JP3005507U - キャリアレスウエハ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハキャリアを使用しないキャリアレス方
式のウエハ洗浄において、洗浄を終えたウエハの再収納
に伴う清浄度低下を防止する。 【構成】 キャリアＣに収納されて搬入されたウエハＷ
を、ローダ１でキャリアＣから取り出す。そのウエハＷ
をウエハ洗浄部２でキャリアレス洗浄する。ウエハＷが
取り出されたキャリアＣをキャリア洗浄部３で洗浄し、
アンローダ４でそのキャリアＣに洗浄後のウエハＷを収
納する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体装置製造プロセスに使用されるウエハ洗浄装置に関し、特に 、ウエハキャリアを使用しないでウエハを洗浄処理するキャリアレス方式のウエ ハ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

近年、ウエハ洗浄分野においては、装置の小型化、薬液および純水の消費量低 減のために、ウエハキャリアを使用しないでウエハを洗浄するキャリアレス方式 のウエハ洗浄装置が開発されている。しかし、キャリアレスと言えども、洗浄す べきウエハをウエハ洗浄装置へ搬入したり、洗浄を終えたウエハをウエハ洗浄装 置から搬出する際には、やはり運搬用キャリアが使用される。

【０００３】 図２（Ａ）（Ｂ）は従来のキャリアレスウエハ洗浄装置を示す模式平面図であ る。図２（Ａ）のウエハ洗浄装置においては、運搬用キャリアＣに収納されて送 られてきたウエハＷが、ローダ１で運搬用キャリアＣから取り出される。そのウ エハＷはウエハ洗浄部２に送られ、ここでキャリアレス洗浄処理された後、アン ローダ４に送られる。そして、アンローダ４で、前記運搬用キャリアＣとは別の 搬出専用キャリアＣ′に収納され、外部へ搬出される。

【０００４】 図２（Ｂ）のウエハ洗浄装置においては、運搬用キャリアＣに収納されて送ら れてきたウエハＷが、ローダ１で運搬用キャリアＣから取り出される。そのウエ ハＷは、ウエハ洗浄部２を経てアンローダ４に送られる。一方、ウエハＷが取り 出された運搬用キャリアＣは、ローダ１からアンローダ４へ直送され、ウエハ洗 浄部２を経てアンローダ４に送られてきた洗浄後のウエハＷを収納する。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

このようなキャリアレスウエハ洗浄装置においては、洗浄を終えたウエハの清 浄度を低下させないために、そのウエハを収納するキャリアが清浄であることが 求められる。しかし、図２（Ｂ）の従来装置は、ウエハ搬入に使用した運搬用キ ャリアをそのままウエハ搬出に使用するので、洗浄を終えたウエハの清浄度を保 つことができない。一方、図２（Ａ）の従来装置においては、ウエハ洗浄のたび に洗浄済の搬出専用キャリアを準備する限りは、清浄度が保証されるが、搬出専 用キャリアを使用することによるキャリア数の増大、キャリア搬送系路の複雑化 等が避けられない。

【０００６】 なお、ウエハキャリアを使用する通常のウエハ洗浄装置においては、ウエハ洗 浄中に運搬用キャリアを洗浄し、その運搬用キャリアに洗浄後のウエハを収納し て搬出するものは、特開昭６２−３０３３４号公報に開示されているが、しかし 、ウエハキャリアを使用する型式のため、装置の大型化や薬液および純水の消費 量増大を避け得ない。また、ウエハ洗浄部およびキャリア洗浄部がリターン方式 のため、ワークフローが良くないという問題がある。

【０００７】 本考案の目的は、小型で薬液および純水の消費量が少なく、しかも、搬出専用 キャリアを用いることなく、洗浄後のウエハの清浄度を保つことができるウエハ 洗浄装置を提供することにある。

【０００８】 本考案の他の目的は、更にワークフローも良好なウエハ洗浄装置を提供するこ とにある。

【０００９】 本考案の更に他の目的は、洗浄後のウエハの清浄度を特に高レベルに保つこと ができるウエハ洗浄装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

請求項１に記載のウエハ洗浄装置は、運搬用キャリアに収納された洗浄すべき ウエハを前記運搬用キャリアから取り出すローダと、運搬用キャリアから取り出 されたウエハをキャリアレス洗浄処理するウエハ洗浄部と、ウエハが取り出され た運搬用キャリアを洗浄処理するキャリア洗浄部と、洗浄処理を終えたウエハを 、洗浄処理を終えた運搬用キャリアに収納するアンローダとを具備する。

【００１１】 請求項２に記載のウエハ洗浄装置は、ウエハ洗浄部およびキャリア洗浄部を、 ワークが一方向に運搬される一方通行型式として並列設置し、その入側にローダ を設置し、出側にアンローダを設置したものである。

【００１２】 請求項３または４に記載のウエハ洗浄装置は、キャリア洗浄部が、運搬用キャ リアの内外面に当接し且つ上下方向および回転中心に直角な水平方向に移動する 一対の水平な回転ブラシにより前記内外面を上下方向にトレースするブラシ洗浄 装置を具備したものである。

【００１３】

【作用】

請求項１に記載のウエハ洗浄装置においては、運搬用キャリアから取り出され たウエハがキャリアレス洗浄される間に、その運搬用キャリアが洗浄され、洗浄 を終えたウエハを収納するので、洗浄後のウエハの清浄度が保証される。

【００１４】 請求項２に記載のウエハ洗浄装置においては、運搬用キャリアとその運搬用キ ャリアから取り出されたウエハとが一方向にフローする。

【００１５】 請求項３または４に記載のウエハ洗浄装置においては、キャリア洗浄部で運搬 用キャリアの表面に噛み込んだ異物までもが除去される。

【００１６】

【実施例】

以下に本考案の実施例を図１に基づいて説明する。ウエハＷを収納した運搬用 キャリアＣは、ローダ１に搬入される。ローダ１は、搬入された運搬用キャリア ＣからウエハＷを取り出す。ローダ１の出側には、ウエハ洗浄部２とキャリア洗 浄部３とが並列に設置され、更にその出側には、アンローダ４が設置されている 。

【００１７】 ローダ１で運搬用キャリアＣから取り出されたウエハＷは、図示されないウエ ハ搬送機構によりウエハ洗浄部２に送られる。ウエハ洗浄部２はワーク入口の反 対側にワーク出口がある一方通行型式であって、周知のキャリアレス洗浄処理を 行う。洗浄を終えたウエハＷは、図示されないウエハ搬送機構によりアンローダ ４に送られる。

【００１８】 一方、ローダ１でウエハＷが取り出された運搬用キャリアＣは、図示されない キャリア搬送機構によりキャリア洗浄部３に送られる。キャリア洗浄部３は、ブ ラシ洗浄装置、純水スプレー槽、超音波洗浄槽、Ｎ₂ バブリング槽、純水リンス 槽、乾燥装置等を一列に配置した一方通行型式である。

【００１９】 ブラシ洗浄装置は、回転する一対のブラシをそれぞれ上下方向および回転中心 に直角な水平方向に２軸駆動し、一方のブラシで運搬用キャリアの内面を上から 下へ及び／又は下から上へトレースし、他方のブラシで運搬用キャリアの外面を 上から下へ及び／又は下から上へトレースする。

【００２０】 運搬用キャリアＣを水平方向に９０°ずつ回転させるごとにこのブラシ洗浄を 繰り返すことにより、運搬用キャリアの四面が内外面ともに機械的に洗浄される 。このブラシ洗浄装置を含むキャリア洗浄部３は、洗浄能力が特に高い。

【００２１】 半導体製造工程で実際に使用された運搬用キャリアを上述したブラシ方式と一 般的な超音波方式とで洗浄し、洗浄槽内のパーティクル数を洗浄の前後で比較し た。パーティクル数の測定にはＲＩＯＮ社製ＫＺ−３０Ｓ ＳＹＲＩＮＧ ＳＡ ＭＰＬＥＲ（測定異物粒径＞0.３μｍ）を用いた。洗浄液を１分毎に１０ｍｌず つ３回抽出して３０ｍｌ中のパーティクル数を測定した結果を表１に示す。上述 したブラシ方式は、超音波方式に比べて２倍以上の洗浄能力を示す。

【００２２】

【表１】

【００２３】 洗浄を終えた運搬用キャリアＣは、図示されない搬送機構によりアンローダ４ に送られる。このとき、その運搬用キャリアＣは、洗浄を終えたウエハＷよりも 少し早くアンローダ４に搬入され、少し遅れてアンローダ４に搬入されたウエハ Ｗを収納する。そして、ウエハＷを収納した運搬用キャリアＣは、アンローダ４ から洗浄装置外へ搬出される。

【００２４】

【考案の効果】

請求項１に記載のウエハ洗浄装置は、キャリアを使用しないでウエハを洗浄す るキャリアレス方式のため、小型で薬液および純水の消費量が少ない。ウエハを キャリアレス洗浄する間に、そのウエハを収納する運搬用キャリアを洗浄して、 その運搬用キャリアに洗浄後のウエハを収納するので、ウエハの清浄度を低下さ せるおそれがない。搬出専用のキャリアを使用しないので、キャリア数を少なく でき、キャリアの搬送系路を簡略化できる。

【００２５】 請求項２に記載のウエハ洗浄装置は、更に、ワークを一方向にフローさせるの で、自動化対応等が容易である。

【００２６】 請求項３または４に記載のウエハ洗浄装置は、運搬用キャリアに対する洗浄効 果が高く、洗浄後のウエハの清浄度を特に高レベルに保つことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の１実施例を示すウエハ洗浄装置の模式
平面図である。

【図２】従来のキャリアレスウエハ洗浄装置の模式平面
図である。

【符号の説明】

１ ローダ ２ ウエハ洗浄部 ３ キャリア洗浄部 ４ アンローダ Ｗ ウエハ Ｃ 運搬用キャリア

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエハキャリアを使用しないキャリアレ
   ス方式のウエハ洗浄装置であって、運搬用キャリアに収
   納された洗浄すべきウエハを前記運搬用キャリアから取
   り出すローダと、運搬用キャリアから取り出されたウエ
   ハをキャリアレス洗浄処理するウエハ洗浄部と、ウエハ
   が取り出された運搬用キャリアを洗浄処理するキャリア
   洗浄部と、洗浄処理を終えたウエハを、洗浄処理を終え
   た運搬用キャリアに収納するアンローダとを具備するこ
   とを特徴とするキャリアレスウエハ洗浄装置。
2. 【請求項２】 ウエハ洗浄部およびキャリア洗浄部を、
   ワークが一方向に運搬される一方通行型式として並列設
   置し、その入側にローダを設置し、出側にアンローダを
   設置したことを特徴とする請求項１に記載のキャリアレ
   スウエハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 キャリア洗浄部が、運搬用キャリアの内
   外面に当接し且つ上下方向および回転中心に直角な水平
   方向に移動する一対の水平な回転ブラシにより前記内外
   面を上下方向にトレースするブラシ洗浄装置を具備する
   ことを特徴とする請求項１に記載のキャリアレスウエハ
   洗浄装置。
4. 【請求項４】 キャリア洗浄部が、運搬用キャリアの内
   外面に当接し且つ上下方向および回転中心に直角な水平
   方向に移動する一対の水平な回転ブラシにより前記内外
   面を上下方向にトレースするブラシ洗浄装置を具備する
   ことを特徴とする請求項２に記載のキャリアレスウエハ
   洗浄装置。