JPS62127742A - マスク自動洗浄装置 - Google Patents
マスク自動洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62127742A JPS62127742A JP60268024A JP26802485A JPS62127742A JP S62127742 A JPS62127742 A JP S62127742A JP 60268024 A JP60268024 A JP 60268024A JP 26802485 A JP26802485 A JP 26802485A JP S62127742 A JPS62127742 A JP S62127742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- track
- cleaning
- cleaned
- cassette
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路の写真蝕刻工程に使用される
メタルマスク及びその材料であるメタルプレートの洗浄
の際に用いる洗浄装置に関するものである。
メタルマスク及びその材料であるメタルプレートの洗浄
の際に用いる洗浄装置に関するものである。
従来、この種の洗浄装置は硝酸、硫酸、過酸化水素水等
の薬品を用いた化学洗浄、界面活性剤等を用いた洗剤洗
浄、ブラシ、超音波等を用いた物理洗浄及び乾燥方法と
してイソプロピルアルコール、フレオン等の有機溶剤を
用いたペーパ乾燥、リンサードライヤーによるスピン乾
燥等とを組み合せて構成されており、近年では、数種の
工程間を各種搬送手段により自動的に洗浄物を搬送する
自動洗浄装置も製造、使用されるようになってきたＯ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら上述し次従来の自動洗浄装置においては、
洗浄物であるマスク又はプレートの供給や回収方法等に
問題があり、人間が専用に被洗浄物を供給したり、人手
を省こうとして装置を大型にし、被洗浄物の入ったカセ
ット及び処理済のマスク又はプレートを入れるための空
力セットを複数個−列にして装置のローダ及びアンロー
ダに並べたりしていた。この様な装置においては、大型
化によるクリーンルームでの専有面積の増大あるいは人
件費の増大という問題が生じ、ひいてはマスク価格の上
昇、半導体集積回路のコストアップという弊害を引き起
こす結果となっていた。
の薬品を用いた化学洗浄、界面活性剤等を用いた洗剤洗
浄、ブラシ、超音波等を用いた物理洗浄及び乾燥方法と
してイソプロピルアルコール、フレオン等の有機溶剤を
用いたペーパ乾燥、リンサードライヤーによるスピン乾
燥等とを組み合せて構成されており、近年では、数種の
工程間を各種搬送手段により自動的に洗浄物を搬送する
自動洗浄装置も製造、使用されるようになってきたＯ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら上述し次従来の自動洗浄装置においては、
洗浄物であるマスク又はプレートの供給や回収方法等に
問題があり、人間が専用に被洗浄物を供給したり、人手
を省こうとして装置を大型にし、被洗浄物の入ったカセ
ット及び処理済のマスク又はプレートを入れるための空
力セットを複数個−列にして装置のローダ及びアンロー
ダに並べたりしていた。この様な装置においては、大型
化によるクリーンルームでの専有面積の増大あるいは人
件費の増大という問題が生じ、ひいてはマスク価格の上
昇、半導体集積回路のコストアップという弊害を引き起
こす結果となっていた。
本発明は従来装置の前記不都合点に鑑みてなさｆ″した
ものであり、その目的とするところは、自動運転可能時
間の増大、装置の小型化を図る自動洗浄装置を提供する
ものである。
ものであり、その目的とするところは、自動運転可能時
間の増大、装置の小型化を図る自動洗浄装置を提供する
ものである。
本発明は半導体集、積回路の写真蝕刻工程に使用される
メタルマスク及びその材料であるメタルプレート等の被
洗浄物を洗浄、乾燥する装置において、被洗浄物を前洗
浄する前洗浄部と、被洗浄物を１枚ずつスクラブ洗浄す
るスクラバーと、被洗浄物を水洗、乾燥処理する水洗、
乾燥部とを有し、被洗浄物の入ったカセットを前洗浄部
に供給する軌道と、前洗浄終了後スクラバーのローダ部
から空になったカセットを回収する軌道と、スクラバー
のアンローダ部にスクラブ終了後の洗浄物収納用カセッ
トを供給する軌道と、乾燥終了後の洗浄物の入ったカセ
ットを回収する軌道とを、それぞれループ状に配置した
ことを特徴とするマスク自動洗浄装置である。
メタルマスク及びその材料であるメタルプレート等の被
洗浄物を洗浄、乾燥する装置において、被洗浄物を前洗
浄する前洗浄部と、被洗浄物を１枚ずつスクラブ洗浄す
るスクラバーと、被洗浄物を水洗、乾燥処理する水洗、
乾燥部とを有し、被洗浄物の入ったカセットを前洗浄部
に供給する軌道と、前洗浄終了後スクラバーのローダ部
から空になったカセットを回収する軌道と、スクラバー
のアンローダ部にスクラブ終了後の洗浄物収納用カセッ
トを供給する軌道と、乾燥終了後の洗浄物の入ったカセ
ットを回収する軌道とを、それぞれループ状に配置した
ことを特徴とするマスク自動洗浄装置である。
以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明によるマスク自動洗浄装置の一実施例の
平面図である。第１図、第２図において、本発明装置は
被洗浄物を前洗浄する前洗浄部１と、被洗浄物を１枚ず
つスクラブ洗浄するスクラバー２と、被洗浄物を水洗、
乾燥処理する水洗、乾燥部３とを有し、被洗浄物の入っ
たカセットを前洗浄部１に供給する軌道Ｌ０及び前洗浄
終了後スクラバー２０ローダ４がら空になったカセット
を回収する軌道Ｌ２と、スクラバー２のアンローダ５に
スクラブ終了後の洗浄物収納用カセットを供給する軌道
Ｌ３及び乾燥終了後の洗浄物の入ったカセットを回収す
る軌道Ｌ４とをそれぞれループ状に配置したものである
。
平面図である。第１図、第２図において、本発明装置は
被洗浄物を前洗浄する前洗浄部１と、被洗浄物を１枚ず
つスクラブ洗浄するスクラバー２と、被洗浄物を水洗、
乾燥処理する水洗、乾燥部３とを有し、被洗浄物の入っ
たカセットを前洗浄部１に供給する軌道Ｌ０及び前洗浄
終了後スクラバー２０ローダ４がら空になったカセット
を回収する軌道Ｌ２と、スクラバー２のアンローダ５に
スクラブ終了後の洗浄物収納用カセットを供給する軌道
Ｌ３及び乾燥終了後の洗浄物の入ったカセットを回収す
る軌道Ｌ４とをそれぞれループ状に配置したものである
。
実施例において、ローダ４に並べられたカセット（実施
例では５個）には被洗浄物であるマスク又はプレートが
入っている。被洗浄物の入ったカセットは、システムの
始動によりローダ４から移載部６に移され、移載部６か
らはトラバーサ１０により前洗浄部１に運ばれ、そこで
所定の処理が行われる。前洗浄が終了したカセットはス
クラバー２０ローダを兼ねる移載部７にトラバーサ１０
により運ばれ、カセット内の被洗浄物は１枚毎スクラブ
洗浄される。スクラバー２に全ての被洗浄物を供給し空
になったカセットは、移載部７及びローダ４により元の
位置（第２図２１）まで搬送され、再び被洗浄物のセッ
トされるのを待つことになる。
例では５個）には被洗浄物であるマスク又はプレートが
入っている。被洗浄物の入ったカセットは、システムの
始動によりローダ４から移載部６に移され、移載部６か
らはトラバーサ１０により前洗浄部１に運ばれ、そこで
所定の処理が行われる。前洗浄が終了したカセットはス
クラバー２０ローダを兼ねる移載部７にトラバーサ１０
により運ばれ、カセット内の被洗浄物は１枚毎スクラブ
洗浄される。スクラバー２に全ての被洗浄物を供給し空
になったカセットは、移載部７及びローダ４により元の
位置（第２図２１）まで搬送され、再び被洗浄物のセッ
トされるのを待つことになる。
ローダ４に並んだ残りのカセットはシステムのシーケン
スに従い、次々に前記カセットと同様に搬送、処理され
る。−力、スクラブ洗浄が終了した被洗浄物は、アンロ
ーダ５及び移載部８により供給されたカセットに入り、
このカセットはトラバーサ１１により水洗、乾燥部３に
移され、所定の処理を受ける。乾燥の終了したカセット
はトラバーサ１１、移載部９及びアンローダ５により元
の位置（第２図２２）に戻り、待機する。当然ながら、
残りの他のカセットも同様に搬送、処理される。
スに従い、次々に前記カセットと同様に搬送、処理され
る。−力、スクラブ洗浄が終了した被洗浄物は、アンロ
ーダ５及び移載部８により供給されたカセットに入り、
このカセットはトラバーサ１１により水洗、乾燥部３に
移され、所定の処理を受ける。乾燥の終了したカセット
はトラバーサ１１、移載部９及びアンローダ５により元
の位置（第２図２２）に戻り、待機する。当然ながら、
残りの他のカセットも同様に搬送、処理される。
以上説明したように本発明による自動洗浄装置を用いる
ことにより、あらかじめ複数個のカセットをセットでき
、しかも空になったカセット又は処理済のカセットを自
動的に回収できるから従来装置に比較して著しく自動洗
浄時間を増大でき、さらに軌道をループ状に配置したの
で、全長を小型化でき、人件費の削減、ひいてはマスク
のコスト低減、半導体集積回路のコスト低減に寄与でき
るという効果を有するものである。
ことにより、あらかじめ複数個のカセットをセットでき
、しかも空になったカセット又は処理済のカセットを自
動的に回収できるから従来装置に比較して著しく自動洗
浄時間を増大でき、さらに軌道をループ状に配置したの
で、全長を小型化でき、人件費の削減、ひいてはマスク
のコスト低減、半導体集積回路のコスト低減に寄与でき
るという効果を有するものである。
第１図は本発明によるマスク自動洗浄装置の一実施例の
平面図、第２図は本装置におけるカセットの流れを示す
模式図である。 １・・・前洗浄部、２・・・スクラバー、３・・・水洗
、乾燥部、４・・・ローダ、５・・・アンローダ、
６，７，８．９・・・移載部、１０・・・トラバーサ、
１１・・・トラバーサ、２１・・・前洗浄部第１カセッ
トのスタート位置及び戻り位置、２２°゛水洗、乾燥部
第１カセットのスタート位置及び戻り位置 特許出願人 日本電気株式会社 第１図 第２図
平面図、第２図は本装置におけるカセットの流れを示す
模式図である。 １・・・前洗浄部、２・・・スクラバー、３・・・水洗
、乾燥部、４・・・ローダ、５・・・アンローダ、
６，７，８．９・・・移載部、１０・・・トラバーサ、
１１・・・トラバーサ、２１・・・前洗浄部第１カセッ
トのスタート位置及び戻り位置、２２°゛水洗、乾燥部
第１カセットのスタート位置及び戻り位置 特許出願人 日本電気株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- （１）半導体集積回路の写真蝕刻工程に使用されるメタ
ルマスク及びその材料であるメタルプレート等の被洗浄
物を洗浄、乾燥する装置において、被洗浄物を前洗浄す
る前洗浄部と、被洗浄物を１枚ずつスクラブ洗浄するス
クラバーと、被洗浄物を水洗、乾燥処理する水洗、乾燥
部とを有し、被洗浄物の入つたカセットを前洗浄部に供
給する軌道と、前洗浄終了後スクラバーのローダ部から
空になつたカセットを回収する軌道と、スクラバーのア
ンローダ部にスクラブ終了後の洗浄物収納用カセットを
供給する軌道と、乾燥終了後の洗浄物の入つたカセット
を回収する軌道とを、それぞれループ状に配置したこと
を特徴とするマスク自動洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60268024A JPS62127742A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | マスク自動洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60268024A JPS62127742A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | マスク自動洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127742A true JPS62127742A (ja) | 1987-06-10 |
Family
ID=17452832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60268024A Pending JPS62127742A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | マスク自動洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127742A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140727A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法 |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60268024A patent/JPS62127742A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140727A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法 |
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