2CH2Q
C(0)C,=C2アルキル、C1〜C2アルコキシ、
C,”yC2ハロアルコキシ、C1〜C2アルキルチオ
、C1〜C2ハロアルキルチオ、C2〜C2フルキルス
ルフイニル、C1〜C2ハロアルキルスルフイニル、C
1〜C2アルキルスルホニル、C1〜C2ハロアルキル
スルホニル又はCN、 OCH2CH,NH2,0(J
(2CH2NHCHい0Cf(2C)I2N(CH3)
2、C,=C2アルコキシ、01〜C2ハロアルコキシ
、C1〜C2アルキルチオ、C0〜C2ハロアルキルチ
オ又はCN で置換されたC1〜C2アルキルチオ、
C7〜C1ハロアルキルチオ、C1〜C3ハロアルキル
スルフイニル、C1〜C,ハロアルキルスルホニル、C
−=CH,NRb’ Rol、 OCF 2C1、0C
F2B r。 OCF、或いはC,ハロアルコキシであり;そして R’がC,〜C,ハロアルキルである、好適(29)の
化合物。 31) RがHであり; R1がC1〜C2アルキルであり; R2′が1又は2つの・・ロゲン原子を有するCH2Q
C、=C2ハロアルキル、1又は2つのハロゲン原子を
有するCH,SC,=C2ハロアルキル、c、、C2,
・ロアルキルチオ、C〒CH。 NRb′Rc′或いは0CF3であり;そしてY′がC
H3又はOCH3である、 ・好適(30)の化合物
。 32)R2’がCH20CH,’ CH2F、 CH2
0CH2−CHF2、NT(2、N)LCH3又はN(
CH3)2である、好適(31)の化合物。 33)R2’がCH20CH,CH,、CH(CH3)
−QC)(2CHい 3〜5つの−・ロゲン原子を有す
ルCH20C1〜C,ハロアルキル、3〜5つのハロゲ
ン原子を有するCH(CH3) QC,−C2・・ロア
ルキル、CH25CH2CH,、CH(CH,) 5C
H2−CH3,3〜5つのノ・ロゲン原子を有するCH
2−8C1〜C2ハロアルキル、3〜5つのノ\ロケン
原子を有するCH2(CH,) SC,〜C2・・ロア
ルキル、CH,S (0) C、〜C2アルキル、CH
(CH,)−S(O)C,〜C2アルキノペ CH,C
H,5(0)C,〜C2ハロアルキル、3〜5つのノ・
ロゲンi子を有するcH2s(o)c、〜C2・・ロア
ルキル、3〜5つのハロゲン原子を有するCH(CH3
)5(0)C8〜C2ハロアルキル、CM2S02C、
〜C2アルキル、CH(CH3)5o、 C、〜C2ア
ルキル、CH2CH25o2C、〜C2ハロアルキル、
3〜5つの・・ロゲン原子を有するCM2S02C,、
C,、・ロアルキル、3〜5つのハロゲン原子を有スる
CH(CI(、)SO2C,〜C2ノ・ロアルキル、C
H20HXCH(CH,)OH,CH,C(0) C,
〜C2アルキル、CH(CI(、)oc(o)c、、c
2アルキル、C2〜C,アルケニル、NRb′Rら、又
は0C(O)C1〜C2アルキルであり;そして R5がH又はC、、C2アルキルである、好適(32)
の化合物。 34) RがHであり; R1がC1〜C2アルキルであり; R2/がC)f20CH,CH3、CH20CH2CF
、、CH25CH2CH8,0CH2CN、 0CH
2CH,CN。 5CH2CNXSCH2CFI2CN、 C,−C,ア
ルケニル又はNRb’R0’であり、そして YノがCI(、又はOCH3である、 好適(33)の化合物。 35)R,’がCf(20CH,CH,、CH20CH
2−CF3、CH=CH2、NH2、NHCf(3又は
N(CH3)2である、 好適(34)の化合物。 更に本発明は、イネ特に日本種のイネ又は水稲に対する
選択性、及び望ましくない植物の生長に対する活性があ
ることに基づいてイネ作物における雑草駆除のために化
合物 を使用する方法、またコムギ及びオオムギ作物には安全
性を有してそれに対するブラックグラス(blackg
rass)に対して使用する方法に関する。 合成 式Iの化合物は方程式1〜3及び14に記述される方法
の1つ又はそれ以上によって製造することができる。 方程式1に示されるように、式1の化合物は式(1)の
適当に償換されたスルホニルイソシアネートを式(2)
の適当なアミノ又はメチルアミノ複素環化合物と反応さ
せることによって製造することができる。 XXY及び2は前述の通りである〕。 この反応は不活性な適当な有機溶媒例えばジクロルメタ
ン、1.2−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン又は
アセトニトリル中において20〜85℃の温度で最良に
行なわれる。添加の順序は厳密でないが、スルホニルイ
ソシアネート又はその反応溶媒中の溶液を、アミンの攪
拌i濁液に添加することはしばしば簡便である。 いくつかの場合、所望の生成物は基部において反応溶媒
に不溶であり、溶媒から純粋形で結晶化する。反応溶媒
に可溶な生成物は溶媒の蒸発によって単離される。この
時代rの化合物は、蒸発残渣の1−クロルブタン又はエ
チルエーテルのような溶媒でのそしゃく及び濾過により
、溶媒例えば1.2−ジクロルエタン、1−クロルフタ
ン及ヒヘブタンの混合物からの再結晶により、或いはシ
リカゲルでのクロマトグラフィーにより精製することが
できる。 式■の化合物の多くは方程式2で示した方法によって製
造することができる。 方程式2 〔式中、AXR,R,、及びR2は前述の通りである〕
。 ? 方程式2で示される反応は、式(3)のフェニルカーバ
メートを、不活性な有機溶媒例えば、ジオキサン又はテ
トラヒドロフラン巾約20〜100℃の温度において約
捧〜24時間、式(2)のアミノ複素環族化合物と接触
させることによって行なわれる。生成物は反応溶媒の蒸
発によって単離し、そして前述の方法によって精製する
ことができる。 式(3)のフェニルカーバメートは、1982年1月2
7日公開のヨーロッパ特許願第81810282.4号
(公開第44,808号)或いは南アフリカ国特許願第
8215042号に記述されている方法又は同業者には
公知のその改変法によって製造することができる。 他に式Iの化合物の多くは方程式3に記述される方法に
よって製造することができる。 方程式3 〔式中、AXR,及びR7は前述の通りであり、そして
RはHである〕。 方程式3の反応は、式(4)のスルホンアミドを、等モ
ル量の1,8−ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデク
−7−エン(DBU)の存在下に、南アフリカ国特許願
第8370441号に記述されているものと同様の方法
に従い式(5)の複素環族フェニルカーバメートと等モ
ル量で反応させることによって行なうことができる。式
(5)のフェニルカーバメートは南アフリカ国特許願第
8215671号及び第8215045号に記述されて
いる方法或いは同業者には公知のその改変法によって製
造することができる。 式1の化合物のいくつかは、R2が0)IXNRbH又
はSHである式1の化合物から製造することができる。 この方法の虜論に対しては方程式14を参照。 式■の化合物は方程式IA〜3A及び14Aに記述され
ている方法の1つ又はそれ以上によって製造することが
できる。 方程式IAに示すように、式「の化合物は式(IA)の
適当に置換されたスルホニルイソシアネートを式(2A
)の適当なアミノ又はメチルアミノ複素環族化合物と反
応させることによって製造できる。 方程式IA (2人) 〔式中、Y′、RXR,及びR2′は前述の通りである
〕。 この反応は不活性な適当な有機溶媒例えばジクロルメタ
ン、1.2−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン又は
アセトニトリル中、20〜85℃の温度において最良に
行なわれる。添加順序は厳密でないが、スルホニルイン
シアネート又はその反応溶媒中溶液を、アミンの攪拌懸
濁液に添加することはしばしば簡便である。 いくつかの場合には、所望の生成物は室温で反応溶媒に
不溶であり、それから純粋形で晶出する。 反応溶媒に可溶な生成物は溶媒の蒸発によって単離しう
る。この場合式■の化合物は、蒸発残漬の1−クロルブ
タン又はエチルエーテルのような溶媒でのそしゃく及び
濾過により、溶媒例えば1゜2−ジクロルエタン、1−
クロルブタン及びヘプタンの混合物からの再結晶により
、或いはシリカゲルでのクロマトグラフィーにより才育
製することができる。 式■の化合物の多くは方程式2Aに示される方法によっ
て製造することができる: 方程式2A 〔式中、Y′、RXR,、及びR2′ は前述の通りで
ある〕。 方程式2Aで示される反応は、式(3A)のフェニルカ
ーバメートを、ジオキサン又はテトラヒドロフランのよ
うな不活性な有機溶媒中において約1/2〜24時間、
式(2A)のアミン複素環族化合物と約20〜100℃
の温度で接触させることによって行々われる。生成物は
反応溶媒の蒸発によって単離され且つ先に記述した方法
によって精製することができる。 式(3A)のフェニルカーバメートは、1982年1月
27日付けのヨーロッパ特許願第44.808号又は南
アフリカ国特許願第8215042号に記述されている
方法、或いは同業者には公知のその改変法によって製造
することができる。 他に式■の化合物の多くは方程式3Aに記述する方法で
製造できる: 方程式3A (■、g=)() 〔式中、Y′、R1、及びR’ は前述と同義であり
、そして RはHである〕。 方程式3Aの反応は、南アフリカ国特許願第83104
41号に記述されているものと同様の方法に従い、式(
4A)のスルホンアミドを、等モル量の1,8−ジアザ
ビシクロ〔5・4・0〕 ウンデク−7−二ン(DBU
)の存在下に式(5A)の複素環族フェニルカーバメー
トと等モル量で接触させることによって行なうことがで
きる。式(5A)のフェニルカーバメートは南アフリカ
国特許願第8215671号及び第F!215045号
に記述きれている方法或いは同業者には公知のその改変
法によって製造することができる。 式1及び11の固化合物に対して、次の一般法の1つ又
はそれ以上により、未置換の及び置換されたアルコキシ
、アリロキシ及びプロパーギロキシベンゼンスルホンア
ミド中間体が製造できる。 方程式4に示すように、1つの非常に有用な一般的合成
経路はフェノール(6)を出発物質とする。 方程式4 〔式中、R1は前述の通りであり、そしてR1はC7〜
C6アルキル、C5〜C,シクロアルキル、C4〜C,
シクロアルキルアルキル、C7〜C,ハロアルキル、C
1〜C,フルヶニル、C1〜Cllハロアルケニ/l/
、C,〜C,ハロアルキニ/L=、C,〜C,−フルキ
ニル、02〜C4アルコキシアルキル、02〜C4ハロ
アルコキシアルキル、C2〜C4アルキルチオアルキル
、C7〜C4ハロアルキルチオアルキル、CH2C(0
)CH,1、CH,CH,C(0) −CH,、又はベ
ンジルであり、またM、けNa又は■(であり、そして OO ある〕。 4−ヒドロキシ−2−二トロ安息香酸(6)の、適当な
極性の中性溶媒例えばジクロルメタン又はN。 N−ジメチルホルムアミド(DMF)中溶液又は懸濁液
を、少くとも2等量の適当な塩基例えばN。 N−ジイソプロピルエチルアミン又は炭酸カリウムの存
在下に20〜155℃の温度において4〜16時間、少
くとも2当量のR4N+ (7)で処理する。 溶媒が水と混和しうるならば、これを蒸発させ、残渣を
ジクロルメタン中に入れる。この生成物の溶液を水性炭
酸ナトリウム又はカリウム溶液及び水性塩酸で洗浄し、
硫酸マグネシウムのような適当な乾燥剤で乾燥する。次
いで濾過し且つ溶媒を蒸発させることにより(8)を準
純粋形で得る。これは再結晶或いはシリカゲルでのカラ
ムクロマトグラフィーによって更に精製することができ
る。必要とされるアルキル化、アルケニル化及びアルキ
ニル化剤R,X、(7)は公知であり、又は技術的に公
知の多くの方法によって裏造しうる。 R1がR1と同一でない場合、エステル(8)は水及び
適当な有機共溶媒例えばエタノール又はp−ジオキサン
の混合物中において4〜16時間、20〜100℃の温
度下に少くとも1当量の水酸化ナトリウム又はカリウム
で処理される。次いで反応混合物を濃塩酸で酸性にする
。生成物が結晶形で分離する場合には、これを集める。 さもなければこの水溶液をエーテルで抽出する。次いで
エーテル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そし
て溶媒を蒸発させてカルボン酸(10)を得る。 カルボンf−ffJ (10)をエステル(12)へ転
化するだめには、続いてそのピリジン溶液を、J、 H
,ブリュースター(Brewster)及びC,J、シ
オツチ(Ciotti)、Jr、、ジャナ/l/ ・オ
プ・アメリカン・ケミカル・ンサイエテイ−(J、Am
、Chem。 Soc、)、1955.77.6214 の一般的方
法ニ従ってp−トルエンスルホニルクロライド及びR,
0H(11)で処理す・る。 他に、カルボン酸(10)は、C,A、ピュエラー(B
uehler)及びり、 E、ビア −7ン(Pear
sOn)、サーベイ・オプ・オーガニック・シンセンス
(Survey of Organic 5ynthe
sis)、ウィリー−インターサイxンス(Wiley
−Intersci−ence 、New York)
、 1970.802〜807頁に参照されているよう
に過剰のR,0f((11)及び強酸触媒例えば塩化水
素を用いることによってエステル(12)に転化するこ
とができる(方程式ニトロベンゼンa2)u、C,A、
ビュエラー 及びl)、 E、ビアーソン(上掲、41
;3〜4]4頁)によって参照きれている如く鉄を酢酸
中で用いることにより或いは硫化白金を触媒として及び
F、S。 ドベル(Dovel)及び比グリーンフィールド(Gr
eenf 1eld)、ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサイエテイー、87.2767(196
5) の条件を用いることによりアニリンに還元され
る(方程式4d)。存在する他の置換基が水素化又は水
素化分解に元素敏感でない場合には、パラジウムを竹化
白金の代りに触媒として用いることができる。 アニリン(13)は、H,メールワイン(Meer−w
ein)、G、デイシトマ−(1)ittmer)、R
,コールナー(G(+1lner)、K、ハフナー(H
afner)、F、メンシュ(Mensch)、0.ス
タインフォート(Steinfort)、ヘミツシエ・
ベリヒテ(Chem。 Ber、 ) 90、l’141(1957)の一般的
方法を用いることによりスルホニルクロライド(14)
に転化される(方程式4e)。カップリング工程中の生
成物の加水分解を制限するためには、ジクロルメタンを
共溶媒として用いることが有利である。 最後に、2当量のアンモニアをジクロルメタン溶液中に
おいて−30〜−10℃の温度で用いることによりスル
ホニルクロライド(14)をアミン化して(4a)を製
造する(方程式4f)。 他に、式(4a)又は(4(!’)のスルホンアミドの
多くは、方程式5に示す経路で製造することができる。 方程式5 %式%(16) 〔式中、M、 、R,XRa、 Rb、及びXlは前述
の通りであり; R3はC1〜C,アルキル、C1〜C6ハロアルキル、
又はCH2C(0)NRaRbであり1そしてR8は前
述の通り、或いは02〜C4アミノアルキルであり、但
しC2〜C6アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、
C3〜C。 アルキニル又n Cs〜C6ハロアルキニルである〕。 フェノール(15)は、無水メタノール、エタノール又
はアミルアルコール中2当量のナトリウムの溶液に添加
される。1当寸より少し多いR3X。 (7)を添加し、この混合物を還流温度に4〜24時間
加熱する。溶媒を真空下に除去し、残渣をIN塩酸及び
エーテル間に分配する。このエーテル相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。エーテルの蒸発後にフェノール
(16)を得る (方程式5a)。 方程式5bX (!Xd、e及びfにおいて、化合物1
7a、18a% 19a、21a及び14aは、OR
,Isz換基がR3で置換された以外それぞれ17、1
8.19.21及び14と同一の構造を有する。 カルボ7酸(16/l 6 a )は、C,A、ビュエ
ラー(Bueler)及びり、 E、ピアーソ7 (P
earson)(止揚、802〜807頁)に参照され
ているように過剰のR,OHと強酸触媒を用いることに
よってエステル(17/17a)に転化される(方程式
5b)。 フェノール(17/17a )はM、 S 、= 、:
x−−7ン(Newman)及びH,A、カーネス(K
arne s )、ジャーナル・オブ・オーガニック・
ケミストリー(J、 Org、Chem、 )、196
6.31.3980の一般的な方法に従い、ジメチルチ
オカルバモイルクロライド及び1,4−ジアザビシクロ
〔2・2・2〕オクタン(DABCO)をN、N−ジメ
チルホルムアミド中で用いることによってチオカーバメ
ート(18,/1sa)に転化される(方程式5c)。 他にフェノール(17/17a)、少くとも1当量のジ
メチルチオカルバモイルクロライド、少くとも1当量の
トリエチルアミン(Et3N)、及び触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジン(DMAP)のジクロルメタン中混
合物を、還流下に1〜7日間加熱する。この反応混合物
をIN塩酸及び109g水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。次い
で溶媒を蒸発させることにより粗生成物(18/18a
)を得る。これはシリカゲルでのクロマトグラフィーに
より又は結晶の場合には再結晶により精製することがで
きる。 チオカーバメート(18/18a)は、M、S。 ニューマン及びH,A、カーネス(止揚)の一般的な方
法に従って加熱してその異性体(19719a)に添加
される。 (19/19 a )+7)無水R,0H(11)中溶
液に、1当量よりも少し多いNaOR,(20)を添加
する。 この混合物を60〜70℃に0.5〜1時間加熱する。 溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロルメタン及び大間
に分配する。この水性層をジクロルメタンで洗浄し、1
2N塩酸で酸性にし、ジクロルメタンで抽出する。ジク
ロルメタン抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する
。溶媒を蒸発させることによりチオール(21/21a
)を得る(方程式5e)。 チオール(21721a)及び少くとも1当量のぎ醸ナ
トリウムのぎ酸中混合物に、温度を40〜50℃に保つ
ような速度で少くとも3当量の過酸化水素を添加する。 次いで反応混合物を45〜55℃に1〜5時間加熱する
。過剰なパーオキサイドを亜硫酸ナトリウムで分解し、
溶媒を蒸発させる。残渣を過剰の塩化チオニルに添加し
、触媒量のN、N−ジメチルホルムアミド(1)MF
) %” m加する。この混合物を還流温度に8〜24
時間加熱し、次いで溶媒を蒸発させる。この残渣を水と
エーテル間に分配させる。エーテル溶液を炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
する。そして溶媒を蒸発させることによりスルホニルク
ロライド(14,/14a)を得る(14./14a)
(方程式5f)。 最後に、スルホニルクロライド(14)をアミン化して
スルホンアミド(4a)を得、まだ同様に(14a)は
方程式4f(方程式5g)に対してすでに記述したよう
に(4(!’)を与える。 スルホンアミド(4a)の多くは方程式6に示す経路に
従い、6−ヒトロキシサツカリン(22)e出発物質と
して製造することができる。 方程式6 %式%(23) 〔式中、R1及びXは前述通りであり、またR、は方程
式4に定義した通りであり又はC2〜C4シアノアルキ
ルである〕。 6−ヒドロキノサッカリン(22)は、C,フインチ(
Finzi)及びM、 コo :、yす(C+)l□n
na)、アッチ・アカド・リンセイ・クラッセ・サイ・
フイス(Atti、Acad、Lincei、C1as
se、Sci、fis、)、マ ト−’7 ト (m
at、 +nat、 ) 、 1937 、
26.19〔ケミカル、アブストラフ:、/ (Che
m、Abst、 )1938.32.3762] に
記述されているように製造することができる。他に1嶋
−=CH,、R,=C,H,C)I2の4(a)は方程
式5に記述した経路に従って製造しうる。このスルホン
アミドのジクロルメタン中溶液を1当′@sの1,8−
ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデク−7−二ン(D
BU)で処理する。溶媒を蒸発させ、残渣を最小量の水
に溶解し、塩酸で処理して6−ベ/シロキシサツカリン
を沈殿きせる。これをパラジウム触媒を含有するエタノ
ールに溶解する。この混合物を水素の吸収が終るまで2
0〜40℃及び1〜10 psiで水素化する。濾過と
溶媒の蒸発により6−ヒトロキシサツカリン(22)を
得る。 方程式6aに記述されている方法において、6−ヒトロ
キシサツカリン(22)を無水メタノール、エタノール
又−はアミルアルコール中2当量のナトリウムの溶液に
添加する。次いで1当量よりも少し多いR,X、(’;
+)を添加し、混合物を還流温度で4〜24時間加熱す
る。溶媒を真空下に除去し、残渣を最小量の水に溶解す
る。これを濃塩酸で酸性にする。生成物が結晶化する場
合には、これを集め、希塩酸で洗浄し、乾燥する。結晶
化しない場合には、水性混合物をジクロルメタンで抽出
する。 このジクロルメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。溶媒の蒸発によりサッカリン(23)を得る(方
程式5a)。 サッカリン(23)のR,0H(11)中溶液又は懸濁
液を塩化水素で飽和させる。この混合物を1〜6時間6
5〜80℃に加熱する。次いで溶媒と塩化水素を蒸発さ
せる。残渣をジクロルメタンに溶解し、炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾
過する。溶媒の蒸発によりスルホンアミド(4a)を得
る(方程式6b)。 他に、サッカリン(22)は方程式6b (方程式5
c)において、(23)の(4a)への転化に対してす
でに記述した条件を用いることによってスルホンアミド
(24)に開裂しつる。スルホンアミド(24)の無水
メタノール、エタノーノペ アミルアルコール、又は適
当な中性溶媒例えばN、N−ジメチルホルムアミド中の
溶液に、1当量のナトリウム又はカリウムメトキシド、
エトキシド又はtert−メトキシド、次いでアルキル
化剤R,X。 (7)を添加する。この混合物を1〜8時間20〜80
℃に、維持する。溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロ
ルメタンに溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
、Na2SO4で乾燥し、テ遇する。 溶媒の蒸発によりスルホンアミド(4a)を得る(方程
式fed)。 式(ll a )、(4b)及び(4e)の多くのスル
ホンアミドは方程式7に示す方法によって製造すること
ができる。 方程式7 %式%) (30) (W、=NR
b)(29b>、 (W−=O) (f) (4a)、(W−〇) (4b)、(W=S) (4e)、(W=NRb) 汗M (32)、(W=S、) (32a)、(W=NRb) 〔式中、M4、R1及びX、は前述の通りであり、X2
ばF、C1,Br又は■であり、〜VはO,S又はNR
bであり、Rbは前述の通りであり、そしてR4は方程
式6に対して定義した如きR3或いはH,、CHl、
シクロヘキシル又はフェニルでアル〕。 ヒドロキシサッカリン(22)u、tVl、 S、ニュ
ーマン及びH,A、カーネス(上掲)の一般的な方法又
は同業者には公知のその改変法に従ってジメチルチオカ
ルバモイルクロライド及び1.4−ジアザビシクロ〔2
・2・2〕オクタン(DABCO)をN。 N−ジメチルホルムアミド中で用いることによりチオカ
ーバメート(25)へ転化される(方程式7このチオカ
ーバメート(25)は、M、S、ニューマン及びH,A
、カーネス(上掲)の一般的な方法又は同業者には公知
のその改変法に従って加熱することによりその異性体(
26)に転化される(方程式7b)。 (26)の無水メタノール中溶液に、2当量よりも少し
多いナトリウムメトキシドを添加する。この混合物を0
.5〜1時間60〜70℃に加熱する。 溶媒を真空下に除去し、残渣をジクロルメタン及び水量
に分配させる。水性相をジクロルメタンで洗浄し、濃塩
酸で酸性にする。サッカリン(27)が結晶化する場合
には、これを集め、冷希塩酸でゆすぎ、乾燥する。結晶
化しない場合には、水性相をジクロルメタンで抽出する
。ジクロルメタン抽出物を硫酸す) IJウムで乾燥し
、濾過する。溶媒の蒸発後にサッカリン(27)を得る
(方程式7メルカプタン(27)を、無水メタノール
、エタノール又はアミルアルコール中2当量のナトリウ
ムの溶液に添加する。1当量より少し多いR4X。 (28)を添加し、混合物を1〜8時間還流下に加熱す
る。必要とされるアルキル化、アルケニル化及びアルキ
ニル化剤R4X1 (28)は技術的に公知であり、或
いは技術的に公知の多くの方法によって製造することが
できる。 次いで溶媒を見学下に除去し、残渣を最小量の水に溶解
する。これを濃塩酸で酸性にする。サッカリン(29)
が結晶化する場合には、これを集め、冷希塩酸で洗浄し
、乾燥する。結晶化しない場合には、水性混合物をジク
ロルメタンで抽出する。 このジクロルメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。溶媒の蒸発によりサッカリン(29)を得る(方
程式7d)。 能に多くの場合、式(29)又は(29b)のサッカリ
ンは、ハロサッカリン(30)を極性の中性溶媒例えば
N、N−ジメチルホルムアミド中において4〜24時間
、少くとも20〜100℃下に少くとも2当量の式(3
1)の対応するチオレート又はアルコキシドで処理する
ことによって製造できる。 この反応物は溶媒の蒸発によって処理される。残渣を最
小量の水に溶解し、濃塩酸で酸性にする。 サッカリン(29/29 b )が結晶化する場合にば
、これを濾過する。さもなければ水溶液をジクロルメタ
ンで抽出し、溶媒を蒸発させることによってサッカリン
(29/29b)を得る(方程式多くの5−アミノサッ
カリン(29a)(l−1l:、N。 N−ジメチルホルムアミド中ハロサッカリン(30)を
アミンの存在下及び加圧下に125〜190℃で8〜1
6時間加熱することによって製造することができる。反
応物は上に記述したように処理される。 更にR4がHであるアミノサッカリン(29a)は方程
式(6a)及び(7d)においてアルコキシ及びメルカ
プトサッカリンに対して前述したものと同一の方法でア
ルキル化することができる。アミンサッカリン(29a
)のアミノスルホンアミド(4e)又は(32e)への
転化は方程式(6b及びC)に前述した条件下に行なう
ことができる(方程式7f)。 式(30)の必要とされる前駆体ハロサッカリンは、方
程式4に対して記述したものと同様の方法を用いること
によって対応する4−・・ロー2−二トロ安息香酸を2
−(アミノスルホニル)−4−・・口安息香酸に添加す
ることにより製造することができる。これらのエステル
は6−ベンジロキシサッカリンの製造に対してすでに記
述した一般的方法に従ってDBUで処理することにより
式(30)の対応するサッカリンに転化される。 サッカリン(29/29b)は方程式6bにおける(2
3)の(4a)への転化に対してすでに記述した条件を
用いて、同様に対応するスルホンアミド(4b/4 a
)へ開環される。 他に、サッカリン(29/29a)は方程式6bにおけ
る(23)の(4a)への転化に対してすでに記述した
条件を用いてスルホンアミド(32/32a)へ開環し
うる(方程式7g)。チオール(32)又はアニリン(
32a)は、続いて方程式6dにおける(24)の(4
a)への転化に対してすでに記述した方法を用いて(4
b/4e)へ転化される(方程式式(4b) (R1及
びR2は前述の通り)の多くのスルホンアミドは実施例
9〜16においてR,=R4=CH3に対して記述した
ものと同様の合成経路によっても製造することができる
。 式(4C)のスルホンアミドは方程式8に示す方法によ
って製造しつる。 方程式8 %式%) R7 (4C)又は(4” 、R?=R5) (i) (4C′、R,=S iMe 2−t−Bu )(4c
、R,=SiMe2−t−Bu)〔式中、R1け前述の
通りであり;R5はアルキル、ハロアルキル、アルケニ
ル、ハロアルケニル、アルキニル、ハロアルキニル又は
CH2C(0)NRaR,であり;Ra及びRbは前述
の通りであり;W、はO又はSであり;M2はNa又は
Kであり;RoはHXC,〜C4アルキル、C1〜C4
ハロアルキル、C2〜C4シクロアルキル、シクロプロ
ピルメチル、C1〜C4アルケニル、C3〜C4ハロア
ルケニ/l/、C,〜C4アルキニル、C3〜C4ハロ
アルキニル、02〜C4フルコキシアルキル、又はC7
〜C4アミノアルキルであり;そしてR2はW、R,で
置換されだC8〜C4アルキルである〕。 出発物質のニトロベンゼン(33)は技術的に公知であ
り、或いは技術的に公知の多くの方法によって製造しう
る。これらの方法のいくつかは、適当なハライドのジフ
ェニルキュプレートとの反応〔例えば、W、G、ダウベ
ン(Dauben)編、オーガニック・リアクションズ
(Organic Reacti−ons )、22巻
(Wfley社、New YOr k )、1975年
のG、 H,ボスナー(Posner)、「サブステイ
チューション・リアクションズ・ユージング・オーガノ
ーカッパー・リエージエンツ(Substitutio
n Reactions UsingOrgano−C
opper Reagents) を参照〕カら得ら
れるカップリング生成物のニトロ化〔例えば、G、ヒル
ゲタグ(Hilgetag)、A、?−チ=(Mart
ini)編、プレパラテイプ・オーガニック・ケミスト
リー(Preparative Organic
Che−mistry) (Wfley−Inters
cience社、NewYork)、1972年のG、
L/−77(Lehrnann)、H,フイヒ?7(
Eichmann)、[フォーメーション・オブ・カー
ボンーナイトロジエン・ポンド(For−mation
of Carbon−Nitrogen Bonds
)Jを参照〕を含む。 他の方法は、適当な酸・・ライド又は無水物を用いるベ
ンゼンのフリーデル−クラ7ツ・アンル化〔例えば、G
、 A、 、t ツー(01ah )、フリーデル−ク
ラフッ・アンド・リレイテツド・リアクションズ(Fr
idel−Crafts and Re1ated R
ea−cttons)、第1−IV巻(Wiley−I
nterscie−nce社、New Yo rk )
、1963〜1965)、続くカルボニル酸化の遺元的
除去〔例えば、C。 ヒショツ7 (Bischoff )、P、−G、デイ
ートリツヒ(Dietrich)、E、ヘット(H’o
’ f t )、D、ムo ウスキー(Mu r □w
s k i )、 [フォーメーション・オブ・カーボ
ン・ハイドロジエン・ボンダ(F□ rme −tio
n of Carbon−Hydrogen Bond
s)、G。 ヒルゲタグ(Hi Ige tag )、A、 −r−
f= (Marti−ni)編、プレパラテイプ・オー
ガニック・ケミスト リ − (Wiley−Inte
rsience 、New York)、1972
年〕、及び続くニトロ化である。 更に他の方法は、G、 A、ポスウx ル(B□ sw
e 11 )、Jr、、 W、 C,リプ、17 (R
ipka)、RoM、 スクリプナ−(Scribne
r)、C,W、 7 # Oツク(Tullrock)
、「フルオリネーション・パイ・サルファー・テトラフ
ルオリド、(Flu□rinatfon by 5ul
ferTetrafluoride)J及びC,M、シ
ャーン(Sharts)、W、 A、 シxバード(S
he ppard )、[モダン・メソツズ・ツー・フ
リペア・モノフルオルアリファテイツク・コンパウンダ
(ModernMethods to Prepar
e Monofluoroali−phatic Co
mpounds)J、W、G、ダウベン(Dauben
)i、オーガニック・リアクションズ、21巻(Wil
e:7社、New York)、1974年〕に参照さ
れている条件を用いることにより、適当な4−ニトロベ
ンジルアルコール、アルデヒド又はケトンをそのモノ又
はジフルオルアルキル同族体へ転化することを含む。 ニトロベンゼン(33)は方程式4dにおける(12)
の(13)への転化に対してすでに記述した条件を用い
てアニリン(34)に還元される。 次いで適当な溶媒中アニリン(34)を少くとも1当量
の無水酢酸で処理し、還流下に8〜24時間加熱する。 この反応混合物を冷却し、そしてアセトアニリド(35
)が結晶化するならばこれを集め、乾燥する。結晶化し
ない場合にはIN塩酸及び炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。溶媒を蒸
発させることによりアセトアニリド(35)を得る(方
程式3b)。 次イテG、レーマン及びH,タイヒマン(上m)による
一般的な条件を用いることによりニトロアセトアニリド
(36)を製造する(方程式8c)。 固体のすべてが溶解するまでIN塩酸中のアセトアニリ
ド(36)のスラリーを加熱する。次いでこの溶液を炭
酸水素ナトリウムで僅かに塩基性とし、ジクロルメタン
で抽出する。このジクロルメタン抽出物を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。溶媒の蒸発によりアニリン(3
7)を得る (方程式8R1に含まれる置換基の多くは
、置換基W、R6を配置すべき位置において置換しうる
ハロゲン原子を含むR3置換基を有するアニリン(37
)から製造される。斯くして適当な溶媒例えばN 、
N−ジメチルホルムアミド中ハライド(37)を1当量
よりも少し多い適当なナトリウム又はカリウム塩(38
)で処理する。 この混合物を20〜100℃に1〜8時間保つ。 次いで溶媒を蒸発させ、残渣を水及びジクロルメタン間
に分配させる。このジクロルメタン溶液を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過する。蒸発により所望の化合物(39
)を得る(方程式8e)。 次いでアニリン(39/37 )をジアゾ化し、そしテ
G、 T、 モー カン(IVIOrgan )及びE
、 A、クールソン(Coulson)、ジャーナル・
オブ・ケミ力k ・ソ+イエティー (J、 Chem
、Soc、 )、1929.2551に従ってサンドマ
イヤー反応に供し、ニトリル(40/40a)を得る(
方程式8f)。 更に75〜80%水性硫酸中ニトリル(40/40a)
の懸濁液を95〜100℃に2〜5時間加熱する。次い
で1〜2時間にわたり巨つ80〜100℃の温度におい
て、1.5〜2.5当喰の亜硝酸ナトリウムを少量ずつ
添加する。加熱を0.5〜1時間続け、次いで混合物を
冷却し、過剰の氷上に注ぐ。カルボン酸(41/41
a )が結晶化する場合には、これを集め、氷水でゆす
ぎ、そして乾燥する。結晶化しない場合には、水性混合
物をジクロルメタンで抽出する。このジクロルメタン溶
液を10イ炭酸ナトリウム水溶液で抽出する。 水性抽出物を濃塩酸で酸性にする。この時カルボン酸(
41/41a)が結晶化するならば、これを集め、氷水
でゆすき゛、乾燥する。結晶化しない場合には水溶液を
エーテルで抽出する。このエーテル抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濾過する。溶媒を蒸発させることによ
りカルボン酸(41/41 a )を得る(方程式8g
)。 前述した方法を用いることにより、カルボン酸(41)
はスルホンアミド(4C)に転化でき、同様に(41a
)は(4c’)を生成する(方程式Bh)。 スルホンアミド(4C)のR7置換基が方程式8gに記
述した強酸性条件に適合しない場合には、別の経路を使
用する。 R1がClXBr又は■で置換された01〜C4アルキ
ルである式(4C’)のスルホンアミドを、適当な溶媒
例えばアセトニドl)ル中において穏和な塩基例えばピ
リジンの存在下及び15〜25℃下に1当量のtert
−ブチルジメチルシリルクロライドで1〜8時間処理す
る。反応が薄層クロマトグラフィーで完結したと判断さ
れるならば、混合物を氷水上に注ぐ。シリルスルホンア
ミドが結晶化するならばこれを集め、水でゆすぎ、乾燥
する。 結晶化しないならば、水溶液をエーテルで抽出する。こ
のエーテル抽出物を乾燥し、濃縮し、(4Q’>のシリ
ルスルホンアミドを得る(方程式81)。 (4C’)のシリルスルホンアミドの、DMFのような
溶媒中の攪拌溶液を少くとも1尚量の(38)で0〜8
0℃下に1〜8時間処理する。反応が薄層クロマトグラ
フィーで完結したと判断されるならば、混合物を氷水上
に注ぎ、反応物を前述のように処理する(方程式8j)
。 次いで(4C)のシリルスルホンアミドは、テトラ−n
−プチルアンモニウムフルオリドを1゜8−ジアザビシ
クロ〔5・4・0〕 ウンデク−7−二ン(DBU)の
代りに塩基として用いることを除いて方程式3に記述し
たものと同一の条件を用いることにより、スルホニル尿
素(1)に直接転化することができる。 R7がスルフィニル又はスルホニル基である式(4)の
スルホンアミドは、方程式9における式(4dX n=
1)のスルフィニルスルホンアミド及ヒ式(4d、n=
2)のスルホニルスルホンアミドの製造に対して記述さ
れるものと同様の方法を用いて、対応するメルカプトス
ルホンアミドを過酸酸化することにより製造することが
できる。 例jハ式(4dXn = 1 )のスルフィニルスルホ
ンアミド及び式(4dX n=2)のスルホニルスルホ
ンアミドは方程式9に示す如き対応するチオスルホンア
ミドから製造することができる:方程式9 〔式中、RI及びR4は前述の通りであり、但しR4は
アルキルチオアルキル又ハノ10アルキルチオアルキル
ではなく、そしてnば1又は2である〕。 式(4dX n=1 )のスルフィニルスルホンアミド
を製造するためには、不活性な溶媒例えばジクロルメタ
ン及びテトラヒドロフランの混合物中の適当なチオスル
ホンアミド(4b)の攪拌溶液に、不活性な溶媒例えば
ジクロルメタン中1当量の過酸例えば3−クロルパーオ
キシ安息香酸を0〜5℃で添加する。次いでこの混合物
を20〜40℃に暖める。薄層クロマトグラフィーによ
りスルホンアミド(4b)が酸化されたことを確認した
ならば、混合物を順次59イ亜硫酸ナトリウム水溶液、
飽和炭酸水素すl−IJウム水溶液、水、及び食塩水で
洗浄し、乾燥(MgS04)する。次いで溶媒を蒸発さ
せることにより式(4dX n=1)のスルフィニルス
ルホンアミドラ得る。 式(4dX n=2)のスルホニルスルホンアミドを製
造するためには、1〜5モル%のラジカル禁止剤例えば
4,4−チオビス(6−tert−ブチル−m−クレゾ
ール)を含有する不活性な溶媒例えば1,2−ジクロル
エタン中の適当なチオスルホンアミド(=l b ’)
の攪拌混合物に、不活性な溶媒例えば1,2−ジクロル
エタン中の2当量より多い(R4がアルケニル又はアル
キニルの時には2当量の)過酸例えば3−クロルパーオ
キシ安息香酸の溶液を添加する。この混合物を50〜8
0℃に加熱する。薄層クロマトグラフィーがチオスルホ
ンアミド(4b)及び中間体のスルフィニルスルホンア
ミド(4dX n=1)の消費されたことを示したなら
ば混合物を冷却し、テトラヒドロフランで希釈してスル
ホンアミドを溶解させておく。 次いでスルフィニルスルホンアミ)’(、ld、n=1
)の製造に対してすでに記述したものと同一・の処理方
法を用いることにより、式(4d、n=2)のスルホニ
ルスルホンアミドを得る。 R1がアルキルチオアルキル又はノ\ロアルキルチオア
ルキルであり且つnが1又は2である式(4d)のスル
ホンアミドは、アルキルチオアルキル又ハハロアルキル
チオアルキル基を配置する位置に置換しうる・・ロゲン
原子を有する、R4モノ・・ロアルキル置換基をもつ式
(4d)の同族体スルホンアミドから製造することがで
きる。これらのモノハロアルキルスルホンアミドは先ず
第一に6−ベンジロキシサッカリンの製造に対して前述
したようにDBUを用いて対応するサッカリンに転化さ
れる。次いで・・ロゲン原子を、方程式8におけるハラ
イド(37)のチオエーテル(39)への転化に対して
前述した置換の条件を用いて適当なアルキルチオ又はハ
ロアルキルチオ基に置換スる。 適当なハロアルキルチオレート試薬が自己縮合に不安定
であるならば、対応するヒドロキシ−、カルボニル−1
及ヒ/又はカルボキシ含有アルキルチオレートが使用で
きる。チオエーテル橋の生成後、これらの含酸素基は技
術的に公知の多くの方法を用いて所望のハロゲン置換形
に添加することができる。最後に、方程式6bにおける
(23)から(4a)への転化に対してすでに記述した
方法により、サッカリンをR4がアルキルチオアルキル
又ハハロアルキルチオアルキルであり且つnが1又は2
である式(4d)の所望のスルホンアミドに開環する。 式(4e)のアミノスルホンアミドは方程式9.1に示
すように且つ下に議論する如く製造される。 方程式9.1 (41,2) (4e) 〔式中、R1及びX2は前述した通りであり、Rb′は
H又はアルキルであり、そしてR(′はH1アルキル、
又は・・ロアルキルである〕。 多くの場合、式(41,2)のアミンサッカリンは式(
30)のハロサッカリンを、公知の実験条件の1つ又は
それ以上を用いて1当量又はそれ以上の式(41,1)
の対応するアミン誘導体で処理することにより製造され
る。いくつかの場合、反応はアミン誘導体(41,1)
の過剰量を唯一の溶媒として用い、混合物を大気圧下に
或いはアミン誘導体の沸点、が必要とさせるならば過圧
下に30〜200℃まで加熱することによって行なうこ
とができる。他の場合には、極性の不活性な溶媒、例え
ばN、N−ジメチルホルムアミドを用いることが有利で
ある。アミン誘導体それ自体が製造しにくい或いは費用
がかかる場合、反応混合物に少くとも1当量の他の塩基
例えばトリエチルアミン、N、N−ジイソプロピル−N
−エチルアミン、ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデ
ク−7−オン、水素化ナトリウム、又はn−ブチルリチ
ウムが添加されるならば、アミン誘導体の使用量は1当
量より少し多めまで減することができる。更にアミン誘
導体を脱プロトンしつる非常に強塩基例えばn−ブチル
リチウム又は水素化ナトリウムを少くとも2当量使用す
れば、アミン誘導体の必要量が減るほかにtit換反応
の速度が促進され、技術的に良く知られる如くそれが低
温で進行するようになる。必要とされるアミン誘導体は
公知であり或いは公知の方法で製造しつる。 置換反応が完結した後、溶媒と過剰量のいずれかの揮発
性アミン誘導体(41,1’)を蒸発させ、残渣を5%
水酸化ナトリウム溶液に溶解する。そしてpHが7とな
るまで濃塩酸を添加する。サッカリンが結晶化する場合
にはこれを濾過する。さもなければ水溶液を塩で飽和さ
せ、次いでジクロルメタンで抽出し、そして多くの場合
にはこのジクロルメタンを蒸発させてサッカリン(41
,2)を得る。そうできなければ、水溶液を蒸発乾固し
、残渣をテトラヒドロフランで連続的に抽出する。 次いで溶媒を蒸発させることによりサッカリン(41,
2)を得る(方程式9.1a)。 いくつかの場合、式(41,2)のサッカリンは、アミ
ン基における置換基の少ない式(41,2)のサッカリ
ンから製造することができる。アニリンアミノ基及びそ
の誘導体のアルキル化に対しては種々の方法が技術的に
公知である。 式(4e)のスルホンアミドを製造するためには、適当
なアルコールR,0H(11)中のサッカリン(41,
2)の溶液又は忍濁液を塩化水素で飽和する。この混合
物を65〜80℃に1〜12時間加熱する。次いで溶媒
と塩化水素を蒸発させる。この残渣を食塩水及び5:1
(容量)ジクロルメタン−テトラヒドロフランの混合物
に溶解する。この激しく攪拌した混合物に、これが塩基
性となるまで炭酸ナトリウムを添加する。ジクロルメタ
ン−テトラヒドロフラン相を分離し、溶媒を蒸発させて
式(4e)のスルホンアミドを得る(方程式9、1 b
)。 スルホニルインシアネート(1)又は(IA)は、次の
2つの一般法の1つに従い、適合するR2 (R2′)
置換基を有する対応するスルホンアミ直4)又は(4A
)から1遺される。 方程式10 %式%() 〔式中、R1及びR2(R2’)は前述の通りである〕
。 キシレン又は他の135℃以上で沸とうする溶媒中のス
ルホンアミド(4)又は(4A)及びアルキルイソシア
ネート(例えばn−ブチルイソシアネート )を触媒量
の1,4−ジアザ〔2・2・2〕ビシクロオクタン(D
ABCO)の存在又は不存在下に混合し、135〜14
oc−=で加熱する。5〜10分後、この加熱した混合
物に温度が133〜135℃のままであるような速度で
ホスゲンをゆっくり添加する。ホスゲンの吸収が止まっ
た時、混合物を冷却し、濾過し、不溶性物質を除去する
。 最後に溶媒、アルキルイソシアネート及び過剰のホスゲ
ンを蒸発させて、スルホニルイソシアネート(1)又は
(IA)を残留させる。 所望によす、アルキルイソシアネート−スルホンアミド
付加物を製造し、ホスゲンとの反応前にこれを単離する
こともできる。この場合には、中性溶媒(例えばアセト
ン、ブタノン又はアセトニトリル)中においてスルホン
アミド(4)又は(4A)、アルキルイソシアネート、
及び無水の塩基(例えばに、 Co3)を混合し、そし
て還流下に1〜6時間加熱する。次いで反応混合物を水
で希釈し、pHを酸(例えばHCIXM2So4) で
約3に調節する。 そして生成物を炉別し、乾燥し、上述の如くホスゲンと
反応させる。この方法の態様は、スルホンアミド(4)
又は(4A)が高融点であり且つホスゲン化溶媒への溶
解度が低い場合に特に有用である。 スルホニルイソシアネート(1)又は(IA)は次の方
法でも製造しうる。 方程式11 〔式中、R1及びL(R#)は前述の通りである〕。 スルホンアミド(4)又は(4A)を過剰量の塩化チオ
ニル中において還流下に加熱する。この反応を、NMR
スペクトルにおいてスルホンアミドのプロトンが最早や
検出されなくなるまで継続する。チオニルアミド(42
)への完全な転化には、典型的には16時間〜5日間で
十分である(方程式11次いで塩化チオニルを蒸発させ
、そして残渣を、少くとも1当量(典型的には2〜3当
量)のホスゲンを含む不活性な溶媒(例えばトルエン)
で処理する。触媒量(典型的には0.1当量)のピリジ
ンを添加し、混合物を約60〜140℃に加熱する。こ
の時80〜100℃が好適である。インシアネート(1
)又は(IA)への転化は普通15分〜3時間以内に実
質的に完了する(方程式1 lb)。 次いで混合物を冷却し、濾過し、溶媒を蒸発させ、スル
ホニルイソシアネート(1)又は(IA)を得る。 下記式(2)の複素環族アミンは、公知であり、本明B
J書に開示され、或いは同業者には明白な方法によって
製造することができる。 2−アミン及び2−メチルアミノピリミジン(2、Z、
=CH)の合成及び反応に対しては、ザ・ケミストリー
・オプ・ヘテロサイクリック・コンパウンダ(The
Chemistry of Heterocy−cli
c Compounds)、16巻(Wi 1 e y
−I n t e −racience社、New Y
ork) (1962)を参照のこと。2−アミノ−及
び2−メチルアミノ−3−トリアジン(2,Z=N)の
合成及び反応に対しては、ザ・ケミストリー・オプ・ヘ
テロサイクリック・コンパウンダ(The Chemi
stry ofHeterocyclic Compo
unds)、第13巻(Wi ley −1nters
c fence 、 New York)(1959)
、F、 C,シx−77−(Schaefer)、米国
特許第3.154.537号、及びF、 C,シエー7
7−及びに、 B、 ハフーrン(Huffman)、
ジャーナル・オプ・オーガニック・ケミストリー、28
.1812(1963)を参照のこと。 いくつかの場合には、式(2)の複素環族化合物は、R
がC1(、の場合よりもHの時に容易に製造しつる。 多くの複素環族化合物(2,R=CH3)は次の2つの
方法の1つ又はそれ以上によって対応する複素環族化合
物(2、R=H)から製造することができる。 方程式12 %式%(43) 〔式中、Aは前述の通りである〕。 この方法の場合には、適当な複素環族化合物(2,R=
H)の、適当な中性溶媒(例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサン、グライム)中溶液又はスラリーを、0〜3
0℃下に2等量の水素化ナトリウムで処理する。気体の
発生が終った後、反応混合物を1当量のジメチルカーボ
ネートで処理し、20〜30℃で8〜24時間攪拌し、
ナトリウム塩(43)の懸濁液とする(方程式12a)
。 (43)を含む反応混合物を少くとも2当量のヨードメ
タンで処理し、次いで60〜80℃で8〜24時間加熱
する。この混合物を冷却し、濾過し、溶媒を蒸発させる
。残渣をジクロルメタン中に入れ、水洗し、そして溶媒
を蒸発させて、N−メチルカーバメート(44、R=C
H3)を得る(方程式カーバメート(44、R=CH,
)を、プロピレンガスで飽和した無水の、アルコールを
含まないクロロホルムに溶解する。1当量よシ僅かに多
い(典型的には1.1〜1.2当量の)ヨード) I)
メチルシランを添加し、この攪拌した溶液を50〜60
℃に2〜4時間加熱する。混合物を冷却し、2当食のメ
タノールを添加する。溶媒を蒸発させ、残渣をメタノー
ル中に入れる。この混合物をメタノール中10%ナトリ
ウムメトキシドで注意深く中和し、次いで溶媒を蒸発さ
せる。次いで残渣を氷水で中和する。沈殿が生成する場
合には、これを戸別し、氷水−でゆすぎ、乾燥して(2
、R=cn3)を得る。沈殿が生成しない場合には、溶
液に塩化す) IJウムを飽和させ、酢酸エチルで中和
する。溶媒の蒸発によシ複素環族化合物(2、R=CH
,)を得る(方程式12C)。 他に多くの場合には次の2段階法が有用である。 方程式13 〔式中、Aは前述の通りである〕。 アミン(2,R=H)の製塩酸中溶液を亜硝酸ナトリウ
ム溶液で処理し、そして酸性溶液の濾過による常法でク
ロル化合物(45)を分離する(方程式13a)。代表
的な方法は、Z=C1(及びx=y==QCH,の事例
に関して、ビー(Bee)及びローズ(Rose)、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエテイー、C0,1
966,2031に記述されている。 次いで複素環族化合物(45)を、適当な不活性な溶媒
(例えばテトラヒドロフラン、グライム又はジグライム
)中の少くとも2当量のメチルアミンで20〜80℃の
温度下に1〜18時間処理する(方程式13b)。そし
て反応混合物を冷却し、濾過する。溶媒の蒸発により、
少量のCH,NH3−C1−塩で汚れた(2 、 R=
CH3)を得る。この生成物は氷水でそしゃくすること
によって或いはジクロルメタンに溶解し、次いで少量の
水で洗浄し、乾燥し、溶媒を蒸発させることによって精
製することができる。更なる精製は再結晶又はシリカゲ
ルでのカラムクロマトグラフィーによって行なう。 下記の式(2a)〜(2C)の複素環族アミンは米国特
許第4.478.635号に教示されている。 (2a) (2b) (20)
いくつかの場合には、式(2)の複素環族化合物は、R
がCH,よりもRがHの時に容易に製造することができ
る。多くの複素環族化合物(2A 、 R=CH,)は
、次の2つの方法の1つ又はそれ以上によって対応する
複素環族化合物(2A、R=H)から製造しうる。 方程式12A (2,R=H) (43)(4
4,R=CH3) (C) (2A、R=Cf(、) この方法では、適当な中性溶媒(例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、グライム)中適轟な複素環族化合物
(2、R=H)の溶液又はスラリーを、0〜30℃下に
2当量の水素化ナトリウムで処理する。気体の発生後、
反応混合物を1当量のジメチルカーボネートで処理し、
20〜30℃で8〜24時間攪拌してナトリウム塩(4
3)の懸濁液を得る(方程式12Aa )。 次いで(43)を含有する反応混合物を少くとも2当量
のヨードメタンで処理し、60〜80℃に8〜24時間
加熱する。この残渣をジクロルメタンに捕捉させ、水洗
し、溶媒を蒸発させ、N−メチルカーバメー) (44
、R=C)(、)を得る(方程式12Ab )。 カーバメート(44,R=C)I、)を、プロピレンガ
スで飽和した無水の、アルコールを含まないクロロホル
ムに溶解する。1当量より僅かに多い(特ニ1.1〜1
.2当量の)ヨードトリメチルシランを添加し、攪拌し
た溶液を50〜60℃に2〜4時間加熱する。次いで混
合物を冷却し、2当量のメタノールを添加する。溶媒を
蒸発させ、残渣をメタノール中に入れる。混合物をメタ
ノール中10%ナトリウムメトキシドで注意深く中和し
、次いで溶媒を蒸発させる。この残渣を氷水でそしゃく
する。沈殿が生成する場合にはこれを戸別し、氷水でゆ
すぎ、乾燥して(2A 、 R=CH3)を得る。沈殿
が生成しない場合には、溶液を塩化すl−IJウムで飽
オロさせ、酢酸エチルで抽出する。溶媒の蒸発後に複素
環族化合物(2A 、 R=CH3)を得る(方和式1
2AC)。 他に多くの場合に次の2段階法が有用である。 方程式13A (a) (2A、、R=H) (45’)(b
) (2A、 R=CH,) 〔式中、Aは前述の通りである〕。 アミン(2A、R=H) の績塩酸溶液を亜硝酸ナトリ
ウム溶液で処理し、そして酸性溶液の濾過による常法に
従ってクロル化合物(45)を単離する(方程式13A
a )。代表的な方法はビー及びローズ、ジャーナル・
オブ・ケミカル・ソサイエテイー、C,,1966,2
031に記述されている。 次いで複素環族化合物(45)を、20〜80℃の温度
下に1〜18時間、適当な不活性な溶媒(例えばテトラ
ヒドロフラン、グライム、又はジグライム)中の少くと
も2当量のメチルアミンで処理する(方程式12b)。 この反応混合物を冷却し、濾過する。次いで溶媒の蒸発
により少量のCH,NH4+CI−塩で汚れた(2A、
R=CH,)を得る。 この生成物は氷水でのそしゃくによって、或いはジクロ
ルメタンへの溶解、少量の水での洗浄、乾燥及び溶媒の
蒸発によって精製しうる。再なる精製は再結晶又はシリ
カゲルでのカラムクロマトグラフィーによって行なうこ
とができる。 式(4a)、(4b)、(4d)、及び(4e)のスル
ホンアミドを、式I又は■の化合物の未素橋の構成前に
完全に処理するすでに記述した方法の別法として、式1
a又はllaの多くの化合物は方程式14又は14Aに
記述した方法によって製造することができる。 方程式14 〔式中、R1、XXX′5、Y及びZは前述の通りであ
り;WはS10又はNRbであり;Rbは前述の通りで
あり;R8はC4〜C6シクロアルキルアルキル、C2
〜C6アルケニル、C2〜C,ハロアルケニル、C1〜
C,フルキニル、Cs〜C6ハロアルキニル、C2〜C
IIアルコキシアルキル、C2〜C4ハロアルコキシア
ルキル、C2〜C8アルキルチオアルキル、C7〜C4
ハロアルキルチオアルキル、C2〜C4シアノアルキル
、CM、C(0)−CH,、CH,CH2C(0)CH
3又はC1〜C6アルキルである〕。 この方法においては、アセトニトリル及びN。 N−ジメチルホルムアミドの混合物のような極性溶媒中
の式(46)の適当な化合物の溶液を、2当量の強塩基
例えばナトリウムメトキシド又は触媒量のメタノールを
含む水素化す) IJウムで処理し、続いて1当量より
少し多い適当なアルキル化剤、アルケニル化剤又はアル
キニル化剤(47)で処理する。混合物を2〜24時間
20〜60℃に保つ。 次いで混合物を過剰の塩酸中に注ぐ。式1aの化合物が
結晶化する場合にはこれを濾過する。さもなければ、水
性混合物をジクロルメタンで抽出し、この溶媒を蒸発さ
せて式1a の化合物を得る。式(46)の化合物は順
次方穆式3に対して記述した一般的な方法に従い、式(
4a、 4b又は4c) の適当なスルホンアミドを
式(5,R=H)の適当な複素環族フェニルカーバメー
トとカップリングさせることによって製造される。 R8がアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアル
キル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、ア
ルキニル、ハロアルキニル、アルコキシアルキル、ハロ
アルコキシアルキル、シアノアルキル、−CH2C(0
)C)I3又は−〇)i2CH2C−(0)CH3であ
り、またWが5(0)又は5(0)2である式1aの化
合物の多くは、方程式9における(46)の(4d)へ
の転化
【対してすでに言及したものと同様の方法を用い
ることにより、WがSの式1aの対応する化合物を酸化
することによって製造することができる。 R2がカルボニロキシ、カルボニロキシ、ホスホリロキ
シ、スルホニロキシ、シリロキシ、又はホスホリルチオ
基を含む式Iの化合物は、技術的に公知の多くの方法を
用いることによりR2がヒドロキシル又はチオール基を
含む式■の対応する化合物から製造される。 方程式14A HW Y 〔式中、R,、X、、及びY′は前述の通りであし;W
はO,NRb’又はSであり、そしてR8はWが0のと
きアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、
アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキ
ルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、アルキル
スルフィニルアルキル、ハロアルキルスルフィニルアル
キル、アルキルスルホニルアルキル、ハロアルキルスル
ホニルアルキル又はシアノアルキルでアリ;R6はWが
Sのときアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、
アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル又は
シアノアルキルであり;そしてR6はWがNRb′(R
b2 は前述の通り)のときアルキル又は・・ロアルキ
ルである〕。 この方法では、極性溶媒例えばアセトニトリル及びN、
N−ジメチルホルムアミドの混合物中の適当な式(46
)の化合物の溶液を、2当量の強塩基例えばナトリウム
メトキシド又は触媒量のメタノールを含む水素化ナトリ
ウムで処理し、次いで1当量よりも少し多い適当なアル
キル化剤、アルケニル化剤又はアルキニル化剤(47)
で処理する。 混合物を20〜60℃に2〜24時間保つ。次いで混合
物を過剰な塩酸中に注ぐ。式1aの化合物が結晶化する
場合、これを濾過する。さもなければ、水性混合物をジ
クロルメタンで抽出し、溶媒の蒸発により式1[aの化
合物を得る。式(46)の化合物は順次方程式3Aに対
して記述した一般的な方法に従い、式(24)(W=0
)、(32)(W=S)、又は(4e)(R:c=H)
(W=NRb’)の適当なスルホンアミドを式(5A、
R=H)の適当な複素環族フェニルカーバメートとカッ
プリングさせることによって製造される。 R,7jl:フルキル、ハロアルキル、アルケニル、ア
ルキニル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキ
ル、又はシアノアルキルであり、またWが5(0)又は
5(O)2である式lIaの化合物は、方程式9におけ
る(4b)の(4d)への転化に対してずでに記述した
ものと同様の方法を用いることにより、WがSの式]a
の対応する化合物を酸化することによって製造すること
ができる。 次の実施例は本発明の合成法を更に例示する。 実施例1 無水N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)(500
d)中メチル2−(アミノスルホニル)−4−(メトキ
シ)ベンゾエート(24g、0139モル)に、カリウ
ムtert−ブトキシド(46,6g、0.42モル)
を滴々に添加した。この混合物を室温で15分間攪拌し
、次いで2−プロパンチオール(25me、 0.28
モル)を滴々に添加した。反応は37℃まで発熱し、均
一になった。混合物を還流温度に4時間加熱し、次いで
室温まで冷却した。この混合物を水で希釈し、pHが約
2になるまで濃HCIで酸性にした。均質な溶液を酢酸
エチルで抽出した。有機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した。これを濃縮することにより、
表題の化合物28.9を白色の固体として得た。融点1
48〜150℃。NMR(90MHz ) D、−アセ
トン3髪≠δ9.8(bs。 2H十水)、8.0(d、IH)及び7.5(m、27
)。 実施例2 △ 水性KO)((水10ゴ中0.85.5’、15ミリモ
ル)中6−ヒトロキシサツカリン(1,0,9,50ミ
リモル)の溶液に、塩化メチレン(25me ) 及び
テトラブチルアンモニウムプロマイ)’(0,2g、M 触媒)を添加した。過剰量のフレオン を添加し、反
応物をドライアイス/アセトン凝縮器の存在下に還流す
るまで加熱した。3時間後に反応物を濾過し、ν液を濃
HCIでpH2まで酸性にした。 固体を沖過によって集め、水洗し、乾燥して所望の化合
物0.32.9を白色の同体として得た。融点183〜
185℃。涙液から0.16 !?の更iる生成物を得
た。これを最初のものと一緒にした。 NMR(90MHz ) D6−アセトン:δ8.2(
d。 IH)、7.9(d、IH)、7.7 (dd 、 l
H)及び7.3 (t 、 IH,J=72Hz )。 実施例3 2−メトキシエタノール(25ml )中6−ジフルオ
ルメトキシサツカリン(1,5,9)の溶液を0℃まで
冷却し、MCI ガスを反応物中に30分間バブリン
グした。この混合物を還流下に20分間加熱し、25℃
まで冷却した。3時間後に薄層クロマトグラフィー(T
LC)で判断して変化がなくなってから、更に12時間
反応物を加熱した。次いで反応が完了したと判断し、反
応物を室温まで冷却し、濃縮した。得られた混合物を酢
酸エチル中に入れ、5%炭酸水素ナトリウム、続いて食
塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥した。 酋縮により、所望の化合物0.8gを白色の固体として
得た。融点80−81℃。NMR(200MHz )D
、−アセト/:δ7.9(d、IH)、7.8 (d
、 LH)、7.5(dd、IH)1.7.2(t、I
HXJ=72Hz)、4.4 (t 、 2)()、3
.8(t、2H)及び3.4(3,3H)。 実施例4 無水アセトニトリル(5mi)中2−メトキシエチル2
−(アミノスルホニル)−4−ジフルオルメトキシ)ベ
ンゾエート(0,1、’7.0,31ミリモル)及びジ
メトキシピリミジンフェニルヵーバメ−ト(0,09,
q、 0.31ミリモル)に、■、8−ジアザビシク
ロ〔5・4・0〕ウンデク−7−エン(DBU)(0,
5,Wl)を添加した。この混合物を1時間攪拌し、次
いで水及び1NHcl(pf(3まで)を添加した。得
られた固体を集め、水洗し、乾燥して所望の生成物0.
089を白色の固体として得た。融点121−125℃
。NMR(2Q Q MHz )D。−アセトン:δ1
3.2 (bs 、 1f()、9.2(bs。 11()、8. l (d 、IH)、7.9(d、I
H)、7.6(dd、IH)、7.2(t、LH)、5
.8(s、IH)、4.5(t、2H)、4.Q(s、
5H)、3.7 (t 、 2H)及び3.3(8,3
H)。 実施例5 ジオキシド N、N−ジメチルホルムアミド(1)MF)(50蔵)
中6−クロルサッカリン(10g、46ミリモル)及び
4−メトキシベンジルメルカプタン(7,8!?、50
ミリモル)にカリウムtert−ブトキシド(14L1
25ミリモル)を一部ずつ添加した。反応は60℃まで
発熱し、ゆっくりと室温まで冷却した。14時間攪拌し
た後、混合物を氷−水(100!?)上に注ぎ、濃HC
IでpH2まで酸性にした。所望の化合物を濾過によっ
て集め、水洗し、乾燥して白色の同体13gを得た。 融点162−165℃。NMR(90MHz)D、−ア
セトン:δ8,2(s、14()、8.0(s、2H)
、7.7(d、2H)、7.2(d、2H)、4.6(
S、2)1)及び3.8(s、3H)。 実施例6 トリフルオル酢酸(50i)中6−(4−メトキシベン
ジル)チオサッカリンの溶液を還流下に14時間加熱し
た。不均質な反応混合物を冷却し、固体を濾過によって
集めた。この固体を塩化ブチルで洗浄し、空気乾燥し、
所望の化合物6.3 !;!を緑色がかった固体として
得た。融点2’16−218℃。NMR(90MHz)
Do−7セトン:δ8.2 (S 。 lH)、7.95(3,2H)、5.3(bs、IH)
及び5.1(bs、LH)。 実施例7 ■、2−ベンズイソチアゾルー3(2H)−オン、N、
N−ジメチルホルムアミド(somz)中6−チオサッ
カリン(5,09,27,3ミリモル)に、カリウムt
ert−ブトキシドC6,79,60ミリモル)を一部
ずつ添加した。次いで2,2.2−トリフルオルエタノ
ールトルエンスルホネ−)(7,29,28ミリモル)
を一部分ずつ添加した。この混合物を室温で14時間攪
拌し、氷水上に注いだ。 この溶液を績HCIで1)H2の酸性にし、固体を濾過
によって集め、水性し、空気乾燥した。所望の化合物を
白色の固体として得た。融点17〇−173℃。NMR
(90MHz)D、−7セl−ン: δ8.3(s、L
H)、8.1(s、2H)、7.5 (bs 、 11
()及び4.2(q、2H)。 実施例8 ル 0℃のメタノール(5(7)中6−ドリフルオルエトキ
シーチオサツカリン(1,5g)中に)4Clガスを0
.5時間バブリングさせた。次いで溶媒を回転蒸発機で
除去し、固体を酢酸エチル中に入れ、5呵炭酸水素ナト
リウム、食塩水で洗浄し、そして硫酸マグネシウムで乾
燥した。濾過後、F液を濃縮し、所望の化合物を白色の
固体として得た。 融点117−120℃。NMR(200MHz ) D
。 −アセトン:δ8.1(s、IH)、7.95(8,2
H)、6.7 (bs 、 2H)、4.1(q、21
()及び3.95(s。 3f()。 実施例9 ム 無水アセトニトリル(5me)中メチル2−(アミノス
ルホニル)−4−(2、2、2−)リフルオルエチルチ
オ)ベンゼン(0,1,9X 0.3ミリモル)及びジ
メトキシピリミジンフェニルカーバメート(0,O1’
1g、0.31ミリモル)に、1,8−ジアザビシクロ
〔5・4・0〕ウンデク−7−エン(DBU)(0,5
モル)を添加した。この混合物を1時間攪拌し、次いで
水及びIN HCI (p)(3まで)を添加した。得
られた固体を集め、水洗し、乾燥して所望の物質0.1
.9を白色の固体として得た。融点171−173℃。 NMR(2QQMHz)D、−アセトン:δ12.3
(bs 、 LH)、9.l’1(bs。 IH)、8.3(d、IH)、8.Q (dd 、 I
H)、7,8(a、tH)、5.9(s、LH)、4.
1(q、21()、4.0 (s 、 6H)及び3.
9(S、3)I)。 上述の方法及び実施例を用いることにより、次の化合物
を製造した: :I: 工 :!::!: 工NI U (
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H3)CF2HH0CF2H NHCF HHMe 調製物 式I及び■の化合物の有用な調製物は通常の方法で製造
しうる。それらは、粉剤、粒剤、錠剤、懸濁剤、乳剤、
水和剤、濃厚乳剤などを含む。これらの多くのものは直
接施用できる。噴獅用3L4m物は、適当な媒体中で増
量でき、数リットル−数百リットル/ h aの噴霧容
量で用いられる。概述すると調製物は、活性欣分約α1
〜99重蓋チ、及びa)表面活性剤約α1〜20%及び
b)固体又は液体稀釈剤約1〜999%の少くとも1種
を金山する。更に特にv勾製物はこれらの成分を凡そ第
χ表に示す割合で含有するであろう:汀X表 重置%ゝ 油性成分 稀 釈 剤 表面活性沖」水和剤
20−90 0−74 1−10水性懸濁剤
10−50 40−84 .1−20粉fil
」1−25 70−99 0−5粒創及び錠貞り 1
−95 5−99.9 0−15高嬢度組成物
90−99 0−10 0−2本 活性成分十
表面活性剤又は稀釈剤の少くとも1棟=100重量% 勿論表より圓又は高量の活性成分も、意図する用途及び
化合物の物理性に応じて存在しうる。表面活性の活性成
分に対する高割合は特に望ましく、′A製物中への混入
により又はタンクでの混合にょシ達成される。 代衣的な固体稀釈剤は、ワトキンス(Wa tk i
n s)ら”J、’Handbook of In
5ecticideDust Diluents
and Carriers″、第2版、ドランドブッ
クス社(Dorland Books。 Caldwell、N、J、)VC記載されているが、
他の固体、即ち天然及び合成固体も使用しうる。水利剤
及び濃厚粉剤には更に吸着性稀釈剤が好適である0代表
的な液体稀釈剤及び溶媒は、マースデン(Marsde
n)蓄、”5olvents guide j。 第2版、インターサイエンス社(rntersienc
e・N、Y、)、1950年に記載されている。α1%
以下の溶解度は濃厚懸濁剤に好適であり;濃厚液剤は好
ましくは0℃での相分離に対して安定でるる。”McC
utcheon’s Detergents An
dEmulsifterg Annual−アルアレ
ラド出版社(Allured Publ、 Corpz
N、J、)、並びにシスリ(Sisely)及びウッ
ド(Wood>著、”Encyclopedia o
f 5urfaceActive Agents”、
ケミカル出版社(Chemical Publ、Co
@ Inc、。N、Y、)、1964年は、表面活性
及びその推奨用途を表示している。すべての調製物は、
泡立ち、ケーク化、腐食、微生物の生長などを減するた
めに少量の添加剤を含有してもよい。 そのような組成物の製造法は十分公知である。 液剤は各成分を単洗混せすることによって製造される。 微細な固体組成物は、ハンマーミル又は流体エネルギー
ミルを用いて混合し、普通粉砕することによって製造さ
れる。懸′S剤は、湿式ミル処理によって製造される〔
参照、リトツー(Littler)の米国特許第、5.
06 G、084号〕。粒剤及び錠剤は、活性物質を予
備成形した粒状担体上に噴霧することにより又は凝集法
により製造し、うる。参照、J、E、プロウニング(B
rowning)著、”Ag−glomeration
’、Chemical Engine−ering
、12月4日号、147頁(1967)、及びベリー(
Perry)著、ChemicalEngineer’
s Handbook、 第5版、8〜57頁、マ
ツフグロウ・ヒル社(McGraw−Hi l l m
N、Y、)、1973年。 更に調製の技術に関する文献については、例えば次のも
のを参照: H,M、ルークス(Loux)、米国特許第3.235
゜361号、第6欄16行〜第7J掬19行及び実施例
10〜41゜ R,W、ルツケンバウ(Luekenhaugh)、米
国特許第3,309.192号、第5欄43行〜第7欄
62行及び実施例8.12.15.39.41.52.
53.58.132.138〜140.162〜164
.166.167.169〜182゜ H,ジシン(Gysin)及びE、ヌスリ(Knusl
i)、米国特許第2,891,855号第6a66行〜
第5欄17行及び実施例1〜4゜G、C,クリングマン
(Kl i ngma n ) i、”Weed C
ontral as a 5cience”、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ社(JohnWile
y and 5ons* Inco、NmY、)
、1961年、81〜96頁。 J、D、フライヤー(Fry e r )及びS、A。 エバンス(Evans)著、−Weed Contr
olHandhook’、as!;!z、ブラックウェ
ル・サイエンティフィツク・ノクプリケーションズ(旧
ackvell 5cientific Publ
lca−tiOn3,0xford)、1968年、1
01〜103@。 次の実施例において、すべての部は断らない限9重重に
よるものとする。 実施例 10 水利性粉剤 リグニンスルホン酸ナトリウム 2%合成非
晶質シリカ 3%カオリナイ
ト 13%各地分を完全
に混合し、ミル例えば空気ミル又はハンマーミル中を通
過させて、25ミクロン以下の平均粒径とし、再び混合
し、米国標準ふるい50号(開口13 tan )を通
過させ、次いで包装した。 実施例 11 水利性粉剤 低粘度メチルセルロース 2%珪藻
± 46予各成分を混
合し、粗くハンマーミル処理し、次いで空気ミル処理し
て、本質的にすべてが直径10ミクロン以下の粒子とし
た。この生成物を再混合し、包装した。 実施例 12 粒剤 実施例11の水利性粉剤 5%ダブル
・コーン混合機において、アタパルガイド粒状物の表面
上に、固体25%を含有する水利性粉剤のスラリーを噴
勝した。次いで粒剤を乾燥し、そして包装した。 実施セ1J13 押出し錠剤 環水硫酸ナトリウム 10%租リ
クすンスルホン酸カルシウム 5%各月又分を
混合し、ハンマーミル処理し、次いで約12%の水で付
湿した。この混合物を直径約3咽の円柱状に押出し、こ
れを切断して長3間のペレットとした。これは乾燥後に
直接使用でき、或いは乾探したベレットを粉砕して米国
標準ふるい20号(開口α84■)を通過させた。米国
標準ふるい40号(開口α42 m )上に伐る粒状物
を使用のため包装し、−万ふるい下を循環した。 実施例 14 油性懸濁液 高級脂肪族灰化水素油 70%各地分
を、固体粒子が、約5ミクロン以下となるまでサンドミ
ル中で一祐に粉砕した。イ(Jられた粘性の懸濁液は直
接施用できるが、好−ましくけ油で増量し又は水中に乳
化させた住に用いた。 実施例 15 水第11性粉ハ1] ルホニル〕安息査叡メデルエステル 2L1%リ
グニンスルホンはナトリウム 4%低粘度メ
チルセルロース 5%アタパルガイ
ド 69%谷底分を完全に混
合した。ハンマーミルで粉砕して本質的にすべてが10
0ミクロン以下の粒子とした後、物質を再混合し、米国
5.鰍準ふるい5゜号(開口αδ咽)にかけ、包装した
。 実施例 16 低濃度粒剤 N、N−ジメチルホルムアミド 9%活性
成分を溶解し、この浴液を、ダブル・コーン混合機中に
おいて除粉した粒状物に噴霧した。 この溶液の噴霧が完了した後、混合機を短時間運転し、
次いで粒状物を包装し7’c。 実施例 17 水性懸濁液 ポリアクリル酸増粘剤 (15%燐醒
ジナトリウム 1%燐酸モノ
ナトリウム α5%ポリビニルア
ルコール 1.0%水
5&7%各成分を混
合し、サンドミル中で一緒に粉砕して、本質的にすべて
の粒子を粒径5ミクロン以下とした。 実施例 18 溶液剤 水
95%上記塩を、撹拌しながら水に直接添加して溶液と
し、次いでこれを使用のために包装した。 実施例 19 低濃度粒剤 活性成分を溶媒に溶解し、この溶液をダブル−コーン混
合機中において除塵した粒子上に吹霧した。浴液の噴霧
が完了した後、物質を暖めてfU媒を蒸発させた。この
物質を冷却し、包装した。 実施例 20 粒剤 湿潤剤 1%アタノ
ぐルガイト粘ヱ 9%各成分を
混合し、100メツシユのふるいを通過するように粉砕
した。次いでこの物質を流動床造粒機に添加し、望気流
を調節して穏やかに物質を@動させ、そして流動してい
る物質に細かい水をgXiした。次いで望ましい粒径範
囲の粒子が生成するまで流動と噴霧を続けた。そして噴
霧を停止したが、随時熱をかけながら含水量が所望の値
、一般には1%以下となるまで流動を継続した。次いで
物質を取り出し、所望の粒径範囲、一般に14〜100
メツシユ(1410〜149ミクロン)にふるいにかけ
、使用のために包装した。 実施例 21 高濃度濃厚物 シリカ・エーロゲル CL5%各
成分を、ハンマーミル中で混合し且つ粉砕して、本質的
にすべてが米国標準ふるい50号(開口CL 3 mm
)を通過する物質とした。この濃厚物は必要ならば更
に配付することができた。 実施例 22 水利性粉剤 チル 90%スルホ
コハクレジオクチル ナトリウム CL1%合
成微細シリカ 99%各成分を
混合し、ハンマーミルで粉砕して本質的にすべてが10
0ミクロン以下の粒子にした。 この物質を米国標準ふるい50号にかけ、次いで包装し
た。 実施例 23 水和性粉剤 4−(2,2,2−トリフルオル リグニンスルホン酸ナトリウム 20%モン
トモリロナイト粘土 40%各成分を完
全に混合し、粗くハンマーミル処理し、次いで空気ミル
処理して本質的にすべての粒子を粒径10ミクロン以下
とした。この物質を再び混合し、次いで包装した。 実施例 24 油性懸濁液 及び油溶性石油スルホネートの混合物 6%キ
シレン 59%各成分を
一緒にし、サンドミル中で粉砕して、本質的にすべての
粒子を5ミクロン以下とした。 この生成物は直接に、油で増量して、或いは水に乳化さ
せて使用することができた。 実施例 25 粉剤 アタノぐルガイト 10%
ピロフィライト 80%活性
成分をアクパルガイドと混合し、次いでハンマーミル中
を通過させて、本質的にすべての粒子を200ミクロン
以下とした。次いで粉砕した濃厚物を均一になるまで粉
末のピロフィライトと混合した。 実yavリ 26 乳化性濃厚核j クロルベンゼン 74%ソルビ
タンモノステアレート及び そのポリオキシエチレン縮合物 6%成分を
一緒にし、攪拌して使用時に水で乳化しうる溶液を製造
した。 用途 試験結果は、本発明の化合物が非常に活性な発芽前又は
発芽後除草剤又は植物生長調節剤であることを示す。こ
れらの多くはすべての植物の完全な駆除が望ましい場所
、例えば燃料貯蔵タンク付近、弾薬庫周辺、工業貯蔵区
域、駐車場、野外劇場、広告板周辺、高速道路、及び鉄
道区域における広い範囲の発芽前及び/又は発芽後の雑
草駆除に有用性をもつ。化合物のいくつかは作物例えば
コムギ、オオムギ、トウモロコシ、ワタ、ダイス、は特
に日本種イネ又は水稲を含む。本明細書に化合物88と
して示す化合セフば、水稲における望ましくない植物の
、駆除に、またコムギ及びオオムギにおけるブランクグ
ラスの駆除に特に有効である。 他に本化合物は植物の生長を改変するのに有用である。 本発明の化合物の施用割合は、駆除すべき雑草の1m
d 、天気及び気候、用いる配合物、施用方法、存在す
る葉の量などを含めて、多くの因子によって決定される
。一般的に言って、本化合物は約1004〜10にf/
haの童で施用すべきである。 この低い方の施用割合は、軽い土壌で及び/又は低い有
機物含量の土壌で用いるのに、或いは短期間の持続性だ
けが必要な状態に対して有効である。 本発明の化合物は他の市販の除草剤と組合せて使用しう
る。それは特に次の除草剤との組合せに有用である。 も 七゛ヘ ス I シト 1ぺ鞄
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工 工J(JCJ(J(J(J 講 2I
篇 漬 (J(J”Q f’l l”1 1’l
l”1 1’l F’) M (1’l
M m l”1己己己己己百己己巴己己 本発明の主題の化合物の除草性を多くの温室試験におい
て発見した。この試験法と結果は以下の通りである。 試験 A メヒシバ(Dig目、aria徨)、イヌビエ(k:c
hlnochloa erusgalll)、カラス
ムギ(Avena fatua)、シクルボツド(s
+1chlepod)(Caasia obtusH
olta)。 アサガオ(Ipomoeaa)、オナモミ(Xanth
ium pensylvanicum)、モロコシ、
トウモロコシ、ダイス、サトウダイコン、イネ、コムギ
、ワタの種子及びムラサキハマスゲ(Cyperua
rotundua)の塊茎を植え、植物に無害な溶剤
に溶解した試験化合物で発芽前処置した。同時にこれら
の作物及び雑草種を土壌7葉への施用により発芽後処置
をした。この処置期は、植物の筒さが2〜18L:mの
範囲であつ次いで処置した植物及び対照植物を16日間
中に保ち、その俊すべての種を対照植物と比装置に対す
る応答を肉眼で評価した。第A表約する評価は、0:=
:損傷なしから10=完全な死滅に至る数字の尺度に基
づくものである。これに続く文字記号は次の意味を有す
る: B=焼け C=黄色/頽壊 D=落葉 E=発芽阻止 G=生長遅延 H=影形成影響 S=色素欠乏症 U=異常な色素形成 X=腋芽刺激 6Y=膿瘍のできたつぼみ又は花 一=試験せず OO o x o o o o o o o
o o o o o o o 。 HΦ 0 00000eOOOOOOOOOOOオ o o Oo o Oo O000〜 oooo。 需 一 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 (’J
OOOO0Φ Oo o o Oo o o o o O−? 000
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セ試験 B ポリエチレンライナーで表面処理された直径10インチ
のプラスチック製の皿2つに、調製したフォールシント
ン(Fallsinton)沈泥ローム上を満した。1
つの皿には、コムギ、オオムギ、カラスムギ、スズメノ
チャヒキ(Bromussecallnus)、ブラッ
クグラス(Alopecurus myoauroi
das)S スズメツカラビラ(Poa annua
)、グリーンエノコログサ(Satarla var
idig)、セイヨウアブラナ(Bragalca
napug)、及びイタリヤドグムギ(Lo1%um
multiflorum) の種子を植えつけた。他の
皿にはロシャアザミ(Sα1aolakal i )、
コチア(Kochia 1coparia)。 スピード5エル(Vercontca peralc
a)。 ナズナ(Capse目a bur@a−pastor
tm)、マトリカリア・イントラ(Matricar%
八%ndora)へイヌホウズキ(Solanumns
qrum)、ヤセイソパ(Polygonumeonu
olvulus)、ガリウム・アノZリン(Galtu
m aporlne)及びサトウダイコンの種子を植
えつけた。これらの2つの皿を発芽前処置した。同時に
上記植物種の生育する2つの皿を発芽後処置した。この
処置の時期の植物の高さは植物種に依存して1〜15c
+++の範囲であった。 適用する化合物を無毒性の溶媒で希釈し、皿の表面上に
l!J霧した。未処置の対照物と溶媒だけの対照物も比
較のために呈示する。すべての処置を温室中で20日間
維持し、この時点で処置したものを対照と比較し、効果
を肉眼で評価した。 施用割合 K4/ h a α009
α016発芽前 コムギ 0オオ
ムギ 0カラスムギ
0ダウニープローム
− −スズメノチャヒキ
30 40ブラツクグラス
70 80スズメノカタビラ 30
40グリーンエノコログサ 0
20ヒメロモジグサ −− イタリヤドグムギ 00 リプグトブローム セイヨウアブラナ 95 100アキ
でキコムギ 00 アキマキオオムギ 00 ゴートゲラス 0化
合物 88 α032 α064 α125f30
90 90試験 C 側壁の底部付近に栓つきの排水口を備えた直径16cr
nのワグナ−(WAgner)ポットにウツズタウン(
Woodstown)砂状ローム土を満した。各ポット
に水1500rntを添加して、水量を土壌表面上3c
nIの点までにした。日本及びインド棟のイネの実生を
移植した。また各ポットに多くのイヌビエの極子を播い
た。同時に次の極の実生又は根茎を泥状の土壌に他えた
:ウォーター・プレーンテーン(water pla
intain)(Allsmatrivale)、シル
プス(Setrp、(lsamueranatus)及
びシペルス(Cyperusdifformim)。
この試験に選んだ雑草aIFi多くのイネの生育地域に
おいて経済的に重要なものでおる。化学的処置は、ヒシ
(Eleacharii種)、クワイ(Sagitta
ria 1atifolla)及びボンドプラント(
PotamogetonAmericp&nua)から
選択される2つの史なる種を移植してから数時間内に適
用した。処置から短時間後に排水口を開け、水準を2備
まで下降させた。次いで水を添加して水準を元の高さま
でに戻した。翌日この排水と再注水を繰返した。次いで
ポットを温室内に入れた。施用割合及び植物の応答評価
を処置から21日後に行なった。 これらの試験結果はイネの雑草の抑制に対する化合物8
8の有用性を示す。有用な施用割合は4〜2000 t
/ h a %好適には4〜32f/ha。 最も好ましくは8〜18f/haであった。
ることにより、WがSの式1aの対応する化合物を酸化
することによって製造することができる。 R2がカルボニロキシ、カルボニロキシ、ホスホリロキ
シ、スルホニロキシ、シリロキシ、又はホスホリルチオ
基を含む式Iの化合物は、技術的に公知の多くの方法を
用いることによりR2がヒドロキシル又はチオール基を
含む式■の対応する化合物から製造される。 方程式14A HW Y 〔式中、R,、X、、及びY′は前述の通りであし;W
はO,NRb’又はSであり、そしてR8はWが0のと
きアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、
アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルキ
ルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、アルキル
スルフィニルアルキル、ハロアルキルスルフィニルアル
キル、アルキルスルホニルアルキル、ハロアルキルスル
ホニルアルキル又はシアノアルキルでアリ;R6はWが
Sのときアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、
アルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル又は
シアノアルキルであり;そしてR6はWがNRb′(R
b2 は前述の通り)のときアルキル又は・・ロアルキ
ルである〕。 この方法では、極性溶媒例えばアセトニトリル及びN、
N−ジメチルホルムアミドの混合物中の適当な式(46
)の化合物の溶液を、2当量の強塩基例えばナトリウム
メトキシド又は触媒量のメタノールを含む水素化ナトリ
ウムで処理し、次いで1当量よりも少し多い適当なアル
キル化剤、アルケニル化剤又はアルキニル化剤(47)
で処理する。 混合物を20〜60℃に2〜24時間保つ。次いで混合
物を過剰な塩酸中に注ぐ。式1aの化合物が結晶化する
場合、これを濾過する。さもなければ、水性混合物をジ
クロルメタンで抽出し、溶媒の蒸発により式1[aの化
合物を得る。式(46)の化合物は順次方程式3Aに対
して記述した一般的な方法に従い、式(24)(W=0
)、(32)(W=S)、又は(4e)(R:c=H)
(W=NRb’)の適当なスルホンアミドを式(5A、
R=H)の適当な複素環族フェニルカーバメートとカッ
プリングさせることによって製造される。 R,7jl:フルキル、ハロアルキル、アルケニル、ア
ルキニル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキ
ル、又はシアノアルキルであり、またWが5(0)又は
5(O)2である式lIaの化合物は、方程式9におけ
る(4b)の(4d)への転化に対してずでに記述した
ものと同様の方法を用いることにより、WがSの式]a
の対応する化合物を酸化することによって製造すること
ができる。 次の実施例は本発明の合成法を更に例示する。 実施例1 無水N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)(500
d)中メチル2−(アミノスルホニル)−4−(メトキ
シ)ベンゾエート(24g、0139モル)に、カリウ
ムtert−ブトキシド(46,6g、0.42モル)
を滴々に添加した。この混合物を室温で15分間攪拌し
、次いで2−プロパンチオール(25me、 0.28
モル)を滴々に添加した。反応は37℃まで発熱し、均
一になった。混合物を還流温度に4時間加熱し、次いで
室温まで冷却した。この混合物を水で希釈し、pHが約
2になるまで濃HCIで酸性にした。均質な溶液を酢酸
エチルで抽出した。有機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した。これを濃縮することにより、
表題の化合物28.9を白色の固体として得た。融点1
48〜150℃。NMR(90MHz ) D、−アセ
トン3髪≠δ9.8(bs。 2H十水)、8.0(d、IH)及び7.5(m、27
)。 実施例2 △ 水性KO)((水10ゴ中0.85.5’、15ミリモ
ル)中6−ヒトロキシサツカリン(1,0,9,50ミ
リモル)の溶液に、塩化メチレン(25me ) 及び
テトラブチルアンモニウムプロマイ)’(0,2g、M 触媒)を添加した。過剰量のフレオン を添加し、反
応物をドライアイス/アセトン凝縮器の存在下に還流す
るまで加熱した。3時間後に反応物を濾過し、ν液を濃
HCIでpH2まで酸性にした。 固体を沖過によって集め、水洗し、乾燥して所望の化合
物0.32.9を白色の同体として得た。融点183〜
185℃。涙液から0.16 !?の更iる生成物を得
た。これを最初のものと一緒にした。 NMR(90MHz ) D6−アセトン:δ8.2(
d。 IH)、7.9(d、IH)、7.7 (dd 、 l
H)及び7.3 (t 、 IH,J=72Hz )。 実施例3 2−メトキシエタノール(25ml )中6−ジフルオ
ルメトキシサツカリン(1,5,9)の溶液を0℃まで
冷却し、MCI ガスを反応物中に30分間バブリン
グした。この混合物を還流下に20分間加熱し、25℃
まで冷却した。3時間後に薄層クロマトグラフィー(T
LC)で判断して変化がなくなってから、更に12時間
反応物を加熱した。次いで反応が完了したと判断し、反
応物を室温まで冷却し、濃縮した。得られた混合物を酢
酸エチル中に入れ、5%炭酸水素ナトリウム、続いて食
塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥した。 酋縮により、所望の化合物0.8gを白色の固体として
得た。融点80−81℃。NMR(200MHz )D
、−アセト/:δ7.9(d、IH)、7.8 (d
、 LH)、7.5(dd、IH)1.7.2(t、I
HXJ=72Hz)、4.4 (t 、 2)()、3
.8(t、2H)及び3.4(3,3H)。 実施例4 無水アセトニトリル(5mi)中2−メトキシエチル2
−(アミノスルホニル)−4−ジフルオルメトキシ)ベ
ンゾエート(0,1、’7.0,31ミリモル)及びジ
メトキシピリミジンフェニルヵーバメ−ト(0,09,
q、 0.31ミリモル)に、■、8−ジアザビシク
ロ〔5・4・0〕ウンデク−7−エン(DBU)(0,
5,Wl)を添加した。この混合物を1時間攪拌し、次
いで水及び1NHcl(pf(3まで)を添加した。得
られた固体を集め、水洗し、乾燥して所望の生成物0.
089を白色の固体として得た。融点121−125℃
。NMR(2Q Q MHz )D。−アセトン:δ1
3.2 (bs 、 1f()、9.2(bs。 11()、8. l (d 、IH)、7.9(d、I
H)、7.6(dd、IH)、7.2(t、LH)、5
.8(s、IH)、4.5(t、2H)、4.Q(s、
5H)、3.7 (t 、 2H)及び3.3(8,3
H)。 実施例5 ジオキシド N、N−ジメチルホルムアミド(1)MF)(50蔵)
中6−クロルサッカリン(10g、46ミリモル)及び
4−メトキシベンジルメルカプタン(7,8!?、50
ミリモル)にカリウムtert−ブトキシド(14L1
25ミリモル)を一部ずつ添加した。反応は60℃まで
発熱し、ゆっくりと室温まで冷却した。14時間攪拌し
た後、混合物を氷−水(100!?)上に注ぎ、濃HC
IでpH2まで酸性にした。所望の化合物を濾過によっ
て集め、水洗し、乾燥して白色の同体13gを得た。 融点162−165℃。NMR(90MHz)D、−ア
セトン:δ8,2(s、14()、8.0(s、2H)
、7.7(d、2H)、7.2(d、2H)、4.6(
S、2)1)及び3.8(s、3H)。 実施例6 トリフルオル酢酸(50i)中6−(4−メトキシベン
ジル)チオサッカリンの溶液を還流下に14時間加熱し
た。不均質な反応混合物を冷却し、固体を濾過によって
集めた。この固体を塩化ブチルで洗浄し、空気乾燥し、
所望の化合物6.3 !;!を緑色がかった固体として
得た。融点2’16−218℃。NMR(90MHz)
Do−7セトン:δ8.2 (S 。 lH)、7.95(3,2H)、5.3(bs、IH)
及び5.1(bs、LH)。 実施例7 ■、2−ベンズイソチアゾルー3(2H)−オン、N、
N−ジメチルホルムアミド(somz)中6−チオサッ
カリン(5,09,27,3ミリモル)に、カリウムt
ert−ブトキシドC6,79,60ミリモル)を一部
ずつ添加した。次いで2,2.2−トリフルオルエタノ
ールトルエンスルホネ−)(7,29,28ミリモル)
を一部分ずつ添加した。この混合物を室温で14時間攪
拌し、氷水上に注いだ。 この溶液を績HCIで1)H2の酸性にし、固体を濾過
によって集め、水性し、空気乾燥した。所望の化合物を
白色の固体として得た。融点17〇−173℃。NMR
(90MHz)D、−7セl−ン: δ8.3(s、L
H)、8.1(s、2H)、7.5 (bs 、 11
()及び4.2(q、2H)。 実施例8 ル 0℃のメタノール(5(7)中6−ドリフルオルエトキ
シーチオサツカリン(1,5g)中に)4Clガスを0
.5時間バブリングさせた。次いで溶媒を回転蒸発機で
除去し、固体を酢酸エチル中に入れ、5呵炭酸水素ナト
リウム、食塩水で洗浄し、そして硫酸マグネシウムで乾
燥した。濾過後、F液を濃縮し、所望の化合物を白色の
固体として得た。 融点117−120℃。NMR(200MHz ) D
。 −アセトン:δ8.1(s、IH)、7.95(8,2
H)、6.7 (bs 、 2H)、4.1(q、21
()及び3.95(s。 3f()。 実施例9 ム 無水アセトニトリル(5me)中メチル2−(アミノス
ルホニル)−4−(2、2、2−)リフルオルエチルチ
オ)ベンゼン(0,1,9X 0.3ミリモル)及びジ
メトキシピリミジンフェニルカーバメート(0,O1’
1g、0.31ミリモル)に、1,8−ジアザビシクロ
〔5・4・0〕ウンデク−7−エン(DBU)(0,5
モル)を添加した。この混合物を1時間攪拌し、次いで
水及びIN HCI (p)(3まで)を添加した。得
られた固体を集め、水洗し、乾燥して所望の物質0.1
.9を白色の固体として得た。融点171−173℃。 NMR(2QQMHz)D、−アセトン:δ12.3
(bs 、 LH)、9.l’1(bs。 IH)、8.3(d、IH)、8.Q (dd 、 I
H)、7,8(a、tH)、5.9(s、LH)、4.
1(q、21()、4.0 (s 、 6H)及び3.
9(S、3)I)。 上述の方法及び実施例を用いることにより、次の化合物
を製造した: :I: 工 :!::!: 工NI U (
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N(CH3)(CH2)2Bc HOMeN
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H3)CF2HH0CF2H NHCF HHMe 調製物 式I及び■の化合物の有用な調製物は通常の方法で製造
しうる。それらは、粉剤、粒剤、錠剤、懸濁剤、乳剤、
水和剤、濃厚乳剤などを含む。これらの多くのものは直
接施用できる。噴獅用3L4m物は、適当な媒体中で増
量でき、数リットル−数百リットル/ h aの噴霧容
量で用いられる。概述すると調製物は、活性欣分約α1
〜99重蓋チ、及びa)表面活性剤約α1〜20%及び
b)固体又は液体稀釈剤約1〜999%の少くとも1種
を金山する。更に特にv勾製物はこれらの成分を凡そ第
χ表に示す割合で含有するであろう:汀X表 重置%ゝ 油性成分 稀 釈 剤 表面活性沖」水和剤
20−90 0−74 1−10水性懸濁剤
10−50 40−84 .1−20粉fil
」1−25 70−99 0−5粒創及び錠貞り 1
−95 5−99.9 0−15高嬢度組成物
90−99 0−10 0−2本 活性成分十
表面活性剤又は稀釈剤の少くとも1棟=100重量% 勿論表より圓又は高量の活性成分も、意図する用途及び
化合物の物理性に応じて存在しうる。表面活性の活性成
分に対する高割合は特に望ましく、′A製物中への混入
により又はタンクでの混合にょシ達成される。 代衣的な固体稀釈剤は、ワトキンス(Wa tk i
n s)ら”J、’Handbook of In
5ecticideDust Diluents
and Carriers″、第2版、ドランドブッ
クス社(Dorland Books。 Caldwell、N、J、)VC記載されているが、
他の固体、即ち天然及び合成固体も使用しうる。水利剤
及び濃厚粉剤には更に吸着性稀釈剤が好適である0代表
的な液体稀釈剤及び溶媒は、マースデン(Marsde
n)蓄、”5olvents guide j。 第2版、インターサイエンス社(rntersienc
e・N、Y、)、1950年に記載されている。α1%
以下の溶解度は濃厚懸濁剤に好適であり;濃厚液剤は好
ましくは0℃での相分離に対して安定でるる。”McC
utcheon’s Detergents An
dEmulsifterg Annual−アルアレ
ラド出版社(Allured Publ、 Corpz
N、J、)、並びにシスリ(Sisely)及びウッ
ド(Wood>著、”Encyclopedia o
f 5urfaceActive Agents”、
ケミカル出版社(Chemical Publ、Co
@ Inc、。N、Y、)、1964年は、表面活性
及びその推奨用途を表示している。すべての調製物は、
泡立ち、ケーク化、腐食、微生物の生長などを減するた
めに少量の添加剤を含有してもよい。 そのような組成物の製造法は十分公知である。 液剤は各成分を単洗混せすることによって製造される。 微細な固体組成物は、ハンマーミル又は流体エネルギー
ミルを用いて混合し、普通粉砕することによって製造さ
れる。懸′S剤は、湿式ミル処理によって製造される〔
参照、リトツー(Littler)の米国特許第、5.
06 G、084号〕。粒剤及び錠剤は、活性物質を予
備成形した粒状担体上に噴霧することにより又は凝集法
により製造し、うる。参照、J、E、プロウニング(B
rowning)著、”Ag−glomeration
’、Chemical Engine−ering
、12月4日号、147頁(1967)、及びベリー(
Perry)著、ChemicalEngineer’
s Handbook、 第5版、8〜57頁、マ
ツフグロウ・ヒル社(McGraw−Hi l l m
N、Y、)、1973年。 更に調製の技術に関する文献については、例えば次のも
のを参照: H,M、ルークス(Loux)、米国特許第3.235
゜361号、第6欄16行〜第7J掬19行及び実施例
10〜41゜ R,W、ルツケンバウ(Luekenhaugh)、米
国特許第3,309.192号、第5欄43行〜第7欄
62行及び実施例8.12.15.39.41.52.
53.58.132.138〜140.162〜164
.166.167.169〜182゜ H,ジシン(Gysin)及びE、ヌスリ(Knusl
i)、米国特許第2,891,855号第6a66行〜
第5欄17行及び実施例1〜4゜G、C,クリングマン
(Kl i ngma n ) i、”Weed C
ontral as a 5cience”、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ社(JohnWile
y and 5ons* Inco、NmY、)
、1961年、81〜96頁。 J、D、フライヤー(Fry e r )及びS、A。 エバンス(Evans)著、−Weed Contr
olHandhook’、as!;!z、ブラックウェ
ル・サイエンティフィツク・ノクプリケーションズ(旧
ackvell 5cientific Publ
lca−tiOn3,0xford)、1968年、1
01〜103@。 次の実施例において、すべての部は断らない限9重重に
よるものとする。 実施例 10 水利性粉剤 リグニンスルホン酸ナトリウム 2%合成非
晶質シリカ 3%カオリナイ
ト 13%各地分を完全
に混合し、ミル例えば空気ミル又はハンマーミル中を通
過させて、25ミクロン以下の平均粒径とし、再び混合
し、米国標準ふるい50号(開口13 tan )を通
過させ、次いで包装した。 実施例 11 水利性粉剤 低粘度メチルセルロース 2%珪藻
± 46予各成分を混
合し、粗くハンマーミル処理し、次いで空気ミル処理し
て、本質的にすべてが直径10ミクロン以下の粒子とし
た。この生成物を再混合し、包装した。 実施例 12 粒剤 実施例11の水利性粉剤 5%ダブル
・コーン混合機において、アタパルガイド粒状物の表面
上に、固体25%を含有する水利性粉剤のスラリーを噴
勝した。次いで粒剤を乾燥し、そして包装した。 実施セ1J13 押出し錠剤 環水硫酸ナトリウム 10%租リ
クすンスルホン酸カルシウム 5%各月又分を
混合し、ハンマーミル処理し、次いで約12%の水で付
湿した。この混合物を直径約3咽の円柱状に押出し、こ
れを切断して長3間のペレットとした。これは乾燥後に
直接使用でき、或いは乾探したベレットを粉砕して米国
標準ふるい20号(開口α84■)を通過させた。米国
標準ふるい40号(開口α42 m )上に伐る粒状物
を使用のため包装し、−万ふるい下を循環した。 実施例 14 油性懸濁液 高級脂肪族灰化水素油 70%各地分
を、固体粒子が、約5ミクロン以下となるまでサンドミ
ル中で一祐に粉砕した。イ(Jられた粘性の懸濁液は直
接施用できるが、好−ましくけ油で増量し又は水中に乳
化させた住に用いた。 実施例 15 水第11性粉ハ1] ルホニル〕安息査叡メデルエステル 2L1%リ
グニンスルホンはナトリウム 4%低粘度メ
チルセルロース 5%アタパルガイ
ド 69%谷底分を完全に混
合した。ハンマーミルで粉砕して本質的にすべてが10
0ミクロン以下の粒子とした後、物質を再混合し、米国
5.鰍準ふるい5゜号(開口αδ咽)にかけ、包装した
。 実施例 16 低濃度粒剤 N、N−ジメチルホルムアミド 9%活性
成分を溶解し、この浴液を、ダブル・コーン混合機中に
おいて除粉した粒状物に噴霧した。 この溶液の噴霧が完了した後、混合機を短時間運転し、
次いで粒状物を包装し7’c。 実施例 17 水性懸濁液 ポリアクリル酸増粘剤 (15%燐醒
ジナトリウム 1%燐酸モノ
ナトリウム α5%ポリビニルア
ルコール 1.0%水
5&7%各成分を混
合し、サンドミル中で一緒に粉砕して、本質的にすべて
の粒子を粒径5ミクロン以下とした。 実施例 18 溶液剤 水
95%上記塩を、撹拌しながら水に直接添加して溶液と
し、次いでこれを使用のために包装した。 実施例 19 低濃度粒剤 活性成分を溶媒に溶解し、この溶液をダブル−コーン混
合機中において除塵した粒子上に吹霧した。浴液の噴霧
が完了した後、物質を暖めてfU媒を蒸発させた。この
物質を冷却し、包装した。 実施例 20 粒剤 湿潤剤 1%アタノ
ぐルガイト粘ヱ 9%各成分を
混合し、100メツシユのふるいを通過するように粉砕
した。次いでこの物質を流動床造粒機に添加し、望気流
を調節して穏やかに物質を@動させ、そして流動してい
る物質に細かい水をgXiした。次いで望ましい粒径範
囲の粒子が生成するまで流動と噴霧を続けた。そして噴
霧を停止したが、随時熱をかけながら含水量が所望の値
、一般には1%以下となるまで流動を継続した。次いで
物質を取り出し、所望の粒径範囲、一般に14〜100
メツシユ(1410〜149ミクロン)にふるいにかけ
、使用のために包装した。 実施例 21 高濃度濃厚物 シリカ・エーロゲル CL5%各
成分を、ハンマーミル中で混合し且つ粉砕して、本質的
にすべてが米国標準ふるい50号(開口CL 3 mm
)を通過する物質とした。この濃厚物は必要ならば更
に配付することができた。 実施例 22 水利性粉剤 チル 90%スルホ
コハクレジオクチル ナトリウム CL1%合
成微細シリカ 99%各成分を
混合し、ハンマーミルで粉砕して本質的にすべてが10
0ミクロン以下の粒子にした。 この物質を米国標準ふるい50号にかけ、次いで包装し
た。 実施例 23 水和性粉剤 4−(2,2,2−トリフルオル リグニンスルホン酸ナトリウム 20%モン
トモリロナイト粘土 40%各成分を完
全に混合し、粗くハンマーミル処理し、次いで空気ミル
処理して本質的にすべての粒子を粒径10ミクロン以下
とした。この物質を再び混合し、次いで包装した。 実施例 24 油性懸濁液 及び油溶性石油スルホネートの混合物 6%キ
シレン 59%各成分を
一緒にし、サンドミル中で粉砕して、本質的にすべての
粒子を5ミクロン以下とした。 この生成物は直接に、油で増量して、或いは水に乳化さ
せて使用することができた。 実施例 25 粉剤 アタノぐルガイト 10%
ピロフィライト 80%活性
成分をアクパルガイドと混合し、次いでハンマーミル中
を通過させて、本質的にすべての粒子を200ミクロン
以下とした。次いで粉砕した濃厚物を均一になるまで粉
末のピロフィライトと混合した。 実yavリ 26 乳化性濃厚核j クロルベンゼン 74%ソルビ
タンモノステアレート及び そのポリオキシエチレン縮合物 6%成分を
一緒にし、攪拌して使用時に水で乳化しうる溶液を製造
した。 用途 試験結果は、本発明の化合物が非常に活性な発芽前又は
発芽後除草剤又は植物生長調節剤であることを示す。こ
れらの多くはすべての植物の完全な駆除が望ましい場所
、例えば燃料貯蔵タンク付近、弾薬庫周辺、工業貯蔵区
域、駐車場、野外劇場、広告板周辺、高速道路、及び鉄
道区域における広い範囲の発芽前及び/又は発芽後の雑
草駆除に有用性をもつ。化合物のいくつかは作物例えば
コムギ、オオムギ、トウモロコシ、ワタ、ダイス、は特
に日本種イネ又は水稲を含む。本明細書に化合物88と
して示す化合セフば、水稲における望ましくない植物の
、駆除に、またコムギ及びオオムギにおけるブランクグ
ラスの駆除に特に有効である。 他に本化合物は植物の生長を改変するのに有用である。 本発明の化合物の施用割合は、駆除すべき雑草の1m
d 、天気及び気候、用いる配合物、施用方法、存在す
る葉の量などを含めて、多くの因子によって決定される
。一般的に言って、本化合物は約1004〜10にf/
haの童で施用すべきである。 この低い方の施用割合は、軽い土壌で及び/又は低い有
機物含量の土壌で用いるのに、或いは短期間の持続性だ
けが必要な状態に対して有効である。 本発明の化合物は他の市販の除草剤と組合せて使用しう
る。それは特に次の除草剤との組合せに有用である。 も 七゛ヘ ス I シト 1ぺ鞄
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篇 漬 (J(J”Q f’l l”1 1’l
l”1 1’l F’) M (1’l
M m l”1己己己己己百己己巴己己 本発明の主題の化合物の除草性を多くの温室試験におい
て発見した。この試験法と結果は以下の通りである。 試験 A メヒシバ(Dig目、aria徨)、イヌビエ(k:c
hlnochloa erusgalll)、カラス
ムギ(Avena fatua)、シクルボツド(s
+1chlepod)(Caasia obtusH
olta)。 アサガオ(Ipomoeaa)、オナモミ(Xanth
ium pensylvanicum)、モロコシ、
トウモロコシ、ダイス、サトウダイコン、イネ、コムギ
、ワタの種子及びムラサキハマスゲ(Cyperua
rotundua)の塊茎を植え、植物に無害な溶剤
に溶解した試験化合物で発芽前処置した。同時にこれら
の作物及び雑草種を土壌7葉への施用により発芽後処置
をした。この処置期は、植物の筒さが2〜18L:mの
範囲であつ次いで処置した植物及び対照植物を16日間
中に保ち、その俊すべての種を対照植物と比装置に対す
る応答を肉眼で評価した。第A表約する評価は、0:=
:損傷なしから10=完全な死滅に至る数字の尺度に基
づくものである。これに続く文字記号は次の意味を有す
る: B=焼け C=黄色/頽壊 D=落葉 E=発芽阻止 G=生長遅延 H=影形成影響 S=色素欠乏症 U=異常な色素形成 X=腋芽刺激 6Y=膿瘍のできたつぼみ又は花 一=試験せず OO o x o o o o o o o
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oooooo+oo。 田 g さトセ (λヤ(’2nJ−六ヤ中ヘヤ′(に
セ試験 B ポリエチレンライナーで表面処理された直径10インチ
のプラスチック製の皿2つに、調製したフォールシント
ン(Fallsinton)沈泥ローム上を満した。1
つの皿には、コムギ、オオムギ、カラスムギ、スズメノ
チャヒキ(Bromussecallnus)、ブラッ
クグラス(Alopecurus myoauroi
das)S スズメツカラビラ(Poa annua
)、グリーンエノコログサ(Satarla var
idig)、セイヨウアブラナ(Bragalca
napug)、及びイタリヤドグムギ(Lo1%um
multiflorum) の種子を植えつけた。他の
皿にはロシャアザミ(Sα1aolakal i )、
コチア(Kochia 1coparia)。 スピード5エル(Vercontca peralc
a)。 ナズナ(Capse目a bur@a−pastor
tm)、マトリカリア・イントラ(Matricar%
八%ndora)へイヌホウズキ(Solanumns
qrum)、ヤセイソパ(Polygonumeonu
olvulus)、ガリウム・アノZリン(Galtu
m aporlne)及びサトウダイコンの種子を植
えつけた。これらの2つの皿を発芽前処置した。同時に
上記植物種の生育する2つの皿を発芽後処置した。この
処置の時期の植物の高さは植物種に依存して1〜15c
+++の範囲であった。 適用する化合物を無毒性の溶媒で希釈し、皿の表面上に
l!J霧した。未処置の対照物と溶媒だけの対照物も比
較のために呈示する。すべての処置を温室中で20日間
維持し、この時点で処置したものを対照と比較し、効果
を肉眼で評価した。 施用割合 K4/ h a α009
α016発芽前 コムギ 0オオ
ムギ 0カラスムギ
0ダウニープローム
− −スズメノチャヒキ
30 40ブラツクグラス
70 80スズメノカタビラ 30
40グリーンエノコログサ 0
20ヒメロモジグサ −− イタリヤドグムギ 00 リプグトブローム セイヨウアブラナ 95 100アキ
でキコムギ 00 アキマキオオムギ 00 ゴートゲラス 0化
合物 88 α032 α064 α125f30
90 90試験 C 側壁の底部付近に栓つきの排水口を備えた直径16cr
nのワグナ−(WAgner)ポットにウツズタウン(
Woodstown)砂状ローム土を満した。各ポット
に水1500rntを添加して、水量を土壌表面上3c
nIの点までにした。日本及びインド棟のイネの実生を
移植した。また各ポットに多くのイヌビエの極子を播い
た。同時に次の極の実生又は根茎を泥状の土壌に他えた
:ウォーター・プレーンテーン(water pla
intain)(Allsmatrivale)、シル
プス(Setrp、(lsamueranatus)及
びシペルス(Cyperusdifformim)。
この試験に選んだ雑草aIFi多くのイネの生育地域に
おいて経済的に重要なものでおる。化学的処置は、ヒシ
(Eleacharii種)、クワイ(Sagitta
ria 1atifolla)及びボンドプラント(
PotamogetonAmericp&nua)から
選択される2つの史なる種を移植してから数時間内に適
用した。処置から短時間後に排水口を開け、水準を2備
まで下降させた。次いで水を添加して水準を元の高さま
でに戻した。翌日この排水と再注水を繰返した。次いで
ポットを温室内に入れた。施用割合及び植物の応答評価
を処置から21日後に行なった。 これらの試験結果はイネの雑草の抑制に対する化合物8
8の有用性を示す。有用な施用割合は4〜2000 t
/ h a %好適には4〜32f/ha。 最も好ましくは8〜18f/haであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、RはH又はCH_3であり; R_1はC_1〜C_3アルキル、C_3〜C_4アル
コキシアルキル、C_2〜C_4ハロアルキル、C_3
〜C_4アルケニル又はC_3〜C_4アルキニルであ
り; R_2はC_2〜C_6アルコキシ、C_3〜C_6シ
クロアルコキシ、C_4〜C_6シクロアルキルアルコ
キシ、C_1〜C_6ハロアルコキシ、C_2〜C_6
アルケニロキシ、C_2〜C_6ハロアルケニロキシ、
C_3〜C_6アルキニロキシ、C_3〜C_6ハロア
ルキニロキシ、C_2〜C_4アルコキシアルコキシ、
C_2〜C_4ハロアルコキシアルコキシ、C_2〜C
_4アルキルチオアルコキシ、C_2〜C_4ハロアル
キルチオアルコキシ、C_2〜C_4アルキルスルフィ
ニルアルコキシ、C_2〜C_4ハロアルキルスルフィ
ニルアルコキシ、C_2〜C_4アルキルスルホニルア
ルコキシ、C_2〜C_4ハロアルキルスルホニルアル
コキシ、C_2〜C_4シアノアルコキシ、OCH_2
C(O)CH_3、OCH_2CH_2C(O)CH_
3、C_2〜C_4アミノアルコキシ、C_1〜C_8
アルキルチオ、C_3〜C_6シクロアルキルチオ、C
_4〜C_6シクロアルキルアルキルチオ、C_1〜C
_3ハロアルキルチオ、C_2〜C_6アルケニルチオ
、C_2〜C_6ハロアルケニルチオ、C_3〜C_6
アルキニルチオ、C_3〜C_6ハロアルキニルチオ、
C_2〜C_4アルコキシアルキルチオ、C_2〜C_
4ハロアルコキシアルキルチオ、C_2〜C_4アルキ
ルチオアルキルチオ、C_2〜C_4ハロアルキルチオ
アルキルチオ、C_2〜C_4シアノアルキルチオ、 SCH_2C(O)CH_3、SCH_2CH_2C(
O)CH_3、C_2〜C_4アミノアルキルチオ、S
C_6H_5、SCH_2C_6H_5、C_1〜C_
5アルキルスルフィニル、C_3〜C_6シクロアルキ
ルスルフィニル、C_4〜C_6シクロアルキルアルキ
ルスルフィニル、C_1〜C_8ハロアルキルスルフィ
ニル、C_2〜C_6アルケニルスルフィニル、C_2
〜C_6ハロアルケニルスルフィニル、C_3〜C_6
アルキニルスルフィニル、C_3〜C_6ハロアルキニ
ルスルフィニル、C_2〜C_4アルコキシアルキルス
ルフィニル、C_2〜C_4ハロアルコキシアルキルス
ルフィニル、C_2〜C_4シアノアルキルスルフィニ
ル、S(O)CH_2C(O)CH_3、S(O)CH
_2CH_2C(O)CH3、C_2〜C_4アミノア
ルキルスルフィニル、C_2〜C_8アルキルスルホニ
ル、C_3〜C_6シクロアルキルスルホニル、C_4
〜C_6シクロアルキルアルキルスルホニル、C_1〜
C_8ハロアルキルスルホニル、C_2〜C_6アルケ
ニルスルホニル、C_2〜C_6ハロアルケニルスルホ
ニル、C_3〜C_6アルキニルスルホニル、C_3〜
C_6ハロアルキニルスルホニル、C_2〜C_4アル
コキシアルキルスルホニル、C_2〜C_4ハロアルコ
キシアルキルスルホニル、C_2〜C_4シアノアルキ
ルスルホニル、SO_2CH_2C(O)CH_3、S
O_2CH_2CH_2C(O)CH_3、C_2〜C
_4アミノアルキルスルホニル、CH_2F、CHF_
2、CH_2Cl、CHCl_2、CH_2Br、CH
Br_2、1〜3つのF、Cl又はBrの原子で置換さ
れたC_2〜C_6アルキル、C_2〜C_6アルケニ
ル、C_2〜C_6ハロアルケニル、C_≡CHNC_
2〜C_6ハロアルキニル、OC(O)C_1〜C_4
アルキル、CH_2C(O)NRaRb、NHCH_3
、NRbRc或いはC_1〜C_4アルコキシ、C_3
〜C_4シクロアルコキシ、シクロプロピルメトキシ、
C_1〜C_4ハロアルコキシ、C_2〜C_4アルケ
ニロキシ、C_2〜C_4ハロアルケニロキシ、C_3
〜C_4アルキニロキシ、C_3〜C_4ハロアルキニ
ロキシ、C_2〜C_4アルコキシアルコキシ、C_2
〜C_4アミノアルコキシ、C_1〜C_4アルキルカ
ルボニロキシ、C_1〜C_4ハロアルキルカルボニロ
キシ、C_1〜C_4カルバモイロキシ、C_1〜C_
4アルコキシカルボニロキシ、OH、OP(O)−(O
C_1〜C_2アルキル)_2、C_1〜C_4アルキ
ルスルホニロキシ、C_1〜C_2ハロアルキルスルホ
ニロキシ、OSi(CH_3)_3、OSi^−(CH
_3)_2C(CH_3)_3、C_1〜C_4アルキ
ルチオ、C_3〜C_4シクロアルキルチオ、シクロプ
ロピルメチルチオ、C_1〜C_4ハロアルキルチオ、
C_2〜C_4アルケニルチオ、C_2〜C_4ハロア
ルケニルチオ、C_3〜C_4アルキニルチオ、C_3
〜C_4ハロアルキニルチオ、C_2〜C_4アルコキ
シアルキルチオ、C_2〜C_4アミノアルキルチオ、
SH、SP(O)(OC_1〜C_2アルキル)_2、
C_1〜C_4アルキルスルフィニル、C_3〜C_4
シクロアルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスル
フィニル、C_1〜C_4ハロアルキルスルフィニル、
C_2〜C_4アルケニルスルフィニル、C_2〜C_
4ハロアルケニルスルフィニル、C_3〜C_4アルキ
ニルスルフィニル、C_3〜C_4ハロアルキニルスル
フィニル、C_2〜C_4アルコキシアルキルスルフィ
ニル、C_2〜C_4アミノアルキルスルフィニル、C
_1〜C_4アルキルスルホニル、C_3〜C_4シク
ロアルキルスルホニル、シクロプロピルメチルスルホニ
ル、C_1〜C_4ハロアルキルスルホニル、C_2〜
C_4アルケニルスルホニル、C_2〜C_4ハロアル
ケニルスルホニル、C_3〜C_4アルキニルスルホニ
ル、C_3〜C_4ハロアルキニルスルホニル、C_2
〜C_4アルコキシアルキルスルホニル又はC_2〜C
_4アミノアルキルスルホニルで置換されたC_1〜C
_4アルキルであり;R_2′はC_1〜C_3アルキ
ル、シクロプロピル、C_1〜C_3アルコキシ、C_
1〜C_3アルキルチオ、C_1〜C_3アルキルスル
フィニル、C_1〜C_3アルキルスルホニル、アリロ
キシ、アリルチオ、アリルスルフィニル、アリル スルホニル、プロパーギロキシ、プロパー ギルチオ、プロパーギルスルフィニル、プ ロパーギルスルホニル、C_1〜C_3ハロアルコキシ
、1〜3つのF又はClの原子で置 換されたC_1〜C_3アルキル、C_1〜C_2アル
コキシ、C_1〜C_2ハロアルコキシ、C_1〜C_
2アルキルチオ、C_1〜C_2ハロアルキルチオ、C
_1〜C_2アルキルスルフィニル、C_1〜C_2ハ
ロアルキルスルフィニル、C_1〜C_2アルキルスル
ホニル、C_1〜C_2ハロアルキルスルホニル、OH
又はOC(O)C_1〜C_2アルキルで置換されたC
_1〜C_2アルキル、C_1〜C_2アルコキシ、C
_1〜C_2ハロアルコキシ、C_1〜C_2アルキル
チオ、C_1〜C_2ハロアルキルチオ、C_1〜C_
2アルキルスルフィニル、C_1〜C_2ハロアルキル
スルフィニル、C_1〜C_2アルキルスルホニル、C
_1〜C_2ハロアルキルスルホニル又はCNで置換さ
れたC_1〜C_2アルコキシ、OCH_2CH_2N
H_2、OCH_2CH_2NHCH_3、OCH_2
CH_2N(CH_3)_2、C_1〜C_2アルコキ
シ、C_1〜C_2ハロアルコキシ、C_1〜C_2ア
ルキルチオ、C_1〜C_2ハロアルキルチオ又はCN
で置換されたC_1〜C_2アルキルチオ、C_1〜C
_3ハロアルキルチオ、C_1〜C_3ハロアルキルス
ルフィニル、C_1〜C_3ハロアルキルスルホニル、
C_2〜C_3アルケニル、C≡CH、NRb′Rc′
或いはOC(O)C_1〜C_2アルキルであり;Ra
及びRbは独立にH又はC_1〜C_3アルキルであり
; RcはC_2〜C_4アルキル、シクロプロピルメチル
、C_2〜C_4シアノアルキル、CH_2C−(O)
CH_3、CH_2CH_2C(O)CH_3、C_1
〜C_4ハロアルキル、C_3〜C_4アルケニル、C
_3〜C_4ハロアルケニル、C_3〜C_4アルキニ
ル、C_3〜C_4ハロアルキニル、C_1〜C_4ア
ルコキシ、C_1〜C_4アルキルチオ、C_1〜C_
4アルキルスルフィニル、C_1〜C_4アルキルスル
ホニル、OH、NH_2、NHCH_3又はN(CH_
3)_2で置換されたC_1〜C_4アルキルであり; Rb′はH又はC_1〜C_2アルキルであり;Rc′
はH、C_1〜C_2アルキル又はC_1〜C_2ハロ
アルキルであり; Y′はCH_3、OCH_3又はOCF_2Hであり;
XはCH_3、OCH_3、OC_2H_5、Cl又は
Brであり; YはC_1〜C_2アルキル、C_1〜C_2アルコキ
シ、OCH_2CH_2F、OCH_2CHF_2、O
CH_2C_F_3、NHCH_3又はN(CH_3)
_2であり;そしてZはCH又はNであり、但し 1)XがCl又はBrのとき、ZはCHで あり且つYはC_1〜C_2アルコキシ、NHCH_3
又はN(CH_3)_2であり;そして 2)R_2がSCH_3のとき、RはHであり、R_1
はCH_3であり、XはOCH_3であり、YはOCH
_3であり、そしてZはCHである〕の化合物及びその
農業的に適当な塩。 2、R_2がC_2〜C_6アルコキシ、C_1〜C_
8アルキルチオ、C_1〜C_8アルキルスルフィニル
、C_2〜C_3アルキルスルホニル、C_3〜C_6
アルケニロキシ、C_3〜C_6アルキニロキシ、C_
3〜C_6アルケニルチオ、C_3〜C_6アルケニル
スルフィニル、C_3〜C_6アルケニルスルホニル、
C_3〜C_6アルキニルチオ、C_3〜C_6アルキ
ニルスルフィニル、C_3〜C_6アルキニルスルホニ
ル、OCH_2CH_2OCH_3、OCH_2CH_
2SCH_3、OCH_2CH_2S(O)C_H_3
、OCH_2CH_2SO_2CH_3、1〜3つのF
、Cl又はBrの原子で置換されたC_2〜C_6アル
キル、CH_2F、CHF_2、C_1〜C_2アルコ
キシ、C_1〜C_2アルキルチオ、C_1〜C_2ア
ルキルスルフィニル又はC_1〜C_2アルキルスルホ
ニルで置換されたC_1〜C_4アルキル、OCF_2
H、OCH_2CH_2F、OCH_2CHF_2OC
H_2CF_3、OCH_2CH_2Cl、S−シクロ
ヘキシル、SC_6H_5或いはSCH_2C_6H_
5である、 特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3、R_2がCH_3S、C_3〜C_6アルケニロキ
シ、C_3〜C_6アルキニロキシ、C_3〜C_6ア
ルケニルチオ、C_3〜C_6アルケニルスルフィニル
、C_3〜C_6アルケニルスルホニル、C_3〜C_
6アルキニルチオ、C_3〜C_6アルキニルスルフィ
ニル、C_3〜C_6アルキニルスルホニル、1〜3つ
のF、Cl又はBrで置 換されたC_2〜C_6アルキル、非ベンジル位がC_
1〜C_2アルコキシ、C_1〜C_2アルキルチオ、
C_1〜C_2アルキルスルフィニル又はC_1〜C_
2アルキルスルホニルで置換されたC_1〜C_4アル
キル、OCH_2CH_2OCH_3、OCH_2CH
_2SC_H_3、OCH_2CH_2S(O)C_H
_3、OCH_2CH_2SO_2CH_3、OCF_
2H、OCH_2−CH_2F、OCH_2CHF_2
、OCH_2CF_3、OCH_2−CH_2Cl、S
−シクロヘキシル、SC_6H_5又はSCH_2C_
6H_5である、 特許請求の範囲第2項記載の化合物。 4、RがHである特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5、R_2がCH_3S、C_3〜C_4アルケニロキ
シ、C_3〜C_4アルケニルチオ、C_3〜C_4ア
ルケニルスルフィニル、C_3〜C_4アルケニルスル
ホニル、1〜3つのF又はClで置換さ れたC_2〜C_3アルキル、CH_2F、CH_F_
2、OCHF_2、OCH_2CH_2F、OCH_2
CF_3又はOCH_2CH_2Clである、 特許請求の範囲第4項記載の化合物。 6、R_1がCH_3又はCH_2CH_3であり;X
がCH_3、OCH_3又はClであり;そしてYがC
H_3、OCH_3、C_2H_5又はOC_2H_5
である、 特許請求の範囲第5項記載の化合物。 7、R_2′がC_1〜C_3アルキル、シクロプロピ
ル、C_1〜C_3アルコキシ、C_1〜C_3アルキ
ルチオ、C_1〜C_3アルキルスルフィニル、C_1
〜C_3アルキルスルホニル、アリロキシ、アリルチオ
、アリルスルフィニル、アリルス ルホニル、プロパーギロキシ、プロパーギ ルチオ、プロパーギルスルフィニル、プロ パーギルスルホニル、OCF_2H、OCH_2CH_
2F、OCH_2CHF_2、OCH_2CF_3、O
CH_2CH_2Cl、或いは1〜3つのF又はClの
原子で置換 されたC_1〜C_3アルキル、OCH_3又はSCH
_3で置換されたC_1〜C_2アルキルである、特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 8、R_2′がC_1〜C_2アルキル、C_1〜C_
2アルコキシ、C_1〜C_3アルキルチオ、C_1〜
C_3アルキルスルフィニル、C_1〜C_3アルキル
スルホニル、CF_3、プロパーギロキシ、プロパーギ
ルチオ、プロパーギルスルフィニ ル、プロパーギルスルホニル、OCF_2H、OCH_
2CH_2F、OCH_2CHF_2、OCH_2CF
_3OCH_2CH_2Cl、CH_2CH_2OCH
_3又はCH_2C_H2−SCH_3である、特許請
求の範囲第7項記載の化合物。 9、RがHであり; R_1がC_1〜C_2アルキルであり; R_2′がC_1〜C_2アルキル、C_1〜C_2ア
ルコキシ、C_1〜C_3アルキルチオ、CF_3又は
OCF_2Hであり;そして Y′がCH_3又はOCH_3である、 特許請求の範囲第8項記載の化合物。 10、特許請求の範囲第1〜9項記載のいずれかの化合
物の有効量と次のもの:表面活性剤、固体又は液体希釈
剤の少くとも1種を含んでなる望ましくない植物の生長
を抑制するための或いは植物の生長調節剤として使用す
るための農業的に適当な組成物。 11、特許請求の範囲第1〜9項記載のいずれかの化合
物の有効量を保護すべき区域に施用することを含んでな
る望ましくない植物の生長を抑制する方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US80112085A | 1985-11-22 | 1985-11-22 | |
US801165 | 1985-11-22 | ||
US801120 | 1985-11-22 | ||
US826682 | 1986-02-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62129276A true JPS62129276A (ja) | 1987-06-11 |
Family
ID=25180244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61277866A Pending JPS62129276A (ja) | 1985-11-22 | 1986-11-22 | 除草性スルホンアミド類 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62129276A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5059238A (en) * | 1989-02-08 | 1991-10-22 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-(substituted hydrazino)-benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
US5129942A (en) * | 1989-02-20 | 1992-07-14 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-( (2,3-dimethylmaleimido)amino)-benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
US5151114A (en) * | 1989-02-08 | 1992-09-29 | Hideo Arahori | N-substituted-3-(substituted hydrazino)benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
US5198566A (en) * | 1989-02-08 | 1993-03-30 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-(substituted hydrazino)-benzenesulfonamides |
-
1986
- 1986-11-22 JP JP61277866A patent/JPS62129276A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5059238A (en) * | 1989-02-08 | 1991-10-22 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-(substituted hydrazino)-benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
US5151114A (en) * | 1989-02-08 | 1992-09-29 | Hideo Arahori | N-substituted-3-(substituted hydrazino)benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
US5198566A (en) * | 1989-02-08 | 1993-03-30 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-(substituted hydrazino)-benzenesulfonamides |
US5129942A (en) * | 1989-02-20 | 1992-07-14 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | N-substituted-3-( (2,3-dimethylmaleimido)amino)-benzenesulfonamide derivatives, and herbicidal compositions |
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