JPS62128038A - 光デイスク基板 - Google Patents
光デイスク基板Info
- Publication number
- JPS62128038A JPS62128038A JP60267859A JP26785985A JPS62128038A JP S62128038 A JPS62128038 A JP S62128038A JP 60267859 A JP60267859 A JP 60267859A JP 26785985 A JP26785985 A JP 26785985A JP S62128038 A JPS62128038 A JP S62128038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- center hole
- optical disk
- spacer
- groove
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は文書ファイル、データファイル用の高密度メモ
リとして用いられている記録、再生または消去可能の光
ディスク基板に関するものである。
リとして用いられている記録、再生または消去可能の光
ディスク基板に関するものである。
従来の技術
近年、ＯＡ化が急速に広がり、文書ファイル。
データファイル用の高密度メモリが望まれているが、高
密度可能な媒体としては光ディスク等がある。
密度可能な媒体としては光ディスク等がある。
光ディスクはレーザ光によって記録再生または消去を行
うとともに光ディスク基板に形成された同心円または螺
旋状の案内溝を検知してトラッキングを行うものである
。しかし、トラッキングを確実にするためには光ディス
ク基板に形成された案内溝とディスクの中心孔の偏心量
が少ないことが要求される。
うとともに光ディスク基板に形成された同心円または螺
旋状の案内溝を検知してトラッキングを行うものである
。しかし、トラッキングを確実にするためには光ディス
ク基板に形成された案内溝とディスクの中心孔の偏心量
が少ないことが要求される。
従来、光ディスク基板を作製する方法としてインジェク
ション法、キャスティング法、７オトポリマー法が多く
用いられている。その場合、光ディスク基板における案
内溝と中心孔の偏心のないことが要求されると同時に光
ディスク基板に記録媒体を形成した後、２枚を貼り合せ
る場合にやはり中心孔と案内溝の中心の偏心がないこと
が要求される。
ション法、キャスティング法、７オトポリマー法が多く
用いられている。その場合、光ディスク基板における案
内溝と中心孔の偏心のないことが要求されると同時に光
ディスク基板に記録媒体を形成した後、２枚を貼り合せ
る場合にやはり中心孔と案内溝の中心の偏心がないこと
が要求される。
以下図面を参照しながら説明する。第３図は従来例にお
ける光ディスク基板の断面図である。
ける光ディスク基板の断面図である。
第３図において、１は基板、２は記録領域の案内溝、６
は仮の中心孔である。中心孔について述べるとインジェ
クション法では寸法の正しい中心孔が設けられている場
合が多い。また、キャスティング法では仮の中心孔６が
設けられている場合がある。フォトポリマー法において
は基板１にガラスを用いている場合とプラスチックを用
いられている場合があるが、やはり仮の中心孔５が設け
られている場合が多い。
は仮の中心孔である。中心孔について述べるとインジェ
クション法では寸法の正しい中心孔が設けられている場
合が多い。また、キャスティング法では仮の中心孔６が
設けられている場合がある。フォトポリマー法において
は基板１にガラスを用いている場合とプラスチックを用
いられている場合があるが、やはり仮の中心孔５が設け
られている場合が多い。
しかし、この光ディスク基板の段階においては仮の中心
孔５と記録領域の案内溝２の偏心のずれは、次に示す貼
合せの時点で補正されるため高精度は要求されない。第
４図は従来例における光ディスク基板を用いて作製した
光ディスクの断面図を示す。尚、第３図、第４図におい
て、断面を示すハンチングは省略している。
孔５と記録領域の案内溝２の偏心のずれは、次に示す貼
合せの時点で補正されるため高精度は要求されない。第
４図は従来例における光ディスク基板を用いて作製した
光ディスクの断面図を示す。尚、第３図、第４図におい
て、断面を示すハンチングは省略している。
第４図において、２は記録領域の案内溝、６は中心孔、
７は記録媒体、８は中心孔スペーサ、９は外周部スペー
サである。
７は記録媒体、８は中心孔スペーサ、９は外周部スペー
サである。
ここで光ディスクの作製方法として、よく用いられるの
は第４図のように光ディスクを貼り合せた後、記録領域
の案内溝７の外周部、または内周部の端部を基準として
、中心孔スペーサ８に再加工して最終的な中心孔６を形
成する方法がある。
は第４図のように光ディスクを貼り合せた後、記録領域
の案内溝７の外周部、または内周部の端部を基準として
、中心孔スペーサ８に再加工して最終的な中心孔６を形
成する方法がある。
図面では第４図に示すような基板と基板の間に空気層を
設けたエア・ギャップ方式を示したが、図面で記載して
いないが直接、エアギャップなしに貼り合せる方法も同
様に後に仮の中心孔を加工して最終的に中心孔を形成す
る方法が用いられている。
設けたエア・ギャップ方式を示したが、図面で記載して
いないが直接、エアギャップなしに貼り合せる方法も同
様に後に仮の中心孔を加工して最終的に中心孔を形成す
る方法が用いられている。
発明が解決しようとイ擾閏皿点
しかしながら、従来における光ディスクの作製法は、中
心孔を形成するために、記録領域の案内溝の外周部また
は内周部の端部の少なくとも３点以上の顕微鏡またはビ
デオカメラなどで中心を検出し、その後、仮の中心孔を
、ドリル、旋盤などで精密な再加工をする必要があった
。
心孔を形成するために、記録領域の案内溝の外周部また
は内周部の端部の少なくとも３点以上の顕微鏡またはビ
デオカメラなどで中心を検出し、その後、仮の中心孔を
、ドリル、旋盤などで精密な再加工をする必要があった
。
本発明は上記問題点に鑑み、光ディスク基板に記録領域
の案内溝以外に別の溝を形成することにより、中心孔を
案内溝の偏心が少なく組み立てが容易で寸法精度の高い
光ディスク基板を提供するものである。
の案内溝以外に別の溝を形成することにより、中心孔を
案内溝の偏心が少なく組み立てが容易で寸法精度の高い
光ディスク基板を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
本発明は光ディスク基板の記録領域以外の外周部または
内周部に記録領域の案内溝から分離させて同心円または
螺旋状の溝を形成させたものである。この溝は中心出し
をするだめのものであり、溝形状は径方向に溝部と非溝
部は交互であってもよく、円周方向には断続的であって
もよい。
内周部に記録領域の案内溝から分離させて同心円または
螺旋状の溝を形成させたものである。この溝は中心出し
をするだめのものであり、溝形状は径方向に溝部と非溝
部は交互であってもよく、円周方向には断続的であって
もよい。
作 用
本発明は上記した構成により光ディスク基板の非記録領
域に形成した同心円または螺旋状の溝部と非溝部の反射
率の違いを検知し、その境界を知ることができる。この
境界は記録領域の案内溝を形成する方法と同一工程のた
め記録領域の案内溝とは同心円または同一の中心をもっ
た螺旋溝となっている。この溝部と非溝部の境界と寸法
精度の高い中心孔スペーサの端部、またはあらかじめ設
けた目印を合致させることにより中心出しをすることと
なる。
域に形成した同心円または螺旋状の溝部と非溝部の反射
率の違いを検知し、その境界を知ることができる。この
境界は記録領域の案内溝を形成する方法と同一工程のた
め記録領域の案内溝とは同心円または同一の中心をもっ
た螺旋溝となっている。この溝部と非溝部の境界と寸法
精度の高い中心孔スペーサの端部、またはあらかじめ設
けた目印を合致させることにより中心出しをすることと
なる。
実施例
以下本発明の実施例について図面を参照しながら説明す
る。第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板
の断面図を示す。尚ハンチングは省略している。
る。第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板
の断面図を示す。尚ハンチングは省略している。
第１図において、１は基板、２は記録領域の案内溝、３
は内周部溝、４は外周部溝である。
は内周部溝、４は外周部溝である。
ここで案内溝の形成方法について述べるとまずガラス基
板上に設けられたフォトレジストにレーザー光を照射し
、その照射部分を除去することによって案内溝が作られ
る。この工程はマスタリング工程と呼ばれる。その後こ
のフォトレジスト面にニッケルメッキを施こし、フォト
レジスト面から剥離することにより、スタンパが作製さ
れる。
板上に設けられたフォトレジストにレーザー光を照射し
、その照射部分を除去することによって案内溝が作られ
る。この工程はマスタリング工程と呼ばれる。その後こ
のフォトレジスト面にニッケルメッキを施こし、フォト
レジスト面から剥離することにより、スタンパが作製さ
れる。
このスタンパは光ディスク基板を直接作製する金型とな
るわけである。従って第１図に示す光ディスク基板を作
製するためにはマスタリング工程において光ディスクと
同じ溝形状を有した型を作る必要がある。
るわけである。従って第１図に示す光ディスク基板を作
製するためにはマスタリング工程において光ディスクと
同じ溝形状を有した型を作る必要がある。
この前述した工程によって作製されたスタンパを用いて
、インジェクション法、キャスティング法、フォトポリ
マー法によって光ディスク基板は作製される。その場合
に基板と一体で仮の中心孔６を形成してもよく。また、
光ディスク基板作製後に打ち抜いてもよい。
、インジェクション法、キャスティング法、フォトポリ
マー法によって光ディスク基板は作製される。その場合
に基板と一体で仮の中心孔６を形成してもよく。また、
光ディスク基板作製後に打ち抜いてもよい。
次に第２図の本発明の実施例における光ディスり基板を
用いて作製した光ディスクの断面図を示す。断面を示す
ハンチングは省略した。第２図において、１は基板、２
は記録領域の案内溝、３は内周部溝、４は外周部溝、６
は中心孔、７は記録媒体、８は中心孔スペーサ、９は外
周部スペーサである。
用いて作製した光ディスクの断面図を示す。断面を示す
ハンチングは省略した。第２図において、１は基板、２
は記録領域の案内溝、３は内周部溝、４は外周部溝、６
は中心孔、７は記録媒体、８は中心孔スペーサ、９は外
周部スペーサである。
第１図で示した透明な光ディスク基板に記録媒体７を蒸
着またはスパッタ等で形成した光ディスク２枚を中心孔
スペーサ８と外周部スペーサ９を介して貼り合せたもの
である。この時、中心孔スペーサ８の端部は内周部溝に
一致させて固定したものである。この場合、中心孔スペ
ーサ８にあらかじめ印をつけそれと合致させることも可
能である。従って光ディスク基板と中心孔スペーサ８の
間は寸法の余裕が必要である。また図面では表わしてい
ないが中心孔スペーサ８のフランジ部を長くとれば外周
部溝４と合致させることも可能である。
着またはスパッタ等で形成した光ディスク２枚を中心孔
スペーサ８と外周部スペーサ９を介して貼り合せたもの
である。この時、中心孔スペーサ８の端部は内周部溝に
一致させて固定したものである。この場合、中心孔スペ
ーサ８にあらかじめ印をつけそれと合致させることも可
能である。従って光ディスク基板と中心孔スペーサ８の
間は寸法の余裕が必要である。また図面では表わしてい
ないが中心孔スペーサ８のフランジ部を長くとれば外周
部溝４と合致させることも可能である。
第２図はエアギャップ方式で示しているが、本方式は直
接密閉貼り合せでも可能であり、１枚だけ用いる単板方
式でも同様な考え方で中心出しが可能である。
接密閉貼り合せでも可能であり、１枚だけ用いる単板方
式でも同様な考え方で中心出しが可能である。
発明の効果
本発明は光ディスク基板の非記録領域を除く内周部また
は外周部に溝部を形成することにより光ディスク作製が
容易となり、光ディスク作製後に中心孔を再加工する必
要がなくなった。また中心孔と案内溝の偏心量を１０μ
ｍ以下の高精度に作製が可能となる。
は外周部に溝部を形成することにより光ディスク作製が
容易となり、光ディスク作製後に中心孔を再加工する必
要がなくなった。また中心孔と案内溝の偏心量を１０μ
ｍ以下の高精度に作製が可能となる。
第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板の断
面図、第２図は同光ディスク基板を用いて作製した光デ
ィスクの断面図、第３図は従来例における光ディスク基
板の断面図、第４図は従来例における光ディスク基板を
用いて作製した光ディスクの断面図を示す。 １・・・・・・基板、２・・・・・・記録領域の案内溝
、３・・・・・・内周部溝、４・・・・・・外周部溝、
６・・・・・・仮の中心孔、６・・・・・・中心孔、了
・・・・・・記録媒体、°８・・・・・・中心孔スペー
サ、９・・・・・・外周部スペーサ。
面図、第２図は同光ディスク基板を用いて作製した光デ
ィスクの断面図、第３図は従来例における光ディスク基
板の断面図、第４図は従来例における光ディスク基板を
用いて作製した光ディスクの断面図を示す。 １・・・・・・基板、２・・・・・・記録領域の案内溝
、３・・・・・・内周部溝、４・・・・・・外周部溝、
６・・・・・・仮の中心孔、６・・・・・・中心孔、了
・・・・・・記録媒体、°８・・・・・・中心孔スペー
サ、９・・・・・・外周部スペーサ。
Claims (1)
- 記録領域以外の外周部または内周部に記録領域の案内溝
から分離させて同心円または螺旋状の溝を形成したこと
を特徴とする光ディスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267859A JPS62128038A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 光デイスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267859A JPS62128038A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 光デイスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62128038A true JPS62128038A (ja) | 1987-06-10 |
Family
ID=17450626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60267859A Pending JPS62128038A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 光デイスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62128038A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63130919U (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-26 |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60267859A patent/JPS62128038A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63130919U (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-26 |
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