JPS62126536A

JPS62126536A - イオン注入装置用制御装置

Info

Publication number: JPS62126536A
Application number: JP26657885A
Authority: JP
Inventors: Soji Nishimura; 荘治西村; Yoshihiko Tanigawa; 谷川　善彦; Masayo Harada; 原田　正世; Masaaki Sasaki; 正昭佐々木
Original assignee: Nissin Electric Co Ltd
Current assignee: Nissin Electric Co Ltd
Priority date: 1985-11-27
Filing date: 1985-11-27
Publication date: 1987-06-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野この発明はイオン注入装置の制御に使用されるイオン注
入装置用制御装置に関するものである。

従来の技術第４図は、従来の大電流型イオン注入装置およびこの大
電流型イオン注入装置を制御するイオン注入装置用制御
装置の構成を示すブロック図である。大電流型イオン注
入装置は、イオン電流が数ｍＡ−１０ｍＡ程度である。

大電流型イオン注入装置は、大きく分ければイオンを発
生するイオン源１と、イオン源１から引き出されたイオ
ンビーム２から必要なイオン種を選択するＩＲ量分析器
３と、この質量分析器３から出たイオンビーム２を加速
する加速管４と、加速上；４を出たイオンビーム２をウ
ェハ５に当ててイオン注入を行うエンドステーション６
とで構成され、これらの内部は真空となっている。イオ
ン源１には、ガスを供給するガスボックス７と各種電圧
、電流を供給するイオン源電源８と、イオンビーム２を
引き出すための引き出し電ｔＡ９が付属し、質量分析器
３には、質量分析マグネット（図示せず）に給電するた
めの分析マグネット電源１０が付属し、加速管４には、
加速電源１１が付属している。

イオン源１は、例えば固体オーブン付属の熱陰極ＰＩＧ
型であって、フィラメント（図示せず）とアーク電極（
図示せず）とソースマグネット（図示せず）とを有し、
イオン源電源（フィラメント電源、アーク電源、ソース
マグネット電源。

オーブン電源等）８からフィラメント（図示せず）。

アーク電極（図示せず）、ソースマグネット（図示せず
）等にそれぞれ給電されることにより、ガスボックス７
からアークチャンバに供給されるガスをイオン化する。

具体的には、フィラメントからの熱電子放出をトリガと
してアーク放電を行うことによりプラズマを作る。そし
て、引き出し電ｆＡ９から供給される３０ＫＶ〜４０Ｋ
Ｖの電圧によってスリット状のイオン引き出し口１ａか
らイオンビーム２を引き出す。このイオン源１は、イオ
ン源物質として、ガスだけでなく、固体（Ａｓ。

ｐ、ｓｂ等）の使用も可能であり、固体を使用する場合
には、固体のイオン源物質を固体オーブンで蒸発させて
アークチャンバに導くとともに、ガスボックス７からキ
ャリアガス（Ａｒ等）をアークチャンバに導き、固体イ
オン物質をイオン化する。

ガスボックス７は、上記したイオン源１に接続され、例
えば４個のガスボトル（例えばＡｒ。

ＳｉＦ４．ＢＣｌ３．ＰＣｌ等）を内蔵し、必要なイオ
ン種に対応していずれかの種類のガスを選択的にイオン
源１へ供給する。

質量分析器３は、分析マグネット電源ｌＯから９０度偏
向の質量分析マグネットに給電され、イオン源１から引
き出されたイオンビーム２の中から必要なイオン種を選
択するとともに、質量分析マグネットの磁気集束作用を
利用してイオンと一部２を分析スリット３ａに絞り込ん
で加速管４へ導く、この質量分析器３が必要であるのは
、以下の理由によるためである。イオン源１から引き出
されるイオンの中には不要イオンが混在する場合が多い
。例えばボロンイオンを引き出す場合、ＢＦ３ガスを使
用するが、この場合、必要なポロンイオンの他にＦ”　
、ＢＦ”　、ＢＦ２“　などの不要イオンが生じ、これ
らの不要イオンがウェハ５に注入されると具合が悪いた
めである。

上記質量分析器３は、質量分析マグネットに供給する電
流を調整することにより、必要なボロンイオンが真空チ
ャンバ中で丁度９０度偏向されて分析マグスソ）３ａに
導びかれ、加速管４に入ることになる。一方、不要イオ
ンは、ポロンイオンとはＷ量が異なるため、質量分析器
３の真空チャンバの側壁に当たってそこで吸収される等
し、分析スリット３ａには達しない。

加速管４は、例えば絶縁物と金属製電極とを多段に接着
した構造で、各電極には加速電源１１から抵抗（図示せ
ず）を通して一定の加速電圧が印加され、イオンビーム
２は前記した引き出し電圧とこの加速電圧とを合わせた
電圧で加速されてエンドステーション６に入ることにな
る。この加速電圧は注入エネルギに応じて設定される。

エンドステーション６は、イオンビーム２を静止させた
ままでディスク１２を移動させるメカニカルスキャン式
である。ウェハ５はディスク１２の円周上に装填され、
ウェハ５全面にイオンビーム２が均一に照射されるよう
に、インダクションモータ１３およびステンピングモー
タ１４によって、ディスク１２が回転しながらビーム領
域を並進運動する。この場合、ディスク１２の回転速度
は一定であるが、並進運動は、ディスク１２の移動速度
がディスク１２の外周部と内周部で異なること、および
ビーム電流の変動にかかわらず、注入量をウェハ５全面
にわたって均一にする必要があることから、一定ではな
（、並進速度を上記の変化に応じて制御する必要がある
。

また、エンドステージコンロは、イオン注入前にウェハ
５をディスク１２に装填し、注入終了後にウェハ５をデ
ィスク１２から取り出す。この際、ウェハ５の装填、取
り出しは、エンドステーション６の一部に設けたエアロ
ツタ（図示せず）を介して行い、エンドステーション６
およびその前段の真空状態は保持するようにしている。

なお、第４図では、説明の都合上ディスク１２を２箇所
に描いているが、実際はエンドステーション６内に１１
固あるのみである。

つぎに、上記した大電流型イオン注入装置を制御するイ
オン注入装置用制御装置について説明する。このイオン
注入装置用制御装置中のエンドステーションコントロー
ラ１５．用役コントローラ１６、マンマシンコントロー
ラ１７．インタフェースユニット１８．注入コントロー
ラ１９．加速コントローラ２０．マスコントローラ２１
は、それぞれＣＰ［Ｊ　（中央処理装置）を備えている
。

マンマシンコントローラ１７は、ＣＰＵ　（中央処理装
置）、キーボード、ＣＲＴおよびフロッピディスク等を
備えており、これらによって種々の制御条件のデータ（
加速エネルギ、ビーム量、ドーズ量、イオン種、ウェハ
サイズ等）を設定し、また後述の各コントローラ１５．
１６，１９．２０゜２１からの監視データをインタフェ
ースユニット１８を通して読み込み、状態表示を行う。

用役コントローラ１６は、真空系の制御および装置の状
態監視を行うもので、真空計２２．バルブ２３．引出系
やビームラインのための真空ポンプ２４．その他すミン
トスイッチなどが接続され、マンマシンコントローラ１
７からの指令に応して真空ポンプ２４やバルブ２３のシ
ーケンス制御を行うとともに、真空度のデータおよびそ
の他各種用役の状態監視を行い、各監視データをインタ
フェースユニット１８に送る。

イオン源コントローラ２４は、イオン源ｌにおけるプラ
ズマ発生のコントローラで、イオンｉ９１のパラメータ
（フィラメント電圧、アーク電圧。

ソースマグネット電流等）を、マンマシンコントローラ
１７からの指示に基づいて変化させるようになっており
、オペレータがマンマシンコントローラ１７と対話しな
がらイオンビーム２を発生させる。

ガスセレクトコントローラ２６はマンマシンコントロー
ラ１７からの指示に基づいてイオン源１におけるプラズ
マ発生のためのガス試料選択を行う。

マスコントローラ２１はマンマシンコントローラ１７に
よって設定されたマス値のイオンビーム２を得ることが
できるように質量分析器３に与える分析マグネット電流
の調整を行う。

具体的には、マス値に応じて質量分析器３に与える分析
マグネット電流を設定し、引き出し電圧コントローラ２
５によって設定した引き出し電圧と上記分析マグネット
電流とから演算したマス値を引き出し電圧コントローラ
２５に表示させるとともにマンマシンコントローラ１７
へ送る。ナオ、この際、マスコントローラ２１は、分析
マグネット電流をビーム電流が最大となるように制御し
て必要なイオンが常に分析スリン）３ａに達するように
する。

加速コントローラ２０は、マンマシンコントローラ１７
から与えられた加速エネルギに応じて加速電圧を設定す
る。

注入コントローラ１９は、マンマシンコントローラ１７
からインタフェースユニット１８を通して与えられるド
ーズ量、ウェハサイズ等の制御条件のデータをもとにし
てディスク１２の並進運動をステッピングモータドライ
バ２６を経由して制御することによりウェハ５全面に均
一にイオン注入がなされるようにし、かつビーム電流を
変換層２７でデジタル変換したものを入力して、ビーム
電流を積分し、この積分値がウェハサイズおよびドーズ
量によって決まる値に達したときにイオン注入を停止さ
せる。

エンドステーションコントローラ１５は、ウェハハンド
リングの制御を行うもので、１クリえばエアロツクの真
空度を測定する真空計２８．光センサ２８′からの信号
をもとに真空ポンプ２９．バルブ３０等の制御を行う。

なお、このエンドステーションコントローラ１５と、用
役コントローラ１６と注入コントローラ１９とは相互に
インタロツクがかけられている。

テレメータ３１は、大地側と高電圧部３２と間のデータ
の送受信を行うもので、大地側ユニットと高電圧部側ユ
ニットとは光ファイバ等で接続している。

第５図は、従来の中電流型イオン注入装置およびこの中
電流型イオン注入装置を制御するイオン注入装置用制御
装置の構成を示すブロック図である。

中電流型イオン注入装置は、イオン電流が１ｍＡ程度で
あり、Ｑレンズ３４によってイオンビーム２を集束さセ
、走査電極３５によってイオンビーム２を走査すること
によって注入室３６内のウェハ３７の全面にイオンビー
ム２をスキャン照射する。この場合、ウェハ３７へのイ
オン注入は、ウェハ３７を固定して行い、かつ１枚ずつ
順次行うことになる。したがって、エンドステーション
３８は、第４図のものとは構造が異なる。

Ｑレンズ３４にはＱレンズ電源３９が設けられ、走査電
極３５には走査電源４０が設けられている。

その他の構成は大電流型イオン注入装置と同様である。

一方、イオン注入装置用制御装置は、集束・走査コント
ローラ４１と、モードファラディ４２とが追加され、注
入コントローラ１９とインタフェースユニノ）１Ｂとが
なくなって、その機能の一部がマンマシンコントローラ
１７に組込まれたこと以外は、大電流用のものと同様で
ある。

モードファラディ４２は、マンマシンコントローラ１７
からの指示に応じて注入モードを選択するもので、スキ
ャンビームモードがスポットビームモードかを選択する
。スキャンビームモードは、通常の注入モードで、スポ
ットモードはイオンビーム２の調整を行うモードである
。

集束・走査コントローラ４１は、スポットモード時にお
いて、集束電圧および走査電圧を変化させてビームスポ
ットの大きさおよびビーム走査幅を調整する。

上記したように、イオン注入装置用制御装置は、キーボ
ードおよびＣＲＴを入出力機器として有する１台のマン
マシンコントローラと、イオン注入装置に設けられる測
定器および被制御機器等を入出力機器として有する複数
の系統制御用コントローラ（用役コントローラ、エンド
ステーションコントローラ等）とで構成されている。・
そして、マンマシンコントローラは、キーボードによっ
て設定された制御条件のデータを取り込んで複数の系統
制御用コントローラに送り、複数の系統？ｌ１１１　御
コントローラは、マンマシンコントローラから送られた
制御条件のデータに基づき、イオン注入のための複数系
統の制御を複数の系統制御用コントローラが局部的に分
散して行い、複数の系統制御用コントローラが各系統の
監視データをマンマシンコントローラへ送り、゛７ンマ
シンコントローラがこの監視データをＣＲＴ上に表示さ
せるようになっている。

したがって、オペレータは、マンマシンコントローラの
キーボードおよびＣＲＴによってイオン注入装置の状態
監視および制御条件の設定を１個所で集中的に行うこと
ができる。

ところが、このような従来のイオン注入装置用制御装置
は、マンマシンコントローラが１台しがなかったため、
つぎのような問題があった。

このイオン注入装置は、通常全体がケースに収容され、
このケースを、クリーンルームと機械室との間の壁を貫
通してエンドステーション側かクリーンルームに面し、
イオン源側が機械室に面するように配置される。マンマ
シンコントローラは、通常クリーンルーム側に配置され
、クリーンルーム内のオペレータによって操作、監視が
行われる。

例えばイオン注入装置に異常が発生した場合、その修理
は機械室の人が行わねばならないが、機械室の人はマン
マシンコントローラのＣＲＴ画面を直接見ることができ
ず、また制御操作を行うこともできないため、クリーン
ルーム内のオペレータと常時無線機等によって連絡をと
ってチェックを行いながら修理を行わねばならず、修理
にきわめて時間を要することになる。

また、防塵、ロボット化に対応するために、クリーンル
ームにはできるだけ、人が入らないことが望ましいが、
クリーンルーム内にマンマシンコントローラを設定する
必要があり、これには十分に対応できない。

また、マンマシンコントローラが１台であるため、これ
が故障すると、イオン注入装置は制御不能となり、信頼
性が低い。

このような諸問題を解決する目的で、マンマシンコント
ローラを２台備えるイオン注入装置用制御装置が提案さ
れている。

このイオン注入装置用制御装置は、第６図に示ｔ、にう
に、２台のマンマシンコントローラ５１゜５２と３台の
系統制御用コントローラ５３〜５５とをシリアル伝送路
５６によりマルチポート接続方式で接続している。

マンマシンコントローラ５１．５２は、キーボード５７
．５８．ＣＲＴ５９．６０をそれぞれ有し、一方のマン
マシンコントローラ５１はホストコンピュータからの指
令によってオンライン制御を行えるようになっている。

系統制御用コントローラ（ビーム系統）５３は、第４図
におけるイオン訓電ｉ！ｉｉ！８．ガスボックス７゜引
き出し電源９１分析マグネット電源１０．加速電源１１
．ステッピングモータ１４等のビーム系統を制御する。

系統制御用コントローラ（用役系統）５４は、第４図に
おけるバルブ２３．真空ポンプ２４等の真空系やその他
の用役の制御を行う。

系統制御用コントローラ（エンドステーション系統）５
５は、第４図におけるエンドステーションのウェハハン
ドリングの制御を行う。

このように、マンマシンコントローラ５１．５２を２台
設けると、つぎのような利点がある。

すなわち、イオン注入装置は、通常全体がケースに収容
され、このケースを、クリーンルームと機械室との間の
壁を貫通してエンドスジ−ジョン側がクリーンルームに
面し、イオン源側が機械室に面するように配置され、一
方のマンマシンコントローラ５１はクリーンルームに配
置され、他方のマンマシンコントローラ５２は機械室に
配置される。

このように、クリーンルームと機械室の両方にマンマシ
ンコントローラ５１．５２をそれぞれ配置すると、例え
ばイオン注入装置に異常が発生した場合、機械室の人が
直接マンマシンコントローラ５２のＣＲＴ６０を見なが
ら、また直接キーボード５８を操作しながら修理を行う
ことができ、修理を短時間に行うことができる。

また、防塵、ロボット化に対応するために、一方のマン
マシンコントローラ５１をクリーンルームに配置し、他
方のマンマシンコントローラ５２をクリーンルームとは
別のオペレータルームに配置して、大部分の監視、制御
条件の設定をオペレータルームで行うことにより、クリ
ーンルームに人が入るのを極力少くでき、防塵、ロボッ
ト化が容易である。

また、マンマシンコントローラ５１．５２が２台である
ため、１台が故障しても残りで制御を続行でき、信頼性
が高い。

また、２台のマンマシンコントローラ５１．５２を近接
配置して、各ＣＲＴ５９．６０に異なるデータを表示さ
せるようにすれば、表示容量を増加させることができる
。

発明が解決しようとする問題点このようなイオン注入装置用制御装置（第６図）は、２
台のマンマシンコントローラ５１．５２と３台の系統制
御用コントローラ５３〜５５とをマルチボート接続方式
で接続しているため、伝送路５６を構成するケーブル数
が多くなり、配線が困難になり、また、マンマシンコン
トローラ５１゜５２や系統制御用コントローラ５３〜５
５の数が変わると、それらの伝送部の構成を変更しなけ
ればならず、システムの拡張や変更が容易でなかった。

この発明の目的は、システムの拡張や変更を容易に行う
ことができるイオン注入装置用制御装置を提供すること
である。

問題点を解決するための手段この発明のイオン注入装置用制御装置は、１゛オン注入
のための複数系統の制御を与えられた制御条件に基づい
てそれぞれ局部的に分散して行うとともに複数系統の監
視データをそれぞれ取り込んで出力する複数の系統制御
用コントローラと、前記複数の系統制御用コントローラ
に対する制御条件を設定して前記複数の系統制御用コン
トローラに与えるとともに前記複数の系統制御用コント
ローラから出力された監視データを取り込んで表示する
複数のマンマシンコントローラと、前記複数の系統制御
用コントローラと前記複数のマンマシンコントローラに
それぞれ接続された複数の伝送部と、前記複数の伝送部
をループ状に接続する伝送路とを備えている。

作用この発明の構成によれば、複数のマンマシンコントロー
ラと複数の系統制御用コントローラとを複数の伝送部を
介して伝送路でループ状に接続しているため、伝送路を
構成するケーブル数がマンマシンコントローラおよび系
統制御用コントローラの総数と同じで少くすむ。なお、
システムの拡張や変更を行う際にも伝送部の構成は変更
しないため、システムの拡張や変更を容易に行うことが
できる。

また、マンマシンコントローラを複数設けて、各々で複
数の系統制御用コントローラに対し、制御条件設定を行
ったり、監視データの表示を行なえるため、信頼性を高
めることができる。

実施例この発明の一実施例を第１図ないし第３図に基づいて説
明する。このイオン注入装置用制御装置は、第１図に示
すように、イオン注入のための複数系統の制御を与えら
れた制御条件に基づいてそれぞれ局部的に分散して行う
とともに複数系統の監視データをそれぞれ取り込んで出
力する複数の系統制御用コントローラ６１〜６３と、前
記複数の系統制御用コントローラ６１〜６３に対するＨ
ｉｌ＋御条件を設定して前記複数の系統制御用コントロ
ーラ６１〜６３に与えるとともに前記複数の系統制御用
コントローラ６１〜６３から出力された監視データを取
り込んで表示する複数のマンマシンコントローラ６４．
６５と、前記複数の系統制御用コントローラ６１〜６３
と前記複数のマンマシンコントローラ６４．６５にそれ
ぞれ接続された複数の伝送部６６〜７０と、前記複数の
伝送部６６〜７０をループ状に接続する光ファイバなど
の伝送路７１とを備えている。この場合、マンマシンコ
ントローラ６４．６５と系統制御用コントローラ６１〜
６３との間の情報の伝送は伝送部６６〜７０および伝送
路７１を通して行われる。

このイオン注入装置用制御装置は、２台のマンマシンコ
ントローラ６４．６５と３台の系統制御用コントローラ
（ビーム系統、用役系統、エンドステーション系統）６
１〜６３を中心とする５（固のサブシステムに分けて考
えることができる。

用役系統の系統制御用コントローラ６３には、真空計や
各種リミットスイッチなどの測定器７２や、バルブ７３
、引き出し系やビームラインのための真空ポンプ７４等
が接続されている。この系統制御用コントローラ６３に
より、イオン注入装置の真空ポンプやバルブのシーケン
ス制御および電源や各種用役の状態監視を行う。この実
施例の制御装置は、自動と手動のモードを備えており、
自動時には、この系統制御用コントローラ６３のみでシ
ーケンス制御を行うことができ、手動時には、マンマシ
ンコントローラ６４．６５からこの系統制御用コントロ
ーラ６３を経由してイオン注入装置を制御することがで
きる。イオン注入装置の状態は、適当なタイミングで伝
送路７１上に乗せられ、他の系統制御用コントローラ６
１．６２゜マンマシンコントローラ６４．６５がこれを
読み込む。

エンドステーション系統の系統制御用コントローラ６２
には、ウェハハンドリングのための光センサ７ｓ、ｙ、
空ポンプ７６、バルブ７７およびモータ７８等が接続さ
れている。この系統制御用コントローラ６２によりウェ
ハのハンドリングを制御する。自動時には、この系統制
御用コントローラ６２のみで制御を行うことができる。

この場合、系統制御用コントローラ６３からの情報によ
りタイミングを決定する０手動時には、マンマシンコン
トローラ６４．６５からこの系統制御用コントローラ６
２を経由してウェハのハンドリングを制御することがで
きる。イオン注入装置の状！３（例えば、ウェハの処理
状況等）は、適当なタイミングで伝送路７１上に乗せら
れ、他のコントローラ（主としてマンマシンコントロー
ラ６４．６５）がこれを読み込む。

ビーム系統の系統制御用コントローラ６６には、テレメ
ータ７９や真空計等の測定器８１等が接続されている。

テレメータ７９には、イオン源電源。

引き出し電源１分析マグネット電源、加速電源等の各種
の電源８０が接続されている。なお、中電流型イオン注
入装置に対しては、電源８０にはＱレンズ電源および走
査電源が含まれている。この系統制御用コントローラ６
１により、測定器のデータの読み込み、電源のパラメー
タの読込み、電源のパラメータ制御を行う信号の出力等
が行われる。読み込まれたデータは、伝送路７１に乗せ
られてマンマシンコントローラ６４．６５に渡される。

また、パラメータ制御信号はマンマシンコントローラ６
４．６５から送られてくる。

系統制御用コントローラ６１の機能の一部は、大電流型
イオン注入装置のためのものであり、中電流型には必要
はない。系統制御用コントローラ６１には、ウェハディ
スク駆動機構のためのステッピングモータ８３を駆動す
るステッピングモータドライバ８２やビーム電流をＡ／
Ｄ変換する変換器８４が接続されている。この系統制御
用コントローラ６１により、ビーム電流に基づいてウェ
ハの語基されたディスク並進速度の制御が行なわれる。

マンマシンコントローラ６４．６５は、キーボード８５
．８６．ＣＲＴ８７．８Ｂ、　フロッピィディスク等を
備えており、イオン注入条件等の各系統制御用コントロ
ーラ６１〜６３の制御条件の設定等を行う、このように
マンマシンコントローラ６４．６５は、イオン注入装置
運転時の操作卓であり、ＣＲＴ画面上に操作のガイダン
スを表示し、ファンクションキーとテンキーとにより操
作を行う。また、イオン注入装置の状態は系統制御用コ
ントローラ６１〜６３から送られてくるデータを元にし
てＣＲＴ画面上に表示される。自動時には、イオン源の
立ち上げ、ビーム引き出し、ビーム集束等の調整制御の
ための制御信号を伝送路７１上に乗せて系統制御用コン
トローラ６１〜６３に与える。例えばその制御信号に基
づき各電源等に制御信号を与える。さらに、マンマシン
コントローラ６４は、ホストコンピュータとの通信を行
い、外部からの条件設定の読込み、イオン注入装置の処
理情報の送信等を行う。これはユーザ側のＥＤＰのため
のものである。

つぎに、前述したマンマシンコントローラ６４゜６５お
よび制御用コントローラ６１〜６３と伝送部６６〜７０
とについて説明する。

第２図は、コントローラ９ｏおよび伝送部９１を示すブ
ロック図である。コントローラ９０は前述したマンマシ
ンコントローラｓ４．６５．系ａ制御用コントローラ６
１〜６３を一般的に示したものであり、伝送部９１は前
述した伝送部６６〜７０を一般的に示したものである。

コントローラ９０は、互いに接続されたＣＰＵ９０．Ａ
、メモリ９０ＢおよびＩ１０インターフェース９０Ｃを
備える。Ｉ１０インターフェース９０Ｃには、前述した
各種の周辺機器が接続される。伝送部９１は、互いに接
続された受信部９１Ａ１送信部９１Ｂおよびインターフ
ェース部９１Ｃを備える。インターフェース部９１Ｃに
は、前述した伝送部７１が接続されている。

伝送路７１に接続されていて、各々が伝送部９１゜コン
トローラ９０および周辺機器から成るサブシステム局と
呼ぶことができるが、この制御装置においては、親局−
子局（または１次局−２次局、またはマスター局−スレ
ープ局）という考えは無く全局が平等である。

受信部９１Ａは、伝送路７１から情報が送られてきたら
これを取り込み、他局情報（他局が伝送路７１に出力し
た情報）であればこれを送信部９１Ｂへ送ると共に、選
別を行い自局にとって必要であれば選別情報を処理情報
に変換してコントローラ９０に送る。一方送信部９１Ｂ
は、常に受信部９１Ａから送られてくる他局情報および
コントローラ９０からの送信情報を読み取りこれを内部
のメモリにバッファ１）ングしておき、送信タイミング
になるとバッフアリソゲされている送信情報を伝送路７
１へ送信する。

この実施例のイオン注入装置用制御装置は、複数のマン
マシンコントローラ６４．６ｓと複数の系統制御用コン
トローラ６１〜６３とを複数の伝送路６６〜７０を介し
て伝送路７１でループ状に接続するため、伝送路７１を
構成するケーブル数がマンマシンコントローラ６４．６
５および系統制御用コントローラ６１〜６３の総数と同
じで少くすむ。また、システムの拡張や変更を行う際に
も伝送部６６〜７０の構成は変更しないため、システム
の拡張や変更を容易に行うことができる。

また、マンマシンコントローラ６４．６５を２台設けて
いるため、つぎのような利点がある。

すなわち、イオン注入装置は、第３図に示すように、通
常全体がケース１０１に収容され、このケース１０１を
、クリーンルーム１０２と機械室１０３との間の壁１０
４を貫通してエンドステーション側がクリーンルーム１
０２に面し、イオン源側が機械室１０３に面するように
配置され、一方のマンマシンコントローラ６４はクリー
ンルームに配置さし、他方のマンマシンコントローラ６
５は機械室１０３に配置される。

このように、クリーンルーム１０２と機械室１０３の両
方にマンマシンコントローラ６４．６５をそれぞれ配置
すると、例えばイオン注入装置に異常が発生した場合、
機械室１０３の人が直接マンマシンコントローラ６５の
ＣＲＴ８８ｔ−見ながら、また直接キーボード８６を操
作しながら修理を行うことができ、修理を短時間に行う
ことができる。なお、第３図において、１０５はイオン
源、１０６は質量分析器、１０７はエンドステーション
、１０８はハンドリング装置である。伝送路７１は天井
、床等を通る。

また、防塵、ロボット化に対応するために、一方のマン
マシンコントローラ６４をクリーンルームに配置し、他
方のマンマシンコントローラ６５をクリーンルームとは
別のオペレータルームに配置して、大部分の監視、制御
をオペレータルームで行うことにより、クリーンルーム
に人が入るのを極力少くでき、防塵、ロボット化が容易
である。

また、マンマシンコントローラ６４．６５が２台あるた
め、１台が故障しても残りで制御を続行でき、信頼性が
高い。

また、２台のマンマシンコントローラ６４．６５を近接
配置して、各ＣＲＴ８７．８８に異なる監視データを表
示させるようにすれば、表示容量を増加させることがで
きる。

発明の効果この発明のイオン注入装置用制御装置によれば、複数の
マンマシンコントローラと複数の系統制御用コントロー
ラとを複数の伝送部を介して伝送路でループ状に接続し
ているため、伝送路を構成するケーブル数がマンマシン
コントローラおよび系統制御用コントローラの総数と同
じで少くすむといった効果を奏する。なお、システムの
拡張や変更を行う際にも伝送部の構成は変更しないため
、システムの拡張や変更を容易に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図、
第２図は第１図の要部の詳細なブロック図、第３図はイ
オン注入装置の設置状態を示す概略図、第４図は従来の
大電流型イオン注入装置およびその制御装置の構成図、
第５図は従来の中電流型イオン注入装置およびその制御
装置の構成図、第６図はイオン注入装置用制御装置の提
案例の構成を示すブロック図である。６１〜６３・・・系統制御用コントローラ、６４゜６５
・・・マンマシンコントローラ、６６〜７ｏ・・・伝送
部、７１・・・伝送路；で；「シ・特許出願人　　日新電機株式会社゛仝こ、：１７゛ン１
−．“− 代　理　人　　弁理士　官井暎夫Ｅレー第２図ホストコンピュータ第３図第６図手続主甫正書（自頒昭和６１年０３月１０日

Claims

【特許請求の範囲】

イオン注入のための複数系統の制御を与えられた制御条
件に基づいてそれぞれ局部的に分散して行うとともに複
数系統の監視データをそれぞれ取り込んで出力する複数
の系統制御用コントローラと、前記複数の系統制御用コ
ントローラに対する制御条件を設定して前記複数の系統
制御用コントローラに与えるとともに前記複数の系統制
御用コントローラから出力された監視データを取り込ん
で表示する複数のマンマシンコントローラと、前記複数
の系統制御用コントローラと前記複数のマンマシンコン
トローラにそれぞれ接続された複数の伝送部と、前記複
数の伝送部をループ状に接続する伝送路とを備えたイオ
ン注入装置用制御装置。