JPS6212770A - エチレンオキシドの精留方法 - Google Patents
エチレンオキシドの精留方法Info
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- JPS6212770A JPS6212770A JP60150002A JP15000285A JPS6212770A JP S6212770 A JPS6212770 A JP S6212770A JP 60150002 A JP60150002 A JP 60150002A JP 15000285 A JP15000285 A JP 15000285A JP S6212770 A JPS6212770 A JP S6212770A
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- conduit
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、エチレンオキシドの精留方法に関するもので
ある。詳しくはエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成したエチレンオキ
シドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔
へ導入し吸収液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収
塔頂部よりのガスはエチレン酸化反応工程へ循環し、エ
チレンオキシドを含む吸収塔底液は放散塔へ供給し、放
散塔頂からエチレンオキシドを放散せしめ、エチ
:□、、オーツ、およ、、〜。0ilallケや、
8□、 ;1? 未凝縮ガス中の軽質分および水を分離後、エチレンオキ
シドを蒸留分離する際の加熱エネルギーを低減させるエ
チレンオキシドの精留方法に関するものである。
ある。詳しくはエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成したエチレンオキ
シドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔
へ導入し吸収液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収
塔頂部よりのガスはエチレン酸化反応工程へ循環し、エ
チレンオキシドを含む吸収塔底液は放散塔へ供給し、放
散塔頂からエチレンオキシドを放散せしめ、エチ
:□、、オーツ、およ、、〜。0ilallケや、
8□、 ;1? 未凝縮ガス中の軽質分および水を分離後、エチレンオキ
シドを蒸留分離する際の加熱エネルギーを低減させるエ
チレンオキシドの精留方法に関するものである。
(従来の技術)
エチレンオキシドは一般につぎのようにして精製される
。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気
相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導き水を主とする吸収液
と向流接触させ、エチレンオキシド水溶液として回収し
、ついでエチレンオキシド放散塔へ送り放散塔底部を加
熱蒸気で加熱することによってエチレンオキシドを水溶
液から放散させ、放散塔底部より実質的にエチレンオキ
シドを含まない水溶液は吸収液として循環使用し、放散
塔頂部より放散される放散物は脱水工程、二酸化炭素、
不活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン、)の他
ホルムアルデヒド等の低沸点不純物等の重質分分離工程
およびアセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の
重質分分離工程の各々を経て精製しエチレンオキシドを
製造することができる。
。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気
相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導き水を主とする吸収液
と向流接触させ、エチレンオキシド水溶液として回収し
、ついでエチレンオキシド放散塔へ送り放散塔底部を加
熱蒸気で加熱することによってエチレンオキシドを水溶
液から放散させ、放散塔底部より実質的にエチレンオキ
シドを含まない水溶液は吸収液として循環使用し、放散
塔頂部より放散される放散物は脱水工程、二酸化炭素、
不活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン、)の他
ホルムアルデヒド等の低沸点不純物等の重質分分離工程
およびアセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の
重質分分離工程の各々を経て精製しエチレンオキシドを
製造することができる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、このようなエチレンオキシドの精留方法
はエチレンオキシド精留塔における加熱蒸気を多量に消
費する問題があった。本発明はこれらのエチレンオキシ
ド精製工程における省エネルギーについて研究した結果
、エチレンオキシド精留塔頂部から発生するエチレンオ
キシド蒸気が保有する熱エネルギーの有効利用に着眼し
本発明を完成した。
はエチレンオキシド精留塔における加熱蒸気を多量に消
費する問題があった。本発明はこれらのエチレンオキシ
ド精製工程における省エネルギーについて研究した結果
、エチレンオキシド精留塔頂部から発生するエチレンオ
キシド蒸気が保有する熱エネルギーの有効利用に着眼し
本発明を完成した。
(問題点を解決するための手段)
本発明はエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガ
スにより接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを
含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入
し吸収液と向流接触させ、吸収塔頂部よりのガスはエチ
レン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸
収塔底液は放散塔へ供給し、放散塔頂からエチレンオキ
シドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留
出物を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、重質分分離塔
で重質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエ
チレンオキシドを精留する工程において、エチレンオキ
シド精留塔のエチレンオキシド蒸気を、エチレンオキシ
ド凝縮器へ送り、エチレンオキシドを液化し、液の一部
はエチレンオキシド精留塔へ還流し、液の他部は精製エ
チレンオキシドとして抜き出し、エチレンオキシド凝縮
器で熱交換し蒸発した冷媒はヒートポンプの冷媒圧縮機
に送られ圧縮した後、エチレンオキシド精留塔の加熱器
へ送り、加熱器とした後、エチレンオキシド凝縮器に循
環することを特徴とするエチレンオキシドの精密方法に
濁すものである。
スにより接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを
含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入
し吸収液と向流接触させ、吸収塔頂部よりのガスはエチ
レン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸
収塔底液は放散塔へ供給し、放散塔頂からエチレンオキ
シドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留
出物を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、重質分分離塔
で重質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留塔でエ
チレンオキシドを精留する工程において、エチレンオキ
シド精留塔のエチレンオキシド蒸気を、エチレンオキシ
ド凝縮器へ送り、エチレンオキシドを液化し、液の一部
はエチレンオキシド精留塔へ還流し、液の他部は精製エ
チレンオキシドとして抜き出し、エチレンオキシド凝縮
器で熱交換し蒸発した冷媒はヒートポンプの冷媒圧縮機
に送られ圧縮した後、エチレンオキシド精留塔の加熱器
へ送り、加熱器とした後、エチレンオキシド凝縮器に循
環することを特徴とするエチレンオキシドの精密方法に
濁すものである。
本発明においてエチレンオキシドの精留はエチレンオキ
シド精留塔の塔底部に付属するりボイラーで発生した蒸
気が精留塔内で降下する液と接触し、物質交換、熱交換
し、沸点の低い成分の濃度が大になりながら精留塔内を
上昇し、精留塔の塔頂部より凝縮器に導かれ凝縮し、凝
縮液は一部蒸留塔内に還流液として戻し、他部は留出液
として抜き出されエチレンオキシド製品として得ること
ができる。
シド精留塔の塔底部に付属するりボイラーで発生した蒸
気が精留塔内で降下する液と接触し、物質交換、熱交換
し、沸点の低い成分の濃度が大になりながら精留塔内を
上昇し、精留塔の塔頂部より凝縮器に導かれ凝縮し、凝
縮液は一部蒸留塔内に還流液として戻し、他部は留出液
として抜き出されエチレンオキシド製品として得ること
ができる。
本発明におり)でエチレンオキシド精留塔は棚段塔型式
および充填塔型式がある。棚段塔型式の蒸留塔の棚段と
しては種々あるがバブルキャップトレイ、ユニフラック
ストレイ、ターボグリッドトし化リップトレイ・フレキ
シトレイ・ジーブト ルイ、パラストトレイ等
が挙げられる。また、充填塔型式の蒸留塔の充填物とし
ては、ラシヒリング、ボールリング、サドル型リング、
スパイラルリング、マクマホンバッキング、インターロ
ックスメタルバッキング、−理論段数あたり2〜3mm
HQ以下の圧力損失を有する充填物、織物または編物構
造の金網積層板等が挙げられる。 本発明においてエチ
レンオキシド精留塔へ供給される供給液の温度は45〜
80℃、好ましくは55〜70℃であり、供給液の組成
はエチレンオキシド濃度が99重石%以上、好ましくは
99.9重量%以上の範囲に制御される。
および充填塔型式がある。棚段塔型式の蒸留塔の棚段と
しては種々あるがバブルキャップトレイ、ユニフラック
ストレイ、ターボグリッドトし化リップトレイ・フレキ
シトレイ・ジーブト ルイ、パラストトレイ等
が挙げられる。また、充填塔型式の蒸留塔の充填物とし
ては、ラシヒリング、ボールリング、サドル型リング、
スパイラルリング、マクマホンバッキング、インターロ
ックスメタルバッキング、−理論段数あたり2〜3mm
HQ以下の圧力損失を有する充填物、織物または編物構
造の金網積層板等が挙げられる。 本発明においてエチ
レンオキシド精留塔へ供給される供給液の温度は45〜
80℃、好ましくは55〜70℃であり、供給液の組成
はエチレンオキシド濃度が99重石%以上、好ましくは
99.9重量%以上の範囲に制御される。
エチレンオキシドの精留浴場の操作条件は、精留塔頂圧
力i、o〜8.0kCJ/iG好ましくは2・0〜5.
0ka/dG、精留塔頂温度40〜65℃、精留塔底温
度45〜70℃、精留塔底エチレンオキシド濃度は30
〜90重量%、好ましくは40〜80重量%の範囲であ
る。
力i、o〜8.0kCJ/iG好ましくは2・0〜5.
0ka/dG、精留塔頂温度40〜65℃、精留塔底温
度45〜70℃、精留塔底エチレンオキシド濃度は30
〜90重量%、好ましくは40〜80重量%の範囲であ
る。
本発明のヒートポンプは、精留塔頂からのエチレンオキ
シド蒸気凝縮器を兼ねた冷媒蒸発器、冷媒蒸気を圧縮す
るための冷媒圧縮機およびエチレンオキシド精留塔リボ
イラーを兼ねた冷媒凝縮器からなり、それに付随した機
器、配管類により構成される。
シド蒸気凝縮器を兼ねた冷媒蒸発器、冷媒蒸気を圧縮す
るための冷媒圧縮機およびエチレンオキシド精留塔リボ
イラーを兼ねた冷媒凝縮器からなり、それに付随した機
器、配管類により構成される。
本発明のヒートポンプの操作条件は、エチレンオキシド
精留塔頂部より出た温度40〜65℃のエチレンオキシ
ド蒸気をエチレンオキシド蒸気゛凝縮器を兼ねた冷媒蒸
発器に導入し、冷媒蒸発器内の冷媒に凝縮潜熱を与える
ことによりエチレンオキシド蒸気は凝縮し、冷媒はエチ
レンオキシド蒸気より5〜15℃低い温度で蒸発する。
精留塔頂部より出た温度40〜65℃のエチレンオキシ
ド蒸気をエチレンオキシド蒸気゛凝縮器を兼ねた冷媒蒸
発器に導入し、冷媒蒸発器内の冷媒に凝縮潜熱を与える
ことによりエチレンオキシド蒸気は凝縮し、冷媒はエチ
レンオキシド蒸気より5〜15℃低い温度で蒸発する。
蒸発した冷媒蒸気は冷媒圧縮機によりエチレンオキシド
精留塔底部温度より5〜15℃高い冷媒の飽和温度を示
す圧力逃圧縮され、エチレンオキシド精留塔リボイラー
を兼ねた冷媒凝縮器に導入されエチレンオキシド精留塔
底液に凝縮潜熱を与えることにより凝縮し、冷媒蒸発器
へ循環され再び蒸発するというサイクルを繰り返す。
精留塔底部温度より5〜15℃高い冷媒の飽和温度を示
す圧力逃圧縮され、エチレンオキシド精留塔リボイラー
を兼ねた冷媒凝縮器に導入されエチレンオキシド精留塔
底液に凝縮潜熱を与えることにより凝縮し、冷媒蒸発器
へ循環され再び蒸発するというサイクルを繰り返す。
本発明のヒートポンプの作動流体としての冷媒はヒート
ポンププロセス中で蒸発、凝縮を繰り返して使用される
ため、その選択に当っては熱力学的性質の他に熱的及び
化学的に安定であること及び取り扱い上からは臭気、毒
性、爆発性を有しないことが要求される。
ポンププロセス中で蒸発、凝縮を繰り返して使用される
ため、その選択に当っては熱力学的性質の他に熱的及び
化学的に安定であること及び取り扱い上からは臭気、毒
性、爆発性を有しないことが要求される。
本発明で使用できる冷媒としてはR−11、R−12、
R−22、R−113、R−114、等のフッ化炭化水
素及びプロパン、ペンタン等の炭化水素類等が挙げられ
るが本発明のヒートポンプの作動流体としてはR−11
4、ペンタン等が好ましい。
R−22、R−113、R−114、等のフッ化炭化水
素及びプロパン、ペンタン等の炭化水素類等が挙げられ
るが本発明のヒートポンプの作動流体としてはR−11
4、ペンタン等が好ましい。
本発明においてエチレンオキシド精留塔底液はアセトア
ルデヒド、水および酢酸等の高沸点不純物からなる重質
分である。
ルデヒド、水および酢酸等の高沸点不純物からなる重質
分である。
本発明をさらに詳しく述べるために、エチレンオキシド
精製方法を図−1に基づいて説明する。
精製方法を図−1に基づいて説明する。
図−1においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管(1)を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式の吸収塔(2)の下部へ供給し、導
管(3)より吸収塔(2)の上部へ吸収液を導入し、反
応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
%以上のエチレンオキシドを回収し、吸収塔(2)の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン)、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管(4)を通して二酸化炭
素吸収工程および/または酸化反応工程へ循環される。
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管(1)を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式の吸収塔(2)の下部へ供給し、導
管(3)より吸収塔(2)の上部へ吸収液を導入し、反
応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
%以上のエチレンオキシドを回収し、吸収塔(2)の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン)、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管(4)を通して二酸化炭
素吸収工程および/または酸化反応工程へ循環される。
この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、)ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収
される。吸収塔(2)の塔底液を導管(5)を通して熱
交換器(6)へ送りエチレンオキシド放散塔底液と熱交
換して温度70〜11 ’O℃に高め、導管
(ア)により気液分離タンク(8)へ送られ不活性ガス
が導管(9)により分 1■ 離される。一部エチレンオキシド、水を含む液は導管(
10)を通して塔頂圧力0.1〜2Ko/
’、、iG、81度。、〜1゜。−c、)エア、、オー
ツ、放 1数基(11)の上部へ供給し、放散
塔(11)の加熱器(12)より水蒸気またはダウサム
(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(13)を通して加
熱するか、または直接放散塔(11)の下部へ水蒸気を
導入する加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエ
チレンオキシドの99重量%以上を 1放散せ
しめ、放散塔(11)の底部よりエチレン −
オキシドを実質的に含まない温度1°OO〜130℃の
放散塔底液の一部は導管(14)および導管
江(15)を通して熱交換器(6)でエチレンオキ
1)シト吸収塔(2)の塔底液と熱交換し、導管
(1116)を通して、さらに導管(18)および導管
(19)に冷却水が通る冷却器(17)により冷却し、
ついで吸収液中のエチレングリコール濃度を調節するた
め新鮮な水を導管(21)を通して導入し、必要により
吸収液中のpHを調節するため水酸化カリウム水溶液を
添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤を
吸収塔(2)へそれぞれ導入することができる。エチレ
ンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキ
シド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水と
の水和反応で生成する副生エチレングリコールおよびホ
ルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドお
よび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐため放散塔(1
1)の塔底より導管(14)および(22)を通して放
散塔(11)の底液を抜き出し、副生エチレングリコー
ル濃縮工程に送られる。
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、)ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収
される。吸収塔(2)の塔底液を導管(5)を通して熱
交換器(6)へ送りエチレンオキシド放散塔底液と熱交
換して温度70〜11 ’O℃に高め、導管
(ア)により気液分離タンク(8)へ送られ不活性ガス
が導管(9)により分 1■ 離される。一部エチレンオキシド、水を含む液は導管(
10)を通して塔頂圧力0.1〜2Ko/
’、、iG、81度。、〜1゜。−c、)エア、、オー
ツ、放 1数基(11)の上部へ供給し、放散
塔(11)の加熱器(12)より水蒸気またはダウサム
(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(13)を通して加
熱するか、または直接放散塔(11)の下部へ水蒸気を
導入する加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエ
チレンオキシドの99重量%以上を 1放散せ
しめ、放散塔(11)の底部よりエチレン −
オキシドを実質的に含まない温度1°OO〜130℃の
放散塔底液の一部は導管(14)および導管
江(15)を通して熱交換器(6)でエチレンオキ
1)シト吸収塔(2)の塔底液と熱交換し、導管
(1116)を通して、さらに導管(18)および導管
(19)に冷却水が通る冷却器(17)により冷却し、
ついで吸収液中のエチレングリコール濃度を調節するた
め新鮮な水を導管(21)を通して導入し、必要により
吸収液中のpHを調節するため水酸化カリウム水溶液を
添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤を
吸収塔(2)へそれぞれ導入することができる。エチレ
ンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキ
シド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水と
の水和反応で生成する副生エチレングリコールおよびホ
ルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドお
よび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐため放散塔(1
1)の塔底より導管(14)および(22)を通して放
散塔(11)の底液を抜き出し、副生エチレングリコー
ル濃縮工程に送られる。
一方、放散塔(11)の塔頂部より放散されるエチレン
オキシドを含む放散蒸気は導管(23)を通して、導管
(24)および導管(26)に冷却水が通る凝縮器(2
4)へ送り、凝縮液は導管(27)を通して放散塔(1
1)の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(28)をを
通して脱水塔(29)へ供給される。
オキシドを含む放散蒸気は導管(23)を通して、導管
(24)および導管(26)に冷却水が通る凝縮器(2
4)へ送り、凝縮液は導管(27)を通して放散塔(1
1)の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(28)をを
通して脱水塔(29)へ供給される。
脱水塔(29)の加熱器(30)により水蒸気またはダ
ウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(31)を通
して加熱するか、または直接脱水塔(29)の下部へ水
蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔(29)
の塔底より導管(32)を通して実質的にエチレンオキ
シドを含まない水が抜き出される。
ウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(31)を通
して加熱するか、または直接脱水塔(29)の下部へ水
蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔(29)
の塔底より導管(32)を通して実質的にエチレンオキ
シドを含まない水が抜き出される。
脱水塔(29)の塔頂部よりエチレンオキシド
□を含む蒸気は導管(33)を通して、導管(35)お
よび導管(36)に冷却水またはブラインが通
□る凝縮器(34)へ送り、凝縮液の一部は導管
1□ (37)を通して脱水塔(29)の塔頂部へ還流
□5、凝縮!(34)(7)未凝縮蒸気。導管(39
) ’を通して再吸収塔(図示していない)
へ供給される。
□を含む蒸気は導管(33)を通して、導管(35)お
よび導管(36)に冷却水またはブラインが通
□る凝縮器(34)へ送り、凝縮液の一部は導管
1□ (37)を通して脱水塔(29)の塔頂部へ還流
□5、凝縮!(34)(7)未凝縮蒸気。導管(39
) ’を通して再吸収塔(図示していない)
へ供給される。
凝縮液の他部は導管(38)を通して軽質分分離
□塔(40)へ供給される。
□塔(40)へ供給される。
軽質分分離塔(40)の加熱器(41)により水蒸気ま
たはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(42
)を通して加熱する方式により加熱し、軽質分分離塔(
40)の塔頂部より軽質分ガスを受口含むエチレンオキ
シド蒸気は導管(43)を通して凝縮器(44)へ送り
、凝縮液は導管(47)を通して軽質分分離塔(40)
の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(48)を通して
エチレンオキシドを回収するため再吸収塔(図示してな
い)へ供給される。
たはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(42
)を通して加熱する方式により加熱し、軽質分分離塔(
40)の塔頂部より軽質分ガスを受口含むエチレンオキ
シド蒸気は導管(43)を通して凝縮器(44)へ送り
、凝縮液は導管(47)を通して軽質分分離塔(40)
の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(48)を通して
エチレンオキシドを回収するため再吸収塔(図示してな
い)へ供給される。
軽質分分離塔(40)の塔底より軽質分を分離されたエ
チレンオキシド溶液は導管(49)を通して精留塔(5
0)へ供給される。
チレンオキシド溶液は導管(49)を通して精留塔(5
0)へ供給される。
精留塔の操作当初は、精留塔(50)の加熱器(51)
により水蒸気またはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒
体で導管(52)を通して加熱する方式により加熱し、
精留塔(50)の塔頂部よりエチレンオキシド含む蒸気
は導管(53)を通して凝縮器(70)へ送り、凝縮液
の一部は導管(57)を通して精留塔(50)の塔頂部
へ還流 □し、凝縮液の他部は導管(58)を通
してエチレンオキシド製品として得られる。連続運転は
、つぎのように操作できる エチレンオキシド精留塔(50)の加熱器(60)へ導
管(76)より冷媒蒸気を供給し、エチレン ′
オキシドN留塔(50)底部を加熱することによりエチ
レンオキシド精留塔(50)の塔底温度35〜80℃、
エチレンオキシド精留塔底圧力1゜2〜8.2kQ/c
iGで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔
頂湯度35〜75℃、塔頂部圧力1〜8 k Q /
tti Gのエチレンオキシド蒸気を導管(53)を通
して、冷媒蒸発器(70)へ送り、エチレンオキシドを
液化し、一部は導管(57)を通してエチレンオキシド
精留塔(50) −の塔頂部へ還流液として供給
し、他部は導管(58)を通してエチレンオキシド製品
として抜き出した。
により水蒸気またはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒
体で導管(52)を通して加熱する方式により加熱し、
精留塔(50)の塔頂部よりエチレンオキシド含む蒸気
は導管(53)を通して凝縮器(70)へ送り、凝縮液
の一部は導管(57)を通して精留塔(50)の塔頂部
へ還流 □し、凝縮液の他部は導管(58)を通
してエチレンオキシド製品として得られる。連続運転は
、つぎのように操作できる エチレンオキシド精留塔(50)の加熱器(60)へ導
管(76)より冷媒蒸気を供給し、エチレン ′
オキシドN留塔(50)底部を加熱することによりエチ
レンオキシド精留塔(50)の塔底温度35〜80℃、
エチレンオキシド精留塔底圧力1゜2〜8.2kQ/c
iGで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔
頂湯度35〜75℃、塔頂部圧力1〜8 k Q /
tti Gのエチレンオキシド蒸気を導管(53)を通
して、冷媒蒸発器(70)へ送り、エチレンオキシドを
液化し、一部は導管(57)を通してエチレンオキシド
精留塔(50) −の塔頂部へ還流液として供給
し、他部は導管(58)を通してエチレンオキシド製品
として抜き出した。
冷媒蒸発器(70)の未凝縮蒸気は導管(71)
’を通してエチレンオキシドを回収するため再吸収塔
(図示してない)へ供給される。
’を通してエチレンオキシドを回収するため再吸収塔
(図示してない)へ供給される。
エチレンオキシド凝縮器(70)でエチレンオキシドの
凝縮潜熱を与えられ蒸発した冷媒は導管(74)を通し
て冷媒圧縮機(75)に送られ圧縮した後、導管(76
)を通してエチレンオキシド精留塔加熱器(60)へ送
り、冷媒は凝縮して導管(77)を経てエチレンオキシ
ド凝縮器(70)に循環される。
凝縮潜熱を与えられ蒸発した冷媒は導管(74)を通し
て冷媒圧縮機(75)に送られ圧縮した後、導管(76
)を通してエチレンオキシド精留塔加熱器(60)へ送
り、冷媒は凝縮して導管(77)を経てエチレンオキシ
ド凝縮器(70)に循環される。
特にこの冷媒はエチレンオキシド精留塔の加熱器に十分
使用することができる。
使用することができる。
エチレンオキシド精留塔(50)の塔底液はアセトアル
デヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のため
必要により導管(61)を通して抜き出される。
デヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のため
必要により導管(61)を通して抜き出される。
本発明をさらに詳しく述べるために従来公知のエチレン
オキシド精製方法を図−2に基づいて説明する。
オキシド精製方法を図−2に基づいて説明する。
図−2においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管(1)を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式の吸収塔(2)の下部へ供給し、導
管(3)より吸収塔(2)の上部へ吸収液を導入し、反
応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
%以上のエチレンオキシドを回収し、吸収塔(2)の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン)、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管(4)を通して二酸化炭
素吸収工程および/または酸化反応工程へ循環される。
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管(1)を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式の吸収塔(2)の下部へ供給し、導
管(3)より吸収塔(2)の上部へ吸収液を導入し、反
応生成ガスと向流接触させ、反応生成ガス中の99重量
%以上のエチレンオキシドを回収し、吸収塔(2)の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス(窒素、アルゴン、メタン、エタン)、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管(4)を通して二酸化炭
素吸収工程および/または酸化反応工程へ循環される。
この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、)ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収
される。吸収塔(2)の塔底液を導管(5)を通して熱
交換器(6)へ送りエチレンオキシド放散塔底液と熱交
換して温度70〜110℃に高め、導管(7)により気
液分離タンク(8)へ送られ不活性ガスが導管(9)に
より分離される。一部エチレンオキシド、水を含む液は
一導管(10)を通して塔頂圧力0.1〜2Ka/cI
iG、温度85〜120℃のエチレンオキシド放散塔(
11)の上部へ供給し、放散塔(11)の加熱器(12
)より水蒸気またはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒
体で導管(13)を通して加熱するか、または直接放散
塔(11)の下部へ水蒸気を導入する加熱方式により加
熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量
%以上を放散せしめ、放散塔(11)の底部よりエチレ
ンオキシドを実質的に含まない温度100〜130℃の
放散塔底液の一部は導管(14)および導管(15)を
通して熱交換器(6)でエチレンオキシド吸収塔(2)
の塔底液と熱交換し、導管(16)を通して、さらに導
管(18)および導管(19)に冷却水が通る冷却器(
17)により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリコ
ール濃度を調節するため新鮮な水を導管(21)を通し
て導入し、必要により吸収液中のpHを調節するため水
酸化カリウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を
調節するため消泡剤を吸収塔(2)へ 1:そ
れぞれ導入することができる。エチレンを分子状酸素で
酸化する酸化工程およびエチレンオキシ ニド
放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと
1′水との水和反応で生成する副生エチレングリコ−
1ルおよびホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセト
アルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐた
め放散塔(11)の塔底より導管(14)および(22
)を通して放散塔(11)の底液を抜き出し、副生エチ
レングリコール濃縮工程に送られる。
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス(窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、)ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収
される。吸収塔(2)の塔底液を導管(5)を通して熱
交換器(6)へ送りエチレンオキシド放散塔底液と熱交
換して温度70〜110℃に高め、導管(7)により気
液分離タンク(8)へ送られ不活性ガスが導管(9)に
より分離される。一部エチレンオキシド、水を含む液は
一導管(10)を通して塔頂圧力0.1〜2Ka/cI
iG、温度85〜120℃のエチレンオキシド放散塔(
11)の上部へ供給し、放散塔(11)の加熱器(12
)より水蒸気またはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒
体で導管(13)を通して加熱するか、または直接放散
塔(11)の下部へ水蒸気を導入する加熱方式により加
熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシドの99重量
%以上を放散せしめ、放散塔(11)の底部よりエチレ
ンオキシドを実質的に含まない温度100〜130℃の
放散塔底液の一部は導管(14)および導管(15)を
通して熱交換器(6)でエチレンオキシド吸収塔(2)
の塔底液と熱交換し、導管(16)を通して、さらに導
管(18)および導管(19)に冷却水が通る冷却器(
17)により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリコ
ール濃度を調節するため新鮮な水を導管(21)を通し
て導入し、必要により吸収液中のpHを調節するため水
酸化カリウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を
調節するため消泡剤を吸収塔(2)へ 1:そ
れぞれ導入することができる。エチレンを分子状酸素で
酸化する酸化工程およびエチレンオキシ ニド
放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと
1′水との水和反応で生成する副生エチレングリコ−
1ルおよびホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセト
アルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐた
め放散塔(11)の塔底より導管(14)および(22
)を通して放散塔(11)の底液を抜き出し、副生エチ
レングリコール濃縮工程に送られる。
一方、放散塔(11)の塔頂部より放散されるエチレン
オキシドを含む放散蒸気は導管(23〉を通して、導管
(24)および導管(26)に冷 l川水が通
る凝縮器(24)へ送り、凝縮液は導管 1コ (27)を通して放散塔(11)の塔頂部へ還流
□6、え、、−ヮG;1m$1(28)やtit、
rni*i if′ (29)へ供給される。
オキシドを含む放散蒸気は導管(23〉を通して、導管
(24)および導管(26)に冷 l川水が通
る凝縮器(24)へ送り、凝縮液は導管 1コ (27)を通して放散塔(11)の塔頂部へ還流
□6、え、、−ヮG;1m$1(28)やtit、
rni*i if′ (29)へ供給される。
脱水塔(29)の加熱器(30)により水蒸気
□。
□。
またはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導
t管(31)を通して加熱するが、または直接脱水
塔(29)の下部へ水蒸気を導入する加熱方式により加
熱し、脱水塔(29)の塔底より導管(32)を通して
実質的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出される
。
t管(31)を通して加熱するが、または直接脱水
塔(29)の下部へ水蒸気を導入する加熱方式により加
熱し、脱水塔(29)の塔底より導管(32)を通して
実質的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出される
。
脱水塔(29)の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸
気は導管(33)を通して、導管(35)および導管(
36)に冷却水またはプラインが通る凝縮器(34)へ
送り、凝縮液の一部は導管(37)を通して脱水塔(2
9)の塔頂部へ還流し、凝縮器(34)の未凝縮蒸気は
導管(39)を通して再吸収塔(図示していない)へ供
給される。
気は導管(33)を通して、導管(35)および導管(
36)に冷却水またはプラインが通る凝縮器(34)へ
送り、凝縮液の一部は導管(37)を通して脱水塔(2
9)の塔頂部へ還流し、凝縮器(34)の未凝縮蒸気は
導管(39)を通して再吸収塔(図示していない)へ供
給される。
凝縮液の他部は導管(38)を通して軽質分分離塔(4
0)へ供給される。
0)へ供給される。
軽質分分離塔(40)の加熱器(41)により水蒸気ま
たはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(42
)を通して加熱する方式により加熱し、軽質分分離塔(
40)の塔頂部より軽質分ガスを少量含むエチレンオキ
シド蒸気は導管(43)を通して凝縮器(44)へ送り
、凝縮液は導管(47)を通して軽質分分離塔(40)
の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(48)を通して
エチレンオキシドを回収するため再吸収塔(図示してな
い)へ供給される。
たはダウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(42
)を通して加熱する方式により加熱し、軽質分分離塔(
40)の塔頂部より軽質分ガスを少量含むエチレンオキ
シド蒸気は導管(43)を通して凝縮器(44)へ送り
、凝縮液は導管(47)を通して軽質分分離塔(40)
の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管(48)を通して
エチレンオキシドを回収するため再吸収塔(図示してな
い)へ供給される。
軽質分分離塔(40)の塔底より軽質分を分離されたエ
チレンオキシド溶液は導管(49)を通して精留塔(5
0)へ供給される。
チレンオキシド溶液は導管(49)を通して精留塔(5
0)へ供給される。
精留塔(50)の加熱器(51)により水蒸気またはダ
ウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(52)を通
して加熱する方式により加熱し、精留塔(50)の塔頂
部よりエチレンオキシド含む蒸気は導管(53)を通し
て凝縮器(54)へ送り、凝縮液の一部は導管(57)
を通して精留塔(50)の塔頂部へ還流し、凝縮液の他
部は導管(58)を通してエチレンオキシド製品として
得られる。
ウサム(ダウ社商品)等の加熱媒体で導管(52)を通
して加熱する方式により加熱し、精留塔(50)の塔頂
部よりエチレンオキシド含む蒸気は導管(53)を通し
て凝縮器(54)へ送り、凝縮液の一部は導管(57)
を通して精留塔(50)の塔頂部へ還流し、凝縮液の他
部は導管(58)を通してエチレンオキシド製品として
得られる。
(実 施 例)
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものでない。
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものでない。
実 施 例 1
図−1において、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
素含有ガスにより接触気相酸化して生成したエチレンオ
キシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収
塔へ導入し吸収液と向流接触させ、吸収塔頂部よりのガ
スの一部はエチレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオ
キシドを含む吸収塔底液は放散塔へ供給し、放散塔頂か
らエチレンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドお
よび水を含む留出物を凝縮させ、未凝縮蒸気中の水およ
び軽質分を分離後、エチレンオキシドを導管(49)を
通して充填塔形式のエチレンオキシド精留塔(50)へ
供給し、エチレンオキシド精留塔(50)の加熱器(6
0)へ導管(76)より冷媒を供給し、エチレンオキシ
ド精留塔底部を加熱することによりエチレンオキシド精
留@(50)の塔底温度62℃、エチレンオキシド精留
塔底圧力3.7ka/Cl1Gで精留を行ない、エチレ
ンオキシド精留塔頂より塔頂温度54℃、塔頂圧力3.
5ko/aJGエチレンオキシド蒸気を導管(53)を
通して、エチレンオキシド凝縮器(70)1・xfv>
t’F>VtrF&化5・−I Gt i導管
(57)を通してエチレンオキシド精留塔 1
゜(50)の塔頂部へ還流液として導入し、他部は
[導管(58)を通してエチレンオキシド製品とし
″″! 1ffl LI Th 6
。
素含有ガスにより接触気相酸化して生成したエチレンオ
キシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収
塔へ導入し吸収液と向流接触させ、吸収塔頂部よりのガ
スの一部はエチレン酸化反応工程へ循環し、エチレンオ
キシドを含む吸収塔底液は放散塔へ供給し、放散塔頂か
らエチレンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドお
よび水を含む留出物を凝縮させ、未凝縮蒸気中の水およ
び軽質分を分離後、エチレンオキシドを導管(49)を
通して充填塔形式のエチレンオキシド精留塔(50)へ
供給し、エチレンオキシド精留塔(50)の加熱器(6
0)へ導管(76)より冷媒を供給し、エチレンオキシ
ド精留塔底部を加熱することによりエチレンオキシド精
留@(50)の塔底温度62℃、エチレンオキシド精留
塔底圧力3.7ka/Cl1Gで精留を行ない、エチレ
ンオキシド精留塔頂より塔頂温度54℃、塔頂圧力3.
5ko/aJGエチレンオキシド蒸気を導管(53)を
通して、エチレンオキシド凝縮器(70)1・xfv>
t’F>VtrF&化5・−I Gt i導管
(57)を通してエチレンオキシド精留塔 1
゜(50)の塔頂部へ還流液として導入し、他部は
[導管(58)を通してエチレンオキシド製品とし
″″! 1ffl LI Th 6
。
エチレンオキシド精留塔(50)(7)凝縮器(7。
0)の未凝縮蒸気は導管(71)を通してエチμ
、:ンオキシドを回収するため、再吸収塔(図示して
(ないい供給さ0る・
!エチレンオキシド凝縮器 (70)でエ
チレンオ 1□ッ5.)□□。え、わ□、え□、
よ□ 11(74)を通して圧縮機(75)に送ら
れ圧縮し [また後、導管(76)を通してエチ
レンオキシド精 1留塔加熱器(60)へ送り、
冷媒は凝縮して導管(77)を経てエチレンオキシド凝
縮器(70)に循環した。
(′表−1にこのプロセスの連続操作
条件を一括して表示する。
、:ンオキシドを回収するため、再吸収塔(図示して
(ないい供給さ0る・
!エチレンオキシド凝縮器 (70)でエ
チレンオ 1□ッ5.)□□。え、わ□、え□、
よ□ 11(74)を通して圧縮機(75)に送ら
れ圧縮し [また後、導管(76)を通してエチ
レンオキシド精 1留塔加熱器(60)へ送り、
冷媒は凝縮して導管(77)を経てエチレンオキシド凝
縮器(70)に循環した。
(′表−1にこのプロセスの連続操作
条件を一括して表示する。
比 較 例 1
図−2においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレンオキシド
を含有する反応生成ガスを吸収塔へ導入し吸収液と向流
接触させ、吸収塔頂部よりのガスはエチレン酸化反応工
程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収塔底液は放散
塔へ供給し、放散塔頂からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシドおよび水を含む留出液を凝縮させ
、未凝縮蒸気中の水および軽質分を分離後、エチレンオ
キシドを導管(49)を通して充填塔形式のエチレンオ
キシド精留塔(50)へ供給し、エチレンオキシド精留
塔(50)の加熱機(51)へ導管(52)より圧力0
.5〜1.0kq/dGの水蒸気を供給し、エチレンオ
キシド精留塔(50)の塔底温度62℃、エチレンオキ
シド精留塔底圧力3.7ka/aIGで精留を行ない、
エチレンオキシド精留塔頂より塔頂温度54℃、塔頂圧
力3.5kq/ciGのエチレンオキシド蒸気を導管(
53)を通して、凝縮器(54)へ送り、液化し、一部
は導管(57〉を通してエチレンオキシド精留等エチレ
ンオキシド精留塔(50)の塔頂部へ還流し、他部は導
管(58)を通してエチレンオキシド製品として夫き出
した。
含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレンオキシド
を含有する反応生成ガスを吸収塔へ導入し吸収液と向流
接触させ、吸収塔頂部よりのガスはエチレン酸化反応工
程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収塔底液は放散
塔へ供給し、放散塔頂からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシドおよび水を含む留出液を凝縮させ
、未凝縮蒸気中の水および軽質分を分離後、エチレンオ
キシドを導管(49)を通して充填塔形式のエチレンオ
キシド精留塔(50)へ供給し、エチレンオキシド精留
塔(50)の加熱機(51)へ導管(52)より圧力0
.5〜1.0kq/dGの水蒸気を供給し、エチレンオ
キシド精留塔(50)の塔底温度62℃、エチレンオキ
シド精留塔底圧力3.7ka/aIGで精留を行ない、
エチレンオキシド精留塔頂より塔頂温度54℃、塔頂圧
力3.5kq/ciGのエチレンオキシド蒸気を導管(
53)を通して、凝縮器(54)へ送り、液化し、一部
は導管(57〉を通してエチレンオキシド精留等エチレ
ンオキシド精留塔(50)の塔頂部へ還流し、他部は導
管(58)を通してエチレンオキシド製品として夫き出
した。
表−2にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。
る。
■
(発明の効果)
本発明の方法によれば、エチレンオキシド精留塔頂部で
発生したエチレンオキシド蒸気をエチレンオキシド凝縮
器を兼ねたヒートポンプの冷媒蒸発器へ送り、エチレン
オキシド蒸気を液化し、ヒートポンプの冷媒蒸発器(エ
チレンオキシド凝縮器)で熱交換し蒸発した冷媒は、冷
媒圧縮機に送られ圧縮した後、ヒートポンプの冷媒凝縮
器を兼ねたエチレンオキシド精留塔リボイラーへ送り凝
縮した冷媒はヒートポンプの冷媒蒸発器(エチレンオキ
シド凝縮器)に循環される。この循環される冷媒はエチ
レンオキシド精留塔の加熱器に十分使用することができ
る。
発生したエチレンオキシド蒸気をエチレンオキシド凝縮
器を兼ねたヒートポンプの冷媒蒸発器へ送り、エチレン
オキシド蒸気を液化し、ヒートポンプの冷媒蒸発器(エ
チレンオキシド凝縮器)で熱交換し蒸発した冷媒は、冷
媒圧縮機に送られ圧縮した後、ヒートポンプの冷媒凝縮
器を兼ねたエチレンオキシド精留塔リボイラーへ送り凝
縮した冷媒はヒートポンプの冷媒蒸発器(エチレンオキ
シド凝縮器)に循環される。この循環される冷媒はエチ
レンオキシド精留塔の加熱器に十分使用することができ
る。
特にエチレンオキシド精留塔で発生した蒸気の熱エネル
ギーをエチレンオキシド精留塔リボイラーに導入するこ
とにより、エチレンオキシド精留塔を加熱するに要する
外部からの加熱熱量を大幅に減少することが可能となる
効果を発揮するものである。さらにこの方法を実m す
ることによってエチレンオキシドの精留塔頂部で発生し
た蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低減される効果を
有するものである。
ギーをエチレンオキシド精留塔リボイラーに導入するこ
とにより、エチレンオキシド精留塔を加熱するに要する
外部からの加熱熱量を大幅に減少することが可能となる
効果を発揮するものである。さらにこの方法を実m す
ることによってエチレンオキシドの精留塔頂部で発生し
た蒸気相を冷却する冷却水の熱負荷が低減される効果を
有するものである。
図−1は、本発明のエチレンオキシド精留方法の好まし
い具体例を示す一例である。 図−2は、本発明に関連する公知のエチレンキシド精留
方法を示す一例である。 ′1丁 (2) エチレンオキシド吸収塔 (6) 熱交換器
1(8) 気液分離タンク (11) エチレンオキシド放散塔 (12) エチレンオキシド放散塔加熱器(24)
エチレンオキシド放散塔凝縮器(29) エチレン
オキシド脱水塔 (30) エチレンオキシド脱水塔加熱器(34)
エチレンオキシド脱水塔凝縮器(40) エチレン
オキシド軽質分分離塔(41) エチレンオキシド軽
質分分離塔加熱器(44) エチレンオキシド軽質分
分離塔凝縮器 8(50) ■ヂレンオキシ
ド精留塔 (51) エチレンオキシド精留塔加熱器(54)
エチレンオキシド精留塔凝縮器(60) エチレン
オキシド精留塔加熱器(70) エチレンオキシド精
留塔凝縮器(75) 冷媒圧縮機
い具体例を示す一例である。 図−2は、本発明に関連する公知のエチレンキシド精留
方法を示す一例である。 ′1丁 (2) エチレンオキシド吸収塔 (6) 熱交換器
1(8) 気液分離タンク (11) エチレンオキシド放散塔 (12) エチレンオキシド放散塔加熱器(24)
エチレンオキシド放散塔凝縮器(29) エチレン
オキシド脱水塔 (30) エチレンオキシド脱水塔加熱器(34)
エチレンオキシド脱水塔凝縮器(40) エチレン
オキシド軽質分分離塔(41) エチレンオキシド軽
質分分離塔加熱器(44) エチレンオキシド軽質分
分離塔凝縮器 8(50) ■ヂレンオキシ
ド精留塔 (51) エチレンオキシド精留塔加熱器(54)
エチレンオキシド精留塔凝縮器(60) エチレン
オキシド精留塔加熱器(70) エチレンオキシド精
留塔凝縮器(75) 冷媒圧縮機
Claims (1)
- (1)エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
と接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有す
る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収
液と向流接触させ、吸収塔頂部よりのガスはエチレン酸
化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収塔底
液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、放散塔頂からエ
チレンオキシドを放散せしめ、エチレンオキシドおよび
水を含む留出物を凝縮させ、脱水塔で水分を分離し、軽
質分分離塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド
精留塔でエチレンオキシドを精留する工程において、エ
チレンオキシド精留塔のエチレンオキシド蒸気を、エチ
レンオキシド凝縮器へ送り、エチレンオキシドを液化し
、液の一部はエチレンオキシド精留塔へ還流し、液の他
部は精製エチレンオキシドとして抜き出し、エチレンオ
キシド凝縮器で熱交換し、蒸発した冷媒はヒートポンプ
の冷媒圧縮機に送られ圧縮した後、エチレンオキシド精
留塔の加熱器へ送り、加熱器とした後、エチレンオキシ
ド凝縮器に循環することを特徴とするエチレンオキシド
の精留方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60150002A JPS6212770A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | エチレンオキシドの精留方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60150002A JPS6212770A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | エチレンオキシドの精留方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6212770A true JPS6212770A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15487319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60150002A Pending JPS6212770A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | エチレンオキシドの精留方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6212770A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8053586B2 (en) | 2008-07-31 | 2011-11-08 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide recovery systems |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP60150002A patent/JPS6212770A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8053586B2 (en) | 2008-07-31 | 2011-11-08 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide recovery systems |
US8129551B2 (en) | 2008-07-31 | 2012-03-06 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide recovery systems |
US8183400B2 (en) | 2008-07-31 | 2012-05-22 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide recovery systems |
US8257558B2 (en) | 2008-07-31 | 2012-09-04 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide purification systems |
US8476464B2 (en) | 2008-07-31 | 2013-07-02 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide purification systems |
US8845863B2 (en) | 2008-07-31 | 2014-09-30 | Dow Technology Investments Llc | Alkylene oxide purification processes and systems |
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